【技术实现步骤摘要】
一种裸片晶圆及超薄晶圆测试设备
[0001]本技术涉及晶圆测试
,特别是涉及一种裸片晶圆及超薄晶圆测试设备。
技术介绍
[0002]晶圆片在小于200μm之后,晶圆由于厚度的减薄,其本身的的硬度降低,导致易碎,晶圆的翘曲度也会递增,到一定程度后,没有办法达到正常的机台自动上下晶圆测试;当厚度小于150μm时,翘曲程度已经很大(大于2mm)程度,已经无法自动载入,此时需要人工上片测试,由于厚度太薄,人员手动上片时,更加容易碎裂,导致晶圆的损坏。
技术实现思路
[0003]本技术的目的在于,提供一种裸片晶圆及超薄晶圆测试设备,以解决现有技术中超薄晶圆测试过程中无法自动上下片的问题,避免人为上下片导致碎片的风险发生。
[0004]为解决上述技术问题,本技术提供一种裸片晶圆,用于超薄晶圆测试,包括片体;所述片体端面呈圆周间距分布贯穿开设有多个吸附孔位。
[0005]进一步的,所述片体的厚度取值范围为:400μm
‑
500μm。
[0006]进一步的,所述片体中心贯穿开设有定 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种超薄晶圆测试设备,其特征在于,包括裸片晶圆、真空吸片手臂以及检测载台,所述裸片晶圆用于作为超薄晶圆吸附传送过程中的载体,所述裸片晶圆包括片体,所述片体端面呈圆周间距分布贯穿开设有多个吸附孔位,所述真空吸片手臂用于通过所述裸片晶圆吸附并传送所述超薄晶圆,所述检测载台用于对超薄晶圆和裸片晶圆的组合体进行测试。2.如权利要求1所述的超薄晶圆测试设备,其特征在于,所述检测载台包括台体,所述台体端面设置有环形真空吸附...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘琨,
申请(专利权)人:南京伟测半导体科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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