有效防止折弯的PI电热膜制造技术

技术编号:36994972 阅读:14 留言:0更新日期:2023-03-25 18:15
本实用新型专利技术涉及电热膜技术领域的有效防止折弯的PI电热膜,包括半导体发热层、基膜片层、导热保护膜层和载流导电体,半导体发热层、导热保护膜层和载流导电体均固定连接在基膜片层的顶端面,载流导电体的顶端面设有复位贴片,复位贴片的内部设有若干条记忆金属条,记忆金属条沿载流导电体的方向进行延伸,记忆金属条的表面设有绝缘包胶层,复位贴片的底部设有附合粘胶层,复位贴片通过附合粘胶层贴合在载流导电体的顶端面,通过电热膜生产的热量将载流导电体的折弯处进行有效复位,使载流导电体的电阻趋于平稳,有效改善电热膜因折弯导致的发热不均匀的问题,适合大范围推广。适合大范围推广。适合大范围推广。

【技术实现步骤摘要】
有效防止折弯的PI电热膜


[0001]本技术涉及电热膜
,具体为有效防止折弯的PI电热膜。

技术介绍

[0002]电热膜分为高温、低温电热膜。高温电热膜一般用于电子电器、军事等,如今科技生产的电热膜。电热膜供暖系统是区别于以散热器、空调、暖气片为代表的点式供暖系统、以发热电缆为代表的线式供暖系统,在面式供暖领域采用现代宇航技术研发的低碳供暖高科技产品,低温电热膜是一种通电后能发热的半透明聚酯薄膜,由可导电的特制油墨、金属载流条经加工、热压在绝缘聚酯薄膜间制成。
[0003]现有的电热膜容易在外部的挤压下对载流导电体进行变形,使载流导电体在折弯处的电阻生产影响,使电热膜的放热效果不均匀,影响电热膜对外部的制热效果。因此,针对这些现状,迫切需要开发一种有效防止折弯的PI电热膜,以满足实际使用的需要。

技术实现思路

[0004]本技术针对的目的是解决以上缺陷,提供有效防止折弯的PI电热膜。
[0005]为了解决上述技术问题,本技术采用如下技术方案:
[0006]有效防止折弯的PI电热膜,包括半导体发热层、基膜片层、导热保护膜层和载流导电体,半导体发热层、导热保护膜层和载流导电体均固定连接在基膜片层的顶端面,载流导电体的顶端面设有复位贴片,复位贴片的内部设有若干条记忆金属条,记忆金属条沿载流导电体的方向进行延伸,记忆金属条的表面设有绝缘包胶层,复位贴片的底部设有附合粘胶层,复位贴片通过附合粘胶层贴合在载流导电体的顶端面。
[0007]上述说明中,作为进一步的方案,半导体发热层由若干条碳钎维放热层构成,若干条碳钎维放热层平整地铺设在基膜片层的表面,相邻两条碳钎维放热层之间保持一致的间距。
[0008]上述说明中,作为进一步的方案,载流导电体包括若干条铜箔载流片和若干条银浆载流片,银浆载流片分别固定连接在基膜片层顶端面的两侧,且银浆载流片与碳钎维放热层之间进行接触,铜箔载流片分别固定连接在银浆载流片的顶端面,铜箔载流片和银浆载流片均与碳钎维放热层之间呈垂直交错分布。
[0009]上述说明中,作为进一步的方案,银浆载流片的中部开设有若干个导电通孔,导电通孔位于相邻两条碳钎维放热层之间的间隙上方。
[0010]上述说明中,作为进一步的方案,基膜片层由PET薄膜构成。
[0011]本技术所产生的有益效果如下:
[0012]本申请的有效防止折弯的PI电热膜通过载流导电体的顶端面设置复位贴片,通过电热膜生产的热量将载流导电体的折弯处进行有效复位,使载流导电体的电阻趋于平稳,有效改善电热膜因折弯导致的发热不均匀的问题,适合大范围推广。
附图说明
[0013]图1为本技术所述一种可防止膜片变形的电热膜的结构分解示意图;
[0014]图2为图1中A的局部放大结构示意图;
[0015]图中:1

碳钎维放热层,2

铜箔载流条,3

银浆载流条,4

基膜片层,5

导热保护膜层,6

复位贴片,301

导电通孔,601

记忆金属条,602

绝缘包胶层,603

附合粘胶层。
具体实施方式
[0016]为了便于本领域技术人员的理解,下面结合实施例与附图对本技术作进一步的说明,实施方式提及的内容并非对本技术的限定。以下结合附图对本技术进行详细的描述。
[0017]请参阅图1

2,其具体实施的有效防止折弯的PI电热膜,包括半导体发热层、基膜片层4、导热保护膜层5和载流导电体,半导体发热层、导热保护膜层5和载流导电体均固定连接在基膜片层4的顶端面,基膜片层4由PET薄膜构成,载流导电体的顶端面设有复位贴片6,复位贴片6的内部设有若干条记忆金属条601,记忆金属条601沿载流导电体的方向进行延伸,记忆金属条601的表面设有绝缘包胶层602,复位贴片6的底部设有附合粘胶层603,复位贴片6通过附合粘胶层603贴合在载流导电体的顶端面。
[0018]半导体发热层由若干条碳钎维放热层1构成,若干条碳钎维放热层1平整地铺设在基膜片层4的表面,相邻两条碳钎维放热层1之间保持一致的间距。
[0019]载流导电体包括若干条铜箔载流片2和若干条银浆载流片3,银浆载流片3分别固定连接在基膜片层4顶端面的两侧,且银浆载流片3与碳钎维放热层1之间进行接触,铜箔载流片2分别固定连接在银浆载流片3的顶端面,铜箔载流片2和银浆载流片3均与碳钎维放热层1之间呈垂直交错分布。
[0020]银浆载流片3的中部开设有若干个导电通孔301,导电通孔301位于相邻两条碳钎维放热层1之间的间隙上方。
[0021]以上所述,仅是本技术较佳实施例而已,并非对本技术作任何形式上的限制,虽然本技术以较佳实施例公开如上,然而并非用以限定本技术,任何熟悉本专业的技术人员,在不脱离本技术技术方案范围内,当利用上述揭示的
技术实现思路
作出些许变更或修饰为等同变化的等效实施例,但凡是未脱离本技术技术方案内容,依据本技术技术是指对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均属于本技术技术方案的范围内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.有效防止折弯的PI电热膜,包括半导体发热层、基膜片层、导热保护膜层和载流导电体,其特征在于:所述半导体发热层、导热保护膜层和载流导电体均固定连接在基膜片层的顶端面,载流导电体的顶端面设有复位贴片,复位贴片的内部设有若干条记忆金属条,记忆金属条沿载流导电体的方向进行延伸,记忆金属条的表面设有绝缘包胶层,复位贴片的底部设有附合粘胶层,复位贴片通过附合粘胶层贴合在载流导电体的顶端面。2.根据权利要求1所述的有效防止折弯的PI电热膜,其特征在于:所述半导体发热层由若干条碳钎维放热层构成,若干条碳钎维放热层平整地铺设在基膜片层的表面,相邻两条碳钎维放热层之间保持一致的间距。3.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员:明承尘
申请(专利权)人:四川普希微新材料技术有限责任公司
类型:新型
国别省市:

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