本实用新型专利技术涉及LED技术领域，具体涉及一种自动清洗ICP刻蚀盘的装置，包括工作台、机械臂、滑轨和喷水管；所述机械臂设置在工作台上，所述工作台上设有放置凸台；所述滑轨水平设置在工作台上，所述喷水管滑动连接滑轨。本实用新型专利技术的有益效果在于：本实用新型专利技术提供的自动清洗ICP刻蚀盘的装置中，所述机械臂将刻蚀盘夹取后移动到喷水管处，所述喷水管在滑轨上往复移动的同时喷出水，冲洗刻蚀盘。因为喷水管的移动，刻蚀盘能被冲洗得洁净。故本实用新型专利技术提供的自动清洗ICP刻蚀盘的装置实现刻蚀盘的自动清洗，节省了人工成本。节省了人工成本。节省了人工成本。
【技术实现步骤摘要】
一种自动清洗ICP刻蚀盘的装置
[0001]本技术涉及LED
，具体涉及一种自动清洗ICP刻蚀盘的装置。
技术介绍
[0002]LED(Light Emitting Diode)即发光二极管，是一种电能转化为光能的固态半导体器件。作为新型的发光器件，LED具有高光效、节能、使用寿命长、响应时间短、环保等优点，因此被称为最有潜力的新一代光源，在照明领域应用领域极为常见。众所周知，LED芯片的工艺中干法刻蚀是必不可少的，但是ICP盘经过长时间使用会有沉积物在盘上，因此每个ICP盘使用一段时间后就要进行清洗。由于LED芯片的产量巨大，每天都有上百个ICP盘需要清洗，进而此产生巨大的人工成本。
技术实现思路
[0003]本技术所要解决的技术问题是：提供一种自动清洗ICP刻蚀盘的装置，实现ICP盘的自动清洗，节省人工成本。
[0004]为了解决上述技术问题，本技术采用的一种技术方案为：一种自动清洗ICP刻蚀盘的装置，包括工作台、机械臂、滑轨和喷水管；所述机械臂设置在工作台上，所述工作台上设有放置凸台；所述滑轨水平设置在工作台上，所述喷水管滑动连接滑轨；
[0005]还包括刻蚀盘载盒；所述刻蚀盘载盒下部设有与放置凸台配合的凹槽；
[0006]进一步地，所述刻蚀盘载盒的一竖直侧壁上设有多个放置槽，多个所述放置槽沿竖直方向均匀设置在刻蚀盘载盒上。
[0007]进一步地，还包括立设在工作台上的气缸和连通气缸的气泵，所述机械臂设置在气缸上，所述机械臂上设有红外线扫描仪；所述红外线扫描仪通信连接气泵。
[0008]进一步地，所述机械臂包括转盘、伸缩杆和夹爪；所述转盘的转轴竖直且转动设置在气缸上，所述伸缩杆水平设置在转盘上，所述夹爪设置在伸缩杆的伸缩端，所述红外线扫描仪水平设置在伸缩杆的固定端。
[0009]进一步地，所述喷水管中设有电磁阀；所述电磁阀通信连接红外线扫描仪。
[0010]进一步地，所述工作台上还设有沿滑轨导向方向设置的废水槽，所述废水槽设置在滑轨下方。
[0011]本技术的有益效果在于：本技术提供的自动清洗ICP刻蚀盘的装置中，工作人员将刻蚀盘放置在放置凸台上，所述机械臂重复同样的动作，将刻蚀盘夹取后移动到喷水管处，所述喷水管在滑轨上往复移动的同时喷出水，冲洗刻蚀盘。因为喷水管的移动，刻蚀盘能被冲洗得洁净。所述放置槽用于放置刻蚀盘，所述刻蚀盘载盒的设置使工作人员可以在工作台上一次性放置多个刻蚀盘，进一步节省了工作量。故本技术提供的自动清洗ICP刻蚀盘的装置实现刻蚀盘的自动清洗，节省了人工成本。
附图说明
[0012]图1为本技术的具体实施方式的一种自动清洗ICP刻蚀盘的装置的整体结构示意图；
[0013]标号说明：
[0014]1、工作台；11、废水槽；
[0015]2、机械臂；21、转盘；22、伸缩杆；23、夹爪；
[0016]3、滑轨；4、喷水管；41、电磁阀；
[0017]5、刻蚀盘载盒；51、放置槽；
[0018]6、气缸；7、红外线扫描仪。
具体实施方式
[0019]为详细说明本技术的
技术实现思路
、所实现目的及效果，以下结合实施方式并配合附图予以说明。
[0020]请参照图1，一种自动清洗ICP刻蚀盘的装置，包括工作台1、机械臂2、滑轨3和喷水管4；所述机械臂2设置在工作台1上，所述工作台1上设有放置凸台；所述滑轨3水平设置在工作台1上，所述喷水管4滑动连接滑轨3；
[0021]还包括刻蚀盘载盒5；所述刻蚀盘载盒5下部设有与放置凸台配合的凹槽。
[0022]由上描述可知，本技术的有益效果在于：本技术提供的自动清洗ICP刻蚀盘的装置中，工作人员将刻蚀盘放置在放置凸台上，所述机械臂2重复同样的动作，将刻蚀盘夹取后移动到喷水管4处，所述喷水管4在滑轨3上往复移动的同时喷出水，冲洗刻蚀盘。因为喷水管4的移动，刻蚀盘能被冲洗得洁净。所述放置槽51用于放置刻蚀盘，所述刻蚀盘载盒5的设置使工作人员可以在工作台1上一次性放置多个刻蚀盘，进一步节省了工作量。故本技术提供的自动清洗ICP刻蚀盘的装置实现刻蚀盘的自动清洗，节省了人工成本。
[0023]进一步地，所述刻蚀盘载盒5的一竖直侧壁上设有多个放置槽51，多个所述放置槽51沿竖直方向均匀设置在刻蚀盘载盒5上。
[0024]由上描述可知，放置槽51的开口水平且多个放置槽51规则布置更有利于机械臂2的夹取。
[0025]进一步地，还包括立设在工作台1上的气缸6和连通气缸6的气泵，所述机械臂2设置在气缸6上，所述机械臂2上设有红外线扫描仪7；所述红外线扫描仪7通信连接气泵。
[0026]由上描述可知，设置机械臂2被气缸6带动的竖直移动，适配了竖直布置的放置槽51。某些情况下，并不是每个放置槽51都设有刻蚀盘，所述红外线扫描仪7可识别放置槽51中是否有刻蚀盘，若没有，红外线扫描仪7将通过气泵控制气缸6，使机械臂2越过没有刻蚀盘的放置槽51抓取下一个放置槽51的刻蚀盘。
[0027]进一步地，所述机械臂2包括转盘21、伸缩杆22和夹爪23；所述转盘21的转轴竖直且转动设置在气缸6上，所述伸缩杆22水平设置在转盘21上，所述夹爪23设置在伸缩杆22的伸缩端，所述红外线扫描仪7水平设置在伸缩杆22的固定端。
[0028]由上描述可知，提供一种简单高效的机械臂2结构。
[0029]进一步地，所述喷水管4中设有电磁阀41；所述电磁阀41通信连接红外线扫描仪7。
[0030]由上描述可知，所述红外线扫描仪7还可识别喷水管4相对于机械臂2的位置，在机
械臂2的夹爪23靠近喷水管4后，红外线扫描仪7控制电磁阀41开启，喷水管4喷出水。这样起到节约用水的作用。
[0031]进一步地，所述工作台1上还设有沿滑轨3导向方向设置的废水槽11，所述废水槽11设置在滑轨3下方。
[0032]由上描述可知，上述设置避免废水飞溅。
[0033]本技术提供的自动清洗ICP刻蚀盘的装置的应用场景为：当数量较多的刻蚀盘的清洗需要节约人工成本时。
[0034]实施例一
[0035]请参照图1，一种自动清洗ICP刻蚀盘的装置，包括工作台1、机械臂2、滑轨3、刻蚀盘载盒5和喷水管4；所述机械臂2设置在工作台1上，所述工作台1上设有放置凸台；所述滑轨3水平设置在工作台1上，所述喷水管4滑动连接滑轨3。
[0036]所述刻蚀盘载盒5下部设有与放置凸台配合的凹槽；
[0037]所述刻蚀盘载盒5的一竖直侧壁上设有多个放置槽51，多个所述放置槽51沿竖直方向均匀设置在刻蚀盘载盒5上。
[0038]还包括立设在工作台1上的气缸6和连通气缸6的气泵，所述机械臂2设置在气缸6上。所述机械臂2包括转盘21、伸缩杆22和夹爪23；所述转盘21的转轴竖直且转动设置在气缸6上，所述伸缩杆22水平设置在转盘21上，所述夹爪本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种自动清洗ICP刻蚀盘的装置，其特征在于，包括工作台、机械臂、滑轨和喷水管；所述机械臂设置在工作台上，所述工作台上设有放置凸台；所述滑轨水平设置在工作台上，所述喷水管滑动连接滑轨；还包括刻蚀盘载盒；所述刻蚀盘载盒下部设有与放置凸台配合的凹槽。2.根据权利要求1所述自动清洗ICP刻蚀盘的装置，其特征在于，所述刻蚀盘载盒的一竖直侧壁上设有多个放置槽，多个所述放置槽沿竖直方向均匀设置在刻蚀盘载盒上。3.根据权利要求2所述自动清洗ICP刻蚀盘的装置，其特征在于，还包括立设在工作台上的气缸和连通气缸的气泵，所述机械臂设置在气缸上，所述机械臂上设...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄章挺，
申请(专利权)人：福建兆元光电有限公司，
类型：新型
国别省市：
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