一种用于化学湿法清洗的高效干燥方法及系统技术方案

本发明专利技术公开了一种用于化学湿法清洗的高效干燥方法及系统，涉及干燥控制领域，其中，所述方法包括：生成光学元件表面图像采集结果；生成残留液特征参数；根据风力干燥设备，上传干燥控制参数集合；将干燥控制参数集合发送至干燥控制模块，生成干燥控制参数优化向量空间；将残留液分布位置特征和残留液几何特征输入干燥控制参数优化向量空间，生成干燥控制参数优化结果；并将其发送至控制终端的显示界面，生成第一反馈信息；根据确认干燥指令将待干燥光学元件输送至风力干燥设备的预设干燥区域。达到了提高化学湿法清洗的光学元件的干燥控制参数的精确度，提高化学湿法清洗的光学元件的干燥控制质量等技术效果。元件的干燥控制质量等技术效果。元件的干燥控制质量等技术效果。

【技术实现步骤摘要】
一种用于化学湿法清洗的高效干燥方法及系统


[0001]本专利技术涉及干燥控制领域，具体地，涉及一种用于化学湿法清洗的高效干燥方法及系统。

技术介绍

[0002]化学湿法清洗已广泛应用于半导体生产、光学元件保护等诸多领域。化学湿法清洗是清除光学元件表面的微尘、颗粒、杂质等污染物的有力手段。在对光学元件进行化学湿法清洗之后，常需要对光学元件进行干燥处理，此时，如果干燥控制不当，常常会对光学元件造成不可逆转的伤害。随着化学湿法清洗的广泛应用，如何对化学湿法清洗之后的光学元件进行有效的干燥控制，受到人们的广泛关注。
[0003]现有技术中，存在针对化学湿法清洗的光学元件的干燥控制参数的精确度不高，进而造成化学湿法清洗的光学元件的干燥控制效果不佳的技术问题。

技术实现思路

[0004]本申请提供了一种用于化学湿法清洗的高效干燥方法及系统。解决了现有技术中针对化学湿法清洗的光学元件的干燥控制参数的精确度不高，进而造成化学湿法清洗的光学元件的干燥控制效果不佳的技术问题。
[0005]鉴于上述问题，本申请提供了一种用于化学湿法清洗的高效干燥方法及系统。
[0006]第一方面，本申请提供了一种用于化学湿法清洗的高效干燥方法，其中，所述方法应用于一种用于化学湿法清洗的高效干燥系统，所述方法包括：调取图像采集装置对化学湿法清洗的待干燥光学元件进行图像采集，生成光学元件表面图像采集结果；对所述光学元件表面图像采集结果进行特征提取，生成残留液特征参数，其中，所述残留液特征参数包括残留液分布位置特征和残留液几何特征；根据风力干燥设备，上传干燥控制参数集合；将所述干燥控制参数集合发送至干燥控制模块，生成干燥控制参数优化向量空间；将所述残留液分布位置特征和所述残留液几何特征输入所述干燥控制参数优化向量空间，生成干燥控制参数优化结果；将所述干燥控制参数优化结果发送至控制终端的显示界面，生成第一反馈信息，其中，所述第一反馈信息包括确认干燥指令；根据所述确认干燥指令将所述待干燥光学元件输送至所述风力干燥设备的预设干燥区域。
[0007]第二方面，本申请还提供了一种用于化学湿法清洗的高效干燥系统，其中，所述系统包括：图像采集模块，所述图像采集模块用于调取图像采集装置对化学湿法清洗的待干燥光学元件进行图像采集，生成光学元件表面图像采集结果；特征提取模块，所述特征提取模块用于对所述光学元件表面图像采集结果进行特征提取，生成残留液特征参数，其中，所述残留液特征参数包括残留液分布位置特征和残留液几何特征；干燥控制参数上传模块，所述干燥控制参数上传模块用于根据风力干燥设备，上传干燥控制参数集合；优化空间生成模块，所述优化空间生成模块用于将所述干燥控制参数集合发送至干燥控制模块，生成干燥控制参数优化向量空间；优化结果生成模块，所述优化结果生成模块用于将所述残留
液分布位置特征和所述残留液几何特征输入所述干燥控制参数优化向量空间，生成干燥控制参数优化结果；反馈生成模块，所述反馈生成模块用于将所述干燥控制参数优化结果发送至控制终端的显示界面，生成第一反馈信息，其中，所述第一反馈信息包括确认干燥指令；输送模块，所述输送模块用于根据所述确认干燥指令将所述待干燥光学元件输送至所述风力干燥设备的预设干燥区域。
[0008]本申请中提供的一个或多个技术方案，至少具有如下技术效果或优点：
[0009]通过图像采集装置对化学湿法清洗的待干燥光学元件进行图像采集，生成光学元件表面图像采集结果；通过对光学元件表面图像采集结果进行特征提取，生成残留液特征参数；根据风力干燥设备，上传干燥控制参数集合；并将其发送至干燥控制模块，生成干燥控制参数优化向量空间；将残留液分布位置特征和残留液几何特征输入所述干燥控制参数优化向量空间，生成干燥控制参数优化结果；将所述干燥控制参数优化结果发送至控制终端的显示界面，生成第一反馈信息；根据确认干燥指令将所述待干燥光学元件输送至所述风力干燥设备的预设干燥区域。达到了提高化学湿法清洗的光学元件的干燥控制参数的精确度，提高化学湿法清洗的光学元件的干燥控制质量；同时，对化学湿法清洗的光学元件进行高效、准确、可靠地干燥控制，减少干燥控制不当对化学湿法清洗的光学元件造成的损坏的技术效果。
附图说明
[0010]图1为本申请一种用于化学湿法清洗的高效干燥方法的流程示意图；
[0011]图2为本申请一种用于化学湿法清洗的高效干燥方法中上传干燥控制参数集合的流程示意图；
[0012]图3为本申请一种用于化学湿法清洗的高效干燥系统的结构示意图。
[0013]附图标记说明：图像采集模块11，特征提取模块12，干燥控制参数上传模块13，优化空间生成模块14，优化结果生成模块15，反馈生成模块16，输送模块17。
具体实施方式
[0014]本申请通过提供一种用于化学湿法清洗的高效干燥方法及系统。解决了现有技术中针对化学湿法清洗的光学元件的干燥控制参数的精确度不高，进而造成化学湿法清洗的光学元件的干燥控制效果不佳的技术问题。达到了提高化学湿法清洗的光学元件的干燥控制参数的精确度，提高化学湿法清洗的光学元件的干燥控制质量；同时，对化学湿法清洗的光学元件进行高效、准确、可靠地干燥控制，减少干燥控制不当对化学湿法清洗的光学元件造成的损坏的技术效果。
[0015]实施例一
[0016]请参阅附图1，本申请提供一种用于化学湿法清洗的高效干燥方法，其中，所述方法应用于一种用于化学湿法清洗的高效干燥系统，所述系统包括干燥控制模块，所述干燥控制模块和风力干燥设备通信连接，所述系统和图像采集装置通信连接，所述方法具体包括如下步骤：
[0017]步骤S100：调取图像采集装置对化学湿法清洗的待干燥光学元件进行图像采集，生成光学元件表面图像采集结果；
[0018]步骤S200：对所述光学元件表面图像采集结果进行特征提取，生成残留液特征参数，其中，所述残留液特征参数包括残留液分布位置特征和残留液几何特征；
[0019]具体而言，通过图像采集装置对化学湿法清洗之后的待干燥光学元件进行图像采集，获得光学元件表面图像采集结果，并对其进行特征提取，获得残留液特征参数。其中，所述图像采集装置与所述一种用于化学湿法清洗的高效干燥系统通信连接。所述图像采集装置可以为现有技术中任意类型的能够采集获取图像信息的摄像装置或它们的结合。所述化学湿法清洗是在不破坏器件的特性的前提下，有效地使用化学溶液对器件表面的微尘、颗粒、杂质等污染物进行清除。所述待干燥光学元件可以为完成化学湿法清洗之后的任意光学元件。例如，在制造镜片时，镜片表面常附着颗粒物、指纹等污染物。对该镜片进行化学湿法清洗后，可其将作为待干燥光学元件。所述光学元件表面图像采集结果包括完成化学湿法清洗的待干燥光学元件对应的图像数据信息。所述残留液特征参数包括残留液分布位置特征和残留液几何特征。所述残留液分布位置特征包括光学元件表面图像采集结果中待干燥光学元件的残留液体的位置信息。所述残留液几何特征包括光学元件表面图像采集结果中待干燥光学元件的残留本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于化学湿法清洗的高效干燥方法，其特征在于，所述方法应用一用于化学湿法清洗的高效干燥系统，所述系统包括干燥控制模块，所述干燥控制模块和风力干燥设备通信连接，所述系统和图像采集装置通信连接，所述方法包括：调取图像采集装置对化学湿法清洗的待干燥光学元件进行图像采集，生成光学元件表面图像采集结果；对所述光学元件表面图像采集结果进行特征提取，生成残留液特征参数，其中，所述残留液特征参数包括残留液分布位置特征和残留液几何特征；根据风力干燥设备，上传干燥控制参数集合；将所述干燥控制参数集合发送至干燥控制模块，生成干燥控制参数优化向量空间；将所述残留液分布位置特征和所述残留液几何特征输入所述干燥控制参数优化向量空间，生成干燥控制参数优化结果；将所述干燥控制参数优化结果发送至控制终端的显示界面，生成第一反馈信息，其中，所述第一反馈信息包括确认干燥指令；根据所述确认干燥指令将所述待干燥光学元件输送至所述风力干燥设备的预设干燥区域。2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据风力干燥设备，上传干燥控制参数集合，包括：根据所述风力干燥设备，上传光学元件控制参数，其中，所述光学元件控制参数包括光学元件定位点参数和光学元件姿态定位参数；根据所述风力干燥设备，上传干燥环境控制参数，其中，所述干燥环境控制参数包括干燥环境温度参数和干燥环境湿度参数；根据所述风力干燥设备，上传干燥风力控制参数，其中，所述干燥风力控制参数包括吹风温度参数、吹风向量参数、气体流量参数、吹风时长参数和循环周期参数；将所述光学元件定位点参数、所述光学元件姿态定位参数、所述干燥环境温度参数、所述干燥环境湿度参数、所述吹风温度参数、所述吹风向量参数、所述气体流量参数、所述吹风时长参数和所述循环周期参数，添加进所述干燥控制参数集合。3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述将所述干燥控制参数集合发送至干燥控制模块，生成干燥控制参数优化向量空间，包括：根据所述风力干燥设备和所述干燥控制参数集合，基于大数据匹配风力干燥记录数据集，其中，所述风力干燥记录数据集包括残留液分布位置记录数据、残留液几何特征记录数据和干燥控制参数记录数据；根据所述残留液分布位置记录数据和所述残留液几何特征记录数据，对所述干燥控制参数记录数据进行聚类分析，生成多组干燥控制参数聚类结果；根据所述多组干燥控制参数聚类结果，构建所述干燥控制参数优化向量空间。4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述根据所述多组干燥控制参数聚类结果，构建所述干燥控制参数优化向量空间，包括：根据所述多组干燥控制参数聚类结果，获取第一组干燥控制参数聚类结果、第二组干燥控制参数聚类结果直到第M组干燥控制参数聚类结果；根据所述第一组干燥控制参数聚类结果，构建第一场景优化向量子空间；
根据所述第M组干燥控制参数聚类结果，构建第M场景优化向量子空间；将所述第一场景优化向量子空间、第二场景优化向量子空间和所述第M场景优化向量子空间合并，生成所述干燥控制参数优化向量空间。5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述将所述第一场景优化向量子空间、第二场景优化向量子空间和所述第M场景优化向量子空间合并，生成所述干燥控制参数优化向量空间，包括：根据所述待干燥光学元件对所述干燥控制参数集合进行限定，生成干燥控制参数敏感特征值；将干燥控制参数敏感特征值，添加进禁忌表的第一禁忌子表，其中，所述禁忌表中的数据禁止被选取进行优化设计；构建所述禁忌表的第二禁忌子表，其中，所述第二禁忌子表的初始值为空；根据所述第一禁忌子表和所述第二禁忌子表对所述一场景优化向量子空间、第二场景优化向量子空间和所述第M场景优化向量子空间进行限定，生成所述干燥控制参数优化向量空间。6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，所述根据所述第一禁忌子表和所述第二禁忌子表对所述第一场景优化向量子空间、第二场景优化向量子空间和所述第M场景优化向量子空间进行限定，生成所述干燥控制参数优化向量空间，包括：将所述干燥控制参数...

【专利技术属性】
技术研发人员：王征，
申请(专利权)人：北京市永康药业有限公司，
类型：发明
国别省市：