一种摄像头滤光片托架制造技术

本实用新型专利技术公开了一种摄像头滤光片托架，包括基材，所述基材的四周通过注塑机注塑有注塑边，所述基材与注塑边形成放置滤光片的托架体，所述基材的正反面分别镀有吸光材料层，正反面所述吸光材料层上分别镀有光学镀层。该托架在真空环境下制备的光学膜层更纯净，膜层与托架的附着力更强，且膜层的硬度更高，不易被刮花、剥落；膜层更薄，有利于摄像头整体模组的精小化。精小化。精小化。

【技术实现步骤摘要】
一种摄像头滤光片托架


[0001]本技术涉及一种产品托架，特别涉及一种摄像头滤光片托架，属于模组组件高端制造


技术介绍

[0002]目前，虽然相机的拍照性能越来越强，但因为相机光学构造上先天的限制，大家在拍照时还是会经历一些画面异常。我们日常所说的“鬼影”、眩光等画面异常，大都是因为摄像头模组件的反光相互干涉造成，所以为了提高摄像头的拍照质量，减少杂散光，摄像头里面内部的滤光片、保护盖板往往都采用镀制了超低反射膜的镜片，即使如此，也很难避免杂散光产生，主要原因是摄像头内部依然有反射较强的部件产生反射干扰，比如各个支撑固定滤光片的托架。
[0003]为了降低滤光片托架的反光问题，传统的滤光片托架上一般具有三种层架构，其上分别是底漆、中漆和面漆。其缺点主要反应在：
[0004](1)油漆层硬度低、附着力差。作为镜头模组内部的结构件，在安装过程中的接触磕碰都会导致油漆剥落，剥落后的滤光片镜架漏出不锈钢底材，依然对成像质量造成很大影响。且通常会对整个模组进行报废处理。
[0005](2)厚度较厚，现在不论手机，数码相机等智能化电子产品都要求组件精小化，喷涂的厚度又都是微米级别，相比真空镀膜纳米级别的膜层，油漆厚度会对整个模组大小的控制造成较大的影响。
[0006](3)反射率高。真空镀制的超低反射膜在可见光即380
‑
780nm波段，反射率可以控制2％以下，而喷涂最好只能将反射率控制在5％，所以并不能根本解决反射光干涉问题。
[0007](4)表面粗糙度高，相比于真空镀膜纳米级别的膜层，喷涂油漆会因为油漆颜料的粒径以及流平等因素影响，导致漆面坑坑洼洼，更容易产生漫反射，使拍摄质量更差。

技术实现思路

[0008]本技术的目的在于，提供一种摄像头滤光片托架，该托架在真空环境下制备的光学膜层更纯净，膜层与托架的附着力更强，且膜层的硬度更高，不易被刮花、剥落；膜层更薄，有利于摄像头整体模组的精小化。
[0009]为实现上述目的，本技术采用的技术方案在于，一种摄像头滤光片托架，包括基材，所述基材的四周通过注塑机注塑有注塑边，所述基材与注塑边形成放置滤光片的托架体，所述基材的正反面分别镀有吸光材料层，正反面所述吸光材料层上分别镀有光学镀层。
[0010]本专利中，吸光材料层可以将可见光380
‑
780nm波段的反射率由40
‑
70％降低至2％以下，让照射在摄像头滤光片托架上的杂光几乎全被吸收，避免鬼影和紫斑的产生。
[0011]作为优选，所述基材为不锈钢，所述吸光材料层镀在基材的不锈钢区域。
[0012]作为优选，所述吸光材料层为高纯Ni层。高纯Ni层为基材上的第一层膜层，所述高
纯Ni不仅硬度高，与摄像头滤光片托架的不锈钢结合之后的附着力更好，而且在整个膜系结构中充当吸光材料。
[0013]作为优选，所述光学镀层以远离高纯Ni层的方向依次设置有第一SiO2层、Nb2O5层和第二SiO2层。所述第二层至所述第四层为光学镀层，主要的作用是增透，将光大部分导入至第一吸光层，使光线被吸收，减少反射。
[0014]作为优选，所述
[0015]第一SiO2层的厚度为40
‑
50nm，
[0016]Nb2O5层的厚度为20
‑
30nm，
[0017]第二SiO2层的厚度为70
‑
80nm。
[0018]作为优选，所述高纯Ni层的厚度为300
‑
400nm。
[0019]作为优选，所以托架体在镀膜前通过九槽超声波进行清洗。采用九槽超声波清洗是为了洗掉摄像头滤光片托架表面的灰尘、颗粒、油渍等脏污，避免膜层因这些脏污问题而脱落。
[0020]作为优选，所述托架体清洗后采用150℃烘烤60min。主要目的是为了去除清洗后的摄像头滤光片托架表面的水汽，增加摄像头滤光片托架表面活性，提高膜层附着力。
[0021]作为优选，所述托架体的镀膜温度为150℃。为了防止摄像头滤光片托架的注塑边因高温变形，镀膜温度采用150℃
±
20℃。
[0022]本技术的有益效果：
[0023](1)采用真空环境下制备的光学膜层更纯净，薄膜和摄像头滤光片托架的附着力更强，且膜层的硬度更高，避免了其表面在装配等过程中造成膜层被刮花，剥落的问题。
[0024](2)膜层更薄，在能有效改善成像质量的前提下，保证摄像头滤光片托架整体厚度，有利于摄像头整体模组的精小化设计。
[0025](3)将摄像头滤光片托架表面在可见光380
‑
780nm波段的反射率由40
‑
70％降低至2％以下，让照射在摄像头滤光片托架的杂光几乎全被吸收，避免鬼影和紫斑的产生。
附图说明
[0026]为了更清楚地说明本技术的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。
[0027]图1为本技术的结构示意图；
[0028]图2为本技术的正面结构示意图；
[0029]图3为本技术的背面结构示意图；
[0030]图4为本技术层结构的分解图；
[0031]图5为现有膜层反射率与本申请膜层发射率的对比图；
[0032]图中：1.基材，2.注塑边，3.托架体，4.高纯Ni层，5.第一SiO2层，6.Nb2O5层，7.第二SiO2层。
具体实施方式
[0033]为了使本
的人员更好地理解本申请中的技术方案，下面将结合实施例对本申请中的技术方案进行清楚、完整地描述。
[0034]在本专利中，所述基材的材质为不锈钢，第一层：Ni为镍，SiO2为二氧化硅，Nb2O5五氧化二铌。S1为基材的正面，S2为基材的背面，箭头方向代表远离高纯Ni层的方向。
[0035]如图1
‑
图4所示，一种摄像头滤光片托架，包括基材1，所述基材1的四周通过注塑机注塑有注塑边2，所述基材1与注塑边2形成放置滤光片的托架体3，所述基材1的正反面分别镀有吸光材料层，正反面所述吸光材料层上分别镀有光学镀层。
[0036]本专利中，基材表面的第一层需要镀制一层高吸收的薄膜材料，即吸光材料层。然后在此高吸收膜料上镀制多层光学增透膜，让光穿透至高吸收膜层上，使光被吸收。
[0037]如图5所示，为现有的摄像头托架和本申请摄像头托架膜层的反射率曲线，本申请的吸光材料层可以将可见光380
‑
780nm波段的反射率由40
‑
70％降低至2％以下，让照射在摄像头滤光片托架上的杂光几乎全被吸收，避免鬼影和紫斑的产生。
[0038]所述基材1为不锈钢，所述吸光材料层镀在基材的不锈钢区域。
[0039]所述吸光材料层为高纯Ni层4。高纯Ni层为基材上的第一层膜层，所述高纯Ni不仅硬度高，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种摄像头滤光片托架，其特征在于，包括基材(1)，所述基材(1)的四周通过注塑机注塑有注塑边(2)，所述基材(1)与注塑边(2)形成放置滤光片的托架体(3)，所述基材(1)的正反面分别镀有吸光材料层，正反面所述吸光材料层上分别镀有光学镀层。2.根据权利要求1所述的摄像头滤光片托架，其特征在于，所述基材(1)为不锈钢，所述吸光材料层镀在基材(1)的不锈钢区域。3.根据权利要求1或2所述的摄像头滤光片托架，其特征在于，所述吸光材料层为高纯Ni层(4)。4.根据权利要求3所述的摄像头滤光片托架，其特征在于，所述光学镀层以远离高纯Ni层(4)的方向依次设置有第一SiO2层(5)、Nb2O5层(6)和第二SiO2层(7)。5.根据权利要求3所述的摄像头滤光片托架，其特征在于，所述第一...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡雪涛，冯洋洋，薛高林，张赛阳，段志伟，
申请(专利权)人：无锡杰程光电有限公司，
类型：新型
国别省市：