【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】至C4烷基或卤素取代;
[0016]‑
A独立地选自C6至C
30
芳基,
[0017]‑
其中每个A可被一个或两个独立地选自下列中的取代基取代:C6至C
12
芳基,C1至C6烷基,D,C1至C6烷氧基,C3至C6支链烷基,C3至C6环状烷基,C3至C6支链烷氧基,C3至C6环状烷氧基,部分氟化或全氟化的C1至C6烷基,部分氟化或全氟化的C1至C6烷氧基,部分氘化或全氘化的C1至C6烷基,部分氘化或全氘化的C1至C6烷氧基,卤素,CN,或PY(R
10
)2;其中Y选自O,S或Se,优选O,并且R
10
独立地选自C6至C
12
芳基,C3至C
12
杂芳基,C1至C6烷基,C1至C6烷氧基,部分氟化或全氟化的C1至C6烷基,部分氟化或全氟化的C1至C6烷氧基,部分氘化或全氘化的C1至C6烷基,部分氘化或全氘化的C1至C6烷氧基;
[0018]‑
其中A上的每个C6至C
12
芳基取代基可被C1至C4烷基或卤素取代;
[0019]‑
X独立地选自C2至C
42
杂芳基和C6至C
60
芳基,
[0020]‑
其中每个X可被一个或两个独立地选自下列中的取代基取代:C6至C
12
芳基,C3至C
11
杂芳基,C1至C6烷基,D,C1至C6烷氧基,C3至C6支链烷基,C3至C6环状烷基,C3至C6支链烷氧基, ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种有机发光二极管,所述有机发光二极管包含:基底、阳极、阴极、第一发光层、电子注入层、和第二电子传输层叠层结构,其中所述第二电子传输层叠层结构布置在所述第一发光层和所述电子注入层之间;其中
‑
所述第一电子传输层叠层结构和所述第二电子传输层叠层结构中的至少一个独立地包含第一电子传输层和第二电子传输层;
‑
所述第一电子传输层包含式(I)的化合物(Ar1‑
A
c
)
a
‑
X
b
ꢀꢀꢀꢀ
(I);
‑
a和b独立地为1或2;
‑
c独立地为0或1;
‑
Ar1独立地选自C6至C
60
芳基或C2至C
42
杂芳基,
‑
其中每个Ar1可被一个或两个独立地选自下列中的取代基取代:C6至C
12
芳基,C3至C
11
杂芳基,C1至C6烷基,D,C1至C6烷氧基,C3至C6支链烷基,C3至C6环状烷基,C3至C6支链烷氧基,C3至C6环状烷氧基,部分氟化或全氟化的C1至C6烷基,部分氟化或全氟化的C1至C6烷氧基,部分氘化或全氘化的C1至C6烷基,部分氘化或全氘化的C1至C6烷氧基,卤素,CN,或PY(R
10
)2;其中Y选自O,S或Se,优选O,并且R
10
独立地选自C6至C
12
芳基,C3至C
12
杂芳基,C1至C6烷基,C1至C6烷氧基,部分氟化或全氟化的C1至C6烷基,部分氟化或全氟化的C1至C6烷氧基,部分氘化或全氘化的C1至C6烷基,部分氘化或全氘化的C1至C6烷氧基;
‑
其中Ar1上的每个C6至C
12
芳基取代基和Ar1上的每个C3至C
11
杂芳基取代基可被C1至C4烷基或卤素取代;
‑
A独立地选自C6至C
30
芳基,
‑
其中每个A可被一个或两个独立地选自下列中的取代基取代:C6至C
12
芳基,C1至C6烷基,D,C1至C6烷氧基,C3至C6支链烷基,C3至C6环状烷基,C3至C6支链烷氧基,C3至C6环状烷氧基,部分氟化或全氟化的C1至C6烷基,部分氟化或全氟化的C1至C6烷氧基,部分氘化或全氘化的C1至C6烷基,部分氘化或全氘化的C1至C6烷氧基,卤素,CN,或PY(R
10
)2;其中Y选自O,S或Se,优选O,并且R
10
独立地选自C6至C
12
芳基,C3至C
12
杂芳基,C1至C6烷基,C1至C6烷氧基,部分氟化或全氟化的C1至C6烷基,部分氟化或全氟化的C1至C6烷氧基,部分氘化或全氘化的C1至C6烷基,部分氘化或全氘化的C1至C6烷氧基;
‑
其中A上的每个C6至C
12
芳基取代基可被C1至C4烷基或卤素取代;
‑
X独立地选自C2至C
42
杂芳基和C6至C
60
芳基,
‑
其中每个X可被一个或两个独立地选自下列中的取代基取代:C6至C
12
芳基,C3至C
11
杂芳基,C1至C6烷基,D,C1至C6烷氧基,C3至C6支链烷基,C3至C6环状烷基,C3至C6支链烷氧基,C3至C6环状烷氧基,部分氟化或全氟化的C1至C6烷基,部分氟化或全氟化的C1至C6烷氧基,部分氘化或全氘化的C1至C6烷基,部分氘化或全氘化的C1至C6烷氧基,卤素,CN,或PY(R
10
)2;其中Y选自O,S或Se,优选O,并且R
10
独立地选自C6至C
12
芳基,C3至C
12
杂芳基,C1至C6烷基,C1至C6烷氧基,部分氟化或全氟化的C1至C6烷基,部分氟化或全氟化的C1至C6烷氧基,部分氘化或全氘化的C1至C6烷基,部分氘化或全氘化的C1至C6烷氧基;
‑
其中X上的每个C6至C
12
芳基取代基和X上的每个C3至C
11
杂芳基取代基可被C1至C4烷基或卤素取代;
‑
式(I)的化合物的分子偶极矩为≥0D且≤4D;
‑
所述第二电子传输层包含式(II)的化合物(Ar2)
m
‑
(Z
k
‑
G)
n
ꢀꢀꢀꢀ
(II);
‑
m和n独立地为1或2;
‑
k独立地为0,1或2;
‑
Ar2独立地选自C2至C
42
杂芳基和C6至C
60
芳基,
‑
其中每个Ar2可被一个或两个独立地选自下列中的取代基取代:C6至C
12
芳基,C3至C
11
杂芳基,C1至C6烷基,D,C1至C6烷氧基,C3至C6支链烷基,C3至C6环状烷基,C3至C6支链烷氧基,C3至C6环状烷氧基,部分氟化或全氟化的C1至C6烷基,部分氟化或全氟化的C1至C6烷氧基,部分氘化或全氘化的C1至C6烷基,部分氘化或全氘化的C1至C6烷氧基,卤素,CN,或PY(R
10
)2;其中Y选自O,S或Se,优选O,并且R
10
独立地选自C6至C
12
芳基,C3至C
12
杂芳基,C1至C6烷基,C1至C6烷氧基,部分氟化或全氟化的C1至C6烷基,部分氟化或全氟化的C1至C6烷氧基,部分氘化或全氘化的C1至C6烷基,部分氘化或全氘化的C1至C6烷氧基;
‑
其中Ar2上的每个C6至C
12
芳基取代基和Ar2上的每个C3至C
11
杂芳基取代基可被C1至C4烷基或卤素取代;
‑
Z独立地选自C6至C
30
芳基,
‑
其中每个Z可被一个或两个独立地选自下列中的取代基取代:C6至C
12
芳基和C1至C6烷基,D,C...
【专利技术属性】
技术研发人员:马克斯,
申请(专利权)人:诺瓦尔德股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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