电子产品屏蔽膜聚氨酯涂层合成方法技术

本发明专利技术公开了一种电子产品屏蔽膜聚氨酯涂层合成方法，包括如下步骤：步骤S1、称取如下重量份原料：25

【技术实现步骤摘要】
电子产品屏蔽膜聚氨酯涂层合成方法


[0001]本专利技术属于涂料
，具体地，涉及一种电子产品屏蔽膜聚氨酯涂层合成方法。

技术介绍

[0002]随着科技的快速发展和人民生活水平的提高，人们日常生活、工作环境中的电器设施日益增多，由此产生的电磁干扰与电磁辐射问题给人们造成了困扰，继噪音、空气、水污染之后，电磁污染成为威胁人类健康的第四大公害。为了人们的健康，越来越多的国家出台了各类电子产品的电磁波辐射限制标准。现在所用到的电子设备，如手机、电脑、数码相机、电磁炉、电热毯、医疗设备等都需要一定的电磁防护措施，常用的方法就是装贴上电磁屏蔽膜屏蔽电磁辐射，但是对于可移动电子产品来说，膜层经常在外力下受到刮擦，容易产生划痕，所以会在屏蔽膜进行涂层，以提高屏蔽膜的耐磨性，而进行的涂层不能降低透光性能，所以往往会加入二氧化钛作为无机填料。
[0003]二氧化钛具有无毒、高光催化活性、稳定性高、能耗低等优点，同时，它具有的高折射率，又常被用于制备高折射有机无机材料，但是二氧化钛的高光催化活性易使复合材料的耐光性能下降，材料易在光存在条件下发生老化降解，最终影响了材料的使用寿命。

技术实现思路

[0004]为了解决
技术介绍
中提到的技术问题，本专利技术的目的在于提供一种电子产品屏蔽膜聚氨酯涂层合成方法。
[0005]本专利技术的目的可以通过以下技术方案实现：电子产品屏蔽膜聚氨酯涂层合成方法，包括如下步骤：步骤S1、称取如下重量份原料：25
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50份水性聚氨酯，5
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12份改性填料，5
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10份分散剂，0.5
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1.2份流平剂，0.025
‑
0.05份消泡剂，0.1
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0.2份增稠剂；步骤S2、将改性填料和分散剂混合后，球磨15min后制得浆料，将浆料和水性聚氨酯混合后依次加入流平剂、消泡剂和增稠剂，混合均匀后涂覆在屏蔽膜表面，制得聚氨酯涂层。
[0006]进一步地，所述聚氨酯涂层的厚度为150nm
‑
100μm。
[0007]进一步地，所述改性填料包括如下步骤制成：步骤S11、将钛酸四丁酯、无水乙醇和羧酸加入反应釜中，室温下匀速搅拌30min，缓慢滴加溶液a，滴加结束后继续搅拌10h，加入溶液b，继续搅拌并反应10h，反应结束后以1000r/min的转速离心3min，过滤，将滤饼分别用无水乙醇和去离子水洗涤三次，85℃下烘干，制得复合基体，控制钛酸四丁酯、无水乙醇、羧酸、溶液a和溶液b的用量比为1.72
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1.75g∶2mL∶0.45g∶0.35
‑
0.38g∶5.97
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6.0g；步骤S11中先将钛酸四丁酯进行预水解，之后加入锆醇盐共水解，锆醇盐与钛醇盐发生共水解
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缩合形成钛氧锆共价键，由于锆醇盐的水解速度比钛醇盐快，所以加入醋酸作
为抑制剂，盐酸作为催化剂，制备出复合基体，其为二氧化锆包覆的二氧化钛复合粒子，二氧化钛作为内层，二氧化锆作为外层，在降低二氧化钛光催化性能的同时获得高折射率；步骤S12、将制得的复合基体通过准分子激光刻蚀进行表面处理，控制（准分子激光器为德国产LPX150）,工作物质为KrF,波长248nm，脉宽25ns，输出重复频率为1
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100Hz，在复合基体表面形成直径20
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40μm，深度25
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30μm的孔洞，制得处理后复合基体；步骤S12中通过准分子激光刻蚀对复合基体表面处理造孔，增大比表面，防止传统的机械加工或者化学腐蚀等方式导致材料表面产生微裂纹或者断裂。
[0008]步骤S13、将处理后复合基体、PVP共聚醋酸乙烯酯、乙酸乙酯和N
‑
乙烯基吡咯烷酮加入四口烧瓶中，超声分散，加入偶氮二异丁腈，升温至75℃，保温反应6h，反应结束后冷却、过滤，将滤饼置于真空干燥箱中，
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0.10MPa下干燥24h，制得改性填料，控制处理后复合基体、PVP共聚醋酸乙烯酯、乙酸乙酯、N
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乙烯基吡咯烷酮和偶氮二异丁腈的重量比为1
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1.5g∶0.5
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0.6g∶100g∶20g∶0.12
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0.15g。
[0009]步骤S13中将处理后复合基体作为成核剂，PVP共聚醋酸乙烯酯作为分散剂，乙酸乙酯作为分散介质，偶氮二异丁腈作为引发剂，处理后复合基体表面含有大量羟基，在乙酸乙酯中不仅能够与单体N
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乙烯基吡咯烷酮上的羰基基团形成配位键，还能够与氨基基团形成氢键作用，进而制备出改性填料，其为一种聚乙烯吡咯烷酮和复合机体的杂化粒子，通过对复合机体进行表面处理，能够增加杂化位点，一方面通过引入有机聚乙烯吡咯烷酮来提高复合基体在有机体中的分散性能，另一方面作为核壳结构，能够同时发挥出聚乙烯吡咯烷酮和复合机体的优点。
[0010]进一步地，所述溶液a为去离子水、质量分数10%盐酸和无水乙醇按照10∶1∶5
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10的体积比混合而成。
[0011]进一步地，所述溶液b为正丁基锆、醋酸和无水乙醇按照0.72
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0.75g∶0.25g∶5mL的用量比混合而成。
[0012]本专利技术的有益效果：本专利技术制备出一种电子产品屏蔽膜聚氨酯涂层，通过在屏蔽膜表面制成涂层，为屏蔽膜带来良好的耐磨性能，防止屏蔽膜表面易产生擦伤，而且具有高透光性，降低涂层本身导致的电子产品亮度降低的问题，该涂层在制备过程中制备出复合基体，其为二氧化锆包覆的二氧化钛复合粒子，二氧化钛作为内层，二氧化锆作为外层，在降低二氧化钛光催化性能的同时获得高折射率，之后通过准分子激光刻蚀对复合基体表面处理造孔，增大比表面，防止传统的机械加工或者化学腐蚀等方式导致材料表面产生微裂纹或者断裂，最后制成聚乙烯吡咯烷酮和复合机体的杂化粒子，通过对复合机体进行表面处理，能够增加杂化位点，一方面通过引入有机聚乙烯吡咯烷酮来提高复合基体在涂料中的分散性能，另一方面作为核壳结构，能够同时发挥出聚乙烯吡咯烷酮和复合机体的优点。
具体实施方式
[0013]下面将结合本专利技术实施例，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0014]实施例1所述改性填料包括如下步骤制成：步骤S11、将钛酸四丁酯、无水乙醇和羧酸加入反应釜中，室温下匀速搅拌30min，缓慢滴加溶液a，滴加结束后继续搅拌10h，加入溶液b，继续搅拌并反应10h，反应结束后以1000r/min的转速离心3min，过滤，将滤饼分别用无水乙醇和去离子水洗涤三次，85℃下烘干，制得复合基体，控制钛酸四丁酯、无水乙醇、羧酸、溶液a和溶液b的用量比为1.72g∶2mL∶0.45g∶0.35g∶5.本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.电子产品屏蔽膜聚氨酯涂层合成方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤S1、称取如下重量份原料：25
‑
50份水性聚氨酯，5
‑
12份改性填料，5
‑
10份分散剂，0.5
‑
1.2份流平剂，0.025
‑
0.05份消泡剂，0.1
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0.2份增稠剂；步骤S2、将改性填料和分散剂混合后，球磨15min后制得浆料，将浆料和水性聚氨酯混合后依次加入流平剂、消泡剂和增稠剂，混合均匀后涂覆在屏蔽膜表面，制得聚氨酯涂层。2.根据权利要求1所述的电子产品屏蔽膜聚氨酯涂层合成方法，其特征在于，所述聚氨酯涂层的厚度为150nm
‑
100μm。3.根据权利要求1所述的电子产品屏蔽膜聚氨酯涂层合成方法，其特征在于，所述改性填料包括如下步骤制成：步骤S11、将钛酸四丁酯、无水乙醇和羧酸加入反应釜中，室温下匀速搅拌30min，缓慢滴加溶液a，滴加结束后继续搅拌10h，加入溶液b，继续搅拌并反应10h，反应结束后以1000r/min的转速离心3min，过滤，将滤饼分别用无水乙醇和去离子水洗涤三次，85℃下烘干，制得复合基体；步骤S12、将制得的复合基体通过准分子激光刻蚀进行表面处理，控制工作物质为KrF,波长248nm，脉宽25ns，输出重复频率为1
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100Hz，在复合基体表面形成直径20
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40μm，深度25
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【专利技术属性】
技术研发人员：邹智，高寅，朱义成，
申请(专利权)人：江苏百瑞特新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：