【技术实现步骤摘要】
用于清洗抛光设备的装置及抛光设备
[0001]本专利技术实施例涉及硅片加工
，尤其涉及用于清洗抛光设备的装置5及抛光设备。
技术介绍
[0002]硅片的抛光工艺是用于去除发生在成形工艺过程中硅片表面留下的微缺陷及表面应力损伤层从而使其表面更加平整的工艺。
[0003]在化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing，CMP)过程中，抛光液0由抛光设备的抛光液供给系统持续供给至抛光位置。抛光液是在使用之前通过将抛光液原液在专用存储罐中进行稀释而获得。在实际生产中，需要定期对抛光液存储罐进行清洁，否则存储罐内会产生抛光液结晶，如果此类结晶随抛光液一同被供给至抛光设备，不仅造成硅片表面的损伤，同时还会降低冷却管的换热效率。
[0004]5目前，常规抛光设备的抛光液供液系统尚不具备自清洁功能，而是由人工进行清洁。在人工清洁过程中，需要打开抛光液存储罐的盖子并用纯水进行清洁。然而，人工清洁存在一定问题：一方面、人工使用纯水清洁具有不稳定性和不彻底性，且消耗人力；另一方面、打开抛光液存储罐...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于清洗抛光设备的装置，其特征在于，所述装置包括：用于向抛光液存储箱的内部喷洒清洗液的喷射器；设置在所述抛光液存储箱内的超声波搅拌器，所述超声波搅拌器设置成能够搅拌所述抛光液存储箱内的所述清洗液并且能够发出超声波以有助于所述清洗液清洗所述抛光液存储箱；设置在所述抛光液存储箱的供液口处的供给阀；其中，所述装置设置成执行两种模式的清洗操作，在第一模式，所述供给阀关闭并且所述超声波搅拌器工作，以通过所述清洗液对所述抛光液存储箱的内部进行清洗；在第二模式，所述供给阀开启，使得所述清洗液能够从所述抛光液存储箱经由所述供液口进入供给管路至抛光设备端，以对所述供给管路进行清洗。2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，所述超声波搅拌器包括：搅拌模块，所述搅拌模块包括柱部和设置在所述柱部的一端处的桨叶，所述柱部能够带动所述桨叶绕中心轴线旋转；设置在所述柱部中的超声模块；其中，所述超声模块的一部分能够随所述柱部旋转，使得所述超声模块能够在所述搅拌模块进行搅拌操作的同时发出所述超声波。3.根...
【专利技术属性】
技术研发人员：袁松柏，
申请(专利权)人：西安奕斯伟硅片技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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