【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学层叠体、物品、光学层叠体的制造方法
[0001]本专利技术涉及在表面具有防污层的光学层叠体以及具备该光学层叠体的物品、光学层叠体的制造方法。本申请基于2020年7月17日在日本申请的特愿2020
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123316、2020年9月10日在日本申请的特愿2020
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151806以及2021年3月1日在日本申请的特愿2021
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032043主张优先权,并将其内容引用于此。
技术介绍
[0002]例如,在平板显示器(FPD)、触摸面板、太阳能电池等中,作为光学层叠体,为了防止表面的反射而使用了各种防反射膜。以往,作为防反射膜,提出了具备在透明基板上依次层叠高折射率层和低折射率层而得的多层膜的防反射膜。在这样的防反射膜的最外表面,通常以表面的保护、防污为目的而形成有防污层(表面保护层)。
[0003]近年来,防反射膜(光学层叠体)多用于智能手机、各种操作设备的触摸面板。由此,要求提高光学层叠体的耐磨损性。
[0004]例如,专利文献1中公开了通过将防污层的构成材料 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光学层叠体,其是依次层叠塑料膜、密合层、光学功能层和防污层而成的光学层叠体,所述防污层由蒸镀有防污性材料的蒸镀膜构成,水蒸气透过率为1.5g/(m2·
1天)以下,与液温55℃、浓度0.1mol/L的氢氧化钠水溶液接触4小时后的考虑了正反射光的SCI反射色的色相变化ΔE值小于10。2.一种光学层叠体,其是依次层叠塑料膜、密合层、光学功能层和防污层而成的光学层叠体,所述防污层由蒸镀有防污性材料的蒸镀膜构成,水蒸气透过率为1.5g/(m2·
1天)以下,在与液温55℃、浓度0.1mol/L的氢氧化钠水溶液接触4小时后,使用荧光X射线分析法即XRF所测定的氟残存率为85%以上。3.根据权利要求1或2所述的光学层叠体,其雾度为2%以下,使擦拭布往复4000次的擦伤性试验前后相对于水的接触角差为12
°
以下。4.根据权利要求1~3中任一项所述的光学层叠体,其雾度为2%以下,采用依据JIS L0849的使用了钢丝棉的摩擦试验机,摩擦前与使钢丝棉水平往复运动500次的摩擦后相对于水的接触角差为12
°
以下。5.根据权利要求1~4中任一项所述的光学层叠体,其雾度为2%以下,摩擦前与使钢丝棉水平往复运动500次后的摩擦后的考虑了正反射光的SCI反射色的变化量即ΔE值为3.0以下。6.根据权利要求1~5中任一项所述的光学层叠体,其雾度为2%以下,在氟系溶剂中照射40KHz、240W的超声波10分钟进行清洗后的利用XRF得到的防污层中的氟原子残存量为70%以上。7.根据权利要求1或2所述的光学层叠体,其雾度超过2%,使擦拭布往复4000次的擦伤性试验前后相对于水的接触角差为7
°
以下。8.根据权利要求1~7中任一项所述的光学层叠体,所述防污层的膜...
【专利技术属性】
技术研发人员:小林智明,黄臻,铃木克利,铃木嗣人,木伏祐子,
申请(专利权)人:迪睿合株式会社,
类型:发明
国别省市:
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