光学层叠体、物品、光学层叠体的制造方法技术

该光学层叠体是依次层叠塑料膜、密合层、光学功能层和防污层而成的光学层叠体，上述防污层由蒸镀有防污性材料的蒸镀膜构成，水蒸气透过率为1.5g/(m2·

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】光学层叠体、物品、光学层叠体的制造方法


[0001]本专利技术涉及在表面具有防污层的光学层叠体以及具备该光学层叠体的物品、光学层叠体的制造方法。本申请基于2020年7月17日在日本申请的特愿2020
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123316、2020年9月10日在日本申请的特愿2020
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151806以及2021年3月1日在日本申请的特愿2021
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032043主张优先权，并将其内容引用于此。

技术介绍

[0002]例如，在平板显示器(FPD)、触摸面板、太阳能电池等中，作为光学层叠体，为了防止表面的反射而使用了各种防反射膜。以往，作为防反射膜，提出了具备在透明基板上依次层叠高折射率层和低折射率层而得的多层膜的防反射膜。在这样的防反射膜的最外表面，通常以表面的保护、防污为目的而形成有防污层(表面保护层)。
[0003]近年来，防反射膜(光学层叠体)多用于智能手机、各种操作设备的触摸面板。由此，要求提高光学层叠体的耐磨损性。
[0004]例如，专利文献1中公开了通过将防污层的构成材料中所含的氟量设为特定的范围而提高了耐磨损性的透明基板层叠体。
[0005]专利文献2中记载了一种防污层的形成方法，在形成防污层之前，对被处理基材上的至少一面进行前处理，在该前处理后的表面上成膜出防污层。另外，专利文献2中记载了前处理为高频放电等离子体法、电子束法、离子束法、蒸镀法、溅射法、碱处理法、酸处理法、电晕处理法、大气压辉光放电等离子体法中的任一种。
[0006]专利文献3中记载了一种防污性光学物品的制造方法，通过蒸镀而在基板表面形成防反射膜后，导入氧或氩并进行等离子体处理，然后，真空蒸镀含氟有机硅化合物而形成防污层。
[0007]现有技术文献
[0008]专利文献
[0009]专利文献1：国际公开第2019/078313号
[0010]专利文献2：日本特开2006
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175438号公报
[0011]专利文献3：日本特开2005
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301208号公报
[0012]专利文献4：日本专利第6542970号公报

技术实现思路

[0013]专利技术所要解决的课题
[0014]然而，专利文献1中记载的透明基板层叠体存在如下课题：若反复摩擦，则有助于耐磨损性的未反应物会被擦去，无法维持高耐磨损性。需要一种具备即使对于反复摩擦也能够维持高耐磨损性的防污层的光学层叠体。
[0015]本专利技术是鉴于上述问题而完成的，其目的在于提供一种具备耐久性优异的防污层的光学层叠体以及具备该光学层叠体的物品、光学层叠体的制造方法。
[0016]用于解决课题的方法
[0017]为了解决上述课题，本专利技术提出了以下的方法。
[0018](1)本专利技术的第一方式的光学层叠体是依次层叠塑料膜、密合层、光学功能层和防污层而成的光学层叠体，上述防污层由蒸镀有防污性材料的蒸镀膜构成，水蒸气透过率为1.5g/(m2·
1天)以下，与液温55℃、浓度0.1mol/L的氢氧化钠水溶液接触4小时后的考虑了正反射光的(SCI)反射色的色相变化ΔE值小于10。
[0019](2)本专利技术的第二方式的光学层叠体是依次层叠塑料膜、密合层、光学功能层和防污层而成的光学层叠体，上述防污层由蒸镀有防污性材料的蒸镀膜构成，水蒸气透过率为1.5g/(m2·
1天)以下，在与液温55℃、浓度0.1mol/L的氢氧化钠水溶液接触4小时后，使用荧光X射线分析法(XRF)测定的氟残存率为85％以上。
[0020](3)上述方式的光学层叠体中，雾度可以为2％以下，使擦拭布往复4000次的擦伤性试验前后相对于水的接触角差可以为12
°
以下。
[0021](4)上述方式的光学层叠体中，雾度可以为2％以下，采用依据JIS L0849的使用了钢丝棉的摩擦试验机，摩擦前与使钢丝棉水平往复运动500次的摩擦后相对于水的接触角差可以为12
°
以下。
[0022](5)上述方式的光学层叠体中，雾度可以为2％以下，摩擦前与使钢丝棉水平往复运动500次的摩擦后的考虑了正反射光的(SCI)反射色的变化量(ΔE值)可以为3.0以下。
[0023](6)上述方式的光学层叠体中，在氟系溶剂中照射40KHz、240W的超声波10分钟进行清洗后的利用XRF得到的防污层中的氟原子残存量可以为70％以上。
[0024](7)上述方式的光学层叠体中，雾度可以超过2％，使擦拭布往复4000次的擦伤性试验前后相对于水的接触角差可以为7
°
以下。
[0025](8)上述方式的光学层叠体中，上述防污层的膜厚可以为3.0nm以上。
[0026](9)上述方式的光学层叠体中，使用荧光X射线分析法(XRF)测定的氟初始量可以为0.03以上。
[0027](10)上述方式的光学层叠体中，上述光学功能层可以包含选自防反射层和选择反射层中的任一种。
[0028](11)上述方式的光学层叠体中，上述光学功能层可以具备低折射率层。
[0029](12)上述方式的光学层叠体中，上述光学功能层可以由低折射率层和高折射率层交替层叠而成的层叠体构成。
[0030](13)上述方式的光学层叠体中，上述防污层可以与上述低折射率层接触而设置。
[0031](14)上述方式的光学层叠体中，上述密合层可以包含金属或金属的氧化物。
[0032](15)上述方式的光学层叠体中，可以通过溅射而形成上述密合层和上述光学功能层。
[0033](16)上述方式的光学层叠体中，上述防污性材料可以包含氟系有机化合物。
[0034](17)上述方式的光学层叠体中，可以在上述透明基材与上述密合层之间进一步具备硬涂层。
[0035](18)本专利技术的第四方式的物品可以具备上述方式的光学层叠体。
[0036](19)本专利技术的第五方式的光学层叠体的制造方法为上述方式的光学层叠体的制造方法，具有：光学功能层的成膜工序，其交替具有在小于0.5Pa的真空度下成膜出低折射
率层的工序和在小于1.0Pa的真空度下成膜出高折射率层的工序；辉光放电处理工序，利用辉光放电对上述光学功能层的表面进行表面处理；以及防污层形成工序，在上述光学功能层的一面侧形成由通过真空蒸镀而蒸镀有防污性材料的蒸镀膜构成的上述防污层。
[0037](20)上述方式的光学层叠体的制造方法中，可以具有通过溅射来形成上述光学功能层的光学功能层形成工序，并在减压下连续进行上述光学功能层形成工序和上述防污层形成工序。
[0038]专利技术效果
[0039]根据本专利技术，能够提供具备耐久性优异的防污层的光学层叠体以及具备该光学层叠体的物品、光学层叠体的制造方法。
附图说明
[0040]图1为示出本实施方式的光学层叠体的一例的截面图。
[0041]图2为示出本实施方本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光学层叠体，其是依次层叠塑料膜、密合层、光学功能层和防污层而成的光学层叠体，所述防污层由蒸镀有防污性材料的蒸镀膜构成，水蒸气透过率为1.5g/(m2·
1天)以下，与液温55℃、浓度0.1mol/L的氢氧化钠水溶液接触4小时后的考虑了正反射光的SCI反射色的色相变化ΔE值小于10。2.一种光学层叠体，其是依次层叠塑料膜、密合层、光学功能层和防污层而成的光学层叠体，所述防污层由蒸镀有防污性材料的蒸镀膜构成，水蒸气透过率为1.5g/(m2·
1天)以下，在与液温55℃、浓度0.1mol/L的氢氧化钠水溶液接触4小时后，使用荧光X射线分析法即XRF所测定的氟残存率为85％以上。3.根据权利要求1或2所述的光学层叠体，其雾度为2％以下，使擦拭布往复4000次的擦伤性试验前后相对于水的接触角差为12
°
以下。4.根据权利要求1～3中任一项所述的光学层叠体，其雾度为2％以下，采用依据JIS L0849的使用了钢丝棉的摩擦试验机，摩擦前与使钢丝棉水平往复运动500次的摩擦后相对于水的接触角差为12
°
以下。5.根据权利要求1～4中任一项所述的光学层叠体，其雾度为2％以下，摩擦前与使钢丝棉水平往复运动500次后的摩擦后的考虑了正反射光的SCI反射色的变化量即ΔE值为3.0以下。6.根据权利要求1～5中任一项所述的光学层叠体，其雾度为2％以下，在氟系溶剂中照射40KHz、240W的超声波10分钟进行清洗后的利用XRF得到的防污层中的氟原子残存量为70％以上。7.根据权利要求1或2所述的光学层叠体，其雾度超过2％，使擦拭布往复4000次的擦伤性试验前后相对于水的接触角差为7
°
以下。8.根据权利要求1～7中任一项所述的光学层叠体，所述防污层的膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：小林智明，黄臻，铃木克利，铃木嗣人，木伏祐子，
申请(专利权)人：迪睿合株式会社，
类型：发明
国别省市：