电子产品屏蔽膜聚氨酯涂层合成方法技术

本发明专利技术公开了一种电子产品屏蔽膜聚氨酯涂层合成方法，包括如下步骤：步骤S1、称取如下重量份原料：25

【技术实现步骤摘要】
电子产品屏蔽膜聚氨酯涂层合成方法


[0001]本专利技术属于涂料
，具体地，涉及一种电子产品屏蔽膜聚氨酯涂层合成方法。

技术介绍

[0002]随着科技的快速发展和人民生活水平的提高，人们日常生活、工作环境中的电器设施日益增多，由此产生的电磁干扰与电磁辐射问题给人们造成了困扰，继噪音、空气、水污染之后，电磁污染成为威胁人类健康的第四大公害。为了人们的健康，越来越多的国家出台了各类电子产品的电磁波辐射限制标准。现在所用到的电子设备，如手机、电脑、数码相机、电磁炉、电热毯、医疗设备等都需要一定的电磁防护措施，常用的方法就是装贴上电磁屏蔽膜屏蔽电磁辐射，但是对于可移动电子产品来说，膜层经常在外力下受到刮擦，容易产生划痕，所以会在屏蔽膜进行涂层，以提高屏蔽膜的耐磨性，而进行的涂层不能降低透光性能，所以往往会加入二氧化钛作为无机填料。
[0003]二氧化钛具有无毒、高光催化活性、稳定性高、能耗低等优点，同时，它具有的高折射率，又常被用于制备高折射有机无机材料，但是二氧化钛的高光催化活性易使复合材料的耐光性能下降，材料易在光存在条件下发生老化降本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.电子产品屏蔽膜聚氨酯涂层合成方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤S1、称取如下重量份原料：25
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50份水性聚氨酯，5
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12份改性填料，5
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10份分散剂，0.5
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1.2份流平剂，0.025
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0.05份消泡剂，0.1
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0.2份增稠剂；步骤S2、将改性填料和分散剂混合后，球磨15min后制得浆料，将浆料和水性聚氨酯混合后依次加入流平剂、消泡剂和增稠剂，混合均匀后涂覆在屏蔽膜表面，制得聚氨酯涂层。2.根据权利要求1所述的电子产品屏蔽膜聚氨酯涂层合成方法，其特征在于，所述聚氨酯涂层的厚度为150nm
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100μm。3.根据权利要求1所述的电子产品屏蔽膜聚氨酯涂层合成方法，其特征在于，所述改性填料包括如下步骤制成：步骤S11、将钛酸四丁酯、无水乙醇和羧酸加入反应釜中，室温下匀速搅拌30min，缓慢滴加溶液a，滴加结束后继续搅拌10h，加入溶液b，继续搅拌并反应10h，反应结束后以1000r/min的转速离心3min，过滤，将滤饼分别用无水乙醇和去离子水洗涤三次，85℃下烘干，制得复合基体；步骤S12、将制得的复合基体通过准分子激光刻蚀进行表面处理，控制工作物质为KrF,波长248nm，脉宽25ns，输出重复频率为1
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100Hz，在复合基体表面形成直径20
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40μm，深度25
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【专利技术属性】
技术研发人员：邹智，高寅，朱义成，
申请(专利权)人：江苏百瑞特新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：