LDI光学引擎和无掩膜光刻系统技术方案

本实用新型专利技术公开一种LDI光学引擎和无掩膜光刻系统，LDI光学引擎包括匀光棒、光源和DMD模块，光源的出光端与匀光棒的入射端对应设置；DMD模块与自从匀光棒的出射端投射至DMD模块的入射光线呈夹角设置；匀光棒设置为四棱柱，四棱柱的截面为非矩形，以具有四个周侧面，每相邻的两个周侧面之间形成的夹角为钝角或是锐角，以将经匀光棒的图像光斑反向补偿，使得投射至DMD模块受光面的投影光斑形状为矩形。通过将匀光棒设置为截面为非矩形的四棱柱的形状，将平行四边形的光斑在以一定的角度投射至所述DMD模块的受光面时，被补偿为矩形，达到所需的矩形光斑，使得光斑形状规整，均匀，以解决现有的LDI光学引擎中DMD模块的部分存在光斑余量较少甚至缺失的问题。光斑余量较少甚至缺失的问题。光斑余量较少甚至缺失的问题。

【技术实现步骤摘要】
LDI光学引擎和无掩膜光刻系统


[0001]本技术涉及光刻
，尤其涉及LDI光学引擎和无掩膜光刻系统。

技术介绍

[0002]随着目前国内微纳加工行业的不断发展，对于无掩膜紫外光刻系统的需求也在不断增加，这种类型系统无需菲林，更高效，满足PCB行业全线需求。无掩膜紫外光刻系统包括了LDI光学引擎以及LDI光刻物镜，其中LDI光学引擎中所使用的匀光器件包括光棒以及复眼。
[0003]在某些使用光棒的照明系统中，光线经过矩形光棒在系统中经过反射镜以某种特殊角度入射到DMD表面，因矩形的光斑在特殊角度入射到DMD表面时，会变形为平行四边形光斑，如图1所示，如此会带来在DMD某些部分存在光斑余量较少甚至缺失的风险，从而大大提高了DMD的装调对准要求甚至降低曝光面均匀性。

技术实现思路

[0004]本技术的主要目的是提出一种LDI光学引擎和无掩膜光刻系统，旨在解决现有的LDI光学引擎中DMD模块的部分存在光斑余量较少甚至缺失的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提出的一种LDI光学引擎，其中所述LDI光学引擎包括：本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种LDI光学引擎，其特征在于，包括：匀光棒，具有入射端和出射端；光源，所述光源的出光端与所述匀光棒的入射端对应设置；以及，DMD模块，用于接收自所述匀光棒的出射端投射的光线，且所述DMD模块的受光面设置为与接收的光线的投射方向呈夹角；其中，所述匀光棒设置为四棱柱，所述匀光棒的顶面设置为所述入射端，所述匀光棒的底面设置为所述出射端，所述匀光棒具有四个周侧面，且每相邻的两个所述周侧面之间形成的夹角为钝角或是锐角，以使得投射至所述DMD模块的投影光斑形状为矩形。2.如权利要求1所述的LDI光学引擎，其特征在于，所述四个周侧面中形成锐角的相邻的两个周侧面之间的夹角为θ，其中，85
°
≤θ＜90
°
。3.如权利要求2所述的LDI光学引擎，其特征在于，所述匀光棒的底面或顶面的两个边长的长度分别为a和b，其中，2.5mm≤a≤4mm，0.6mm≤b≤2.5mm。4.如权利要求1所述的LDI光学引擎，其特征在于，所述匀光棒的长度为D，其中，70mm≤D≤90mm。5.如权利要求1所述的LDI光学引擎，其特征在于，所述匀光棒的材质为JGS1熔石英玻璃。6.如权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：樊凯，朱红伟，邱盛平，
申请(专利权)人：成都联江科技有限公司，
类型：新型
国别省市：