一种高均匀高亮散射光源及其制备方法技术

本发明专利技术实施例公开了一种高均匀高亮散射光源及其制备方法，所述高均匀高亮散射光源包括：灯珠阵列、反射镜组、扩散板、遮光板组，其中，所述反射镜组，包括第一反射镜组和第二反射镜组，所述第一反射镜组与所述灯珠阵列垂直排布，所述第二反射镜组与所述灯珠阵列呈预设角度排列，所述扩散板对应所述第二反射镜组按照预设高度设置于所述第二反射镜组远离所述灯珠阵列的一端，所述遮光板组按照预设遮光面积设置于所述扩散板远离所述第二反射镜组的表面上，所述预设角度、所述预设高度和所述预设遮光面积基于所述高均匀高亮散射光源的工作参数确定。作参数确定。作参数确定。

【技术实现步骤摘要】
一种高均匀高亮散射光源及其制备方法


[0001]本专利技术涉及一种基于光源
，尤其涉及一种高均匀高亮散射光源及其制备方法。

技术介绍

[0002]CG盖板玻璃检测有一类缺陷是凹凸点和压痕，对凹凸的检测需要高均匀性的扩散型线性光源，成像效果较好，同时高均匀性的扩散型线性光源还可以用到隔膜等项目的检测。目前市场上采用高亮高均匀的光源，亮度和均匀性都不是很理想，且价格较高。常见的均匀性光源的结构一般为灯珠、透镜和漫射板的形式，横向均匀性可以满足使用需求，但纵向均匀性较差，且灯珠角度较大，光能损失严重，只能靠增加灯珠功率来保证亮度，但功率的增加一方面会增加成本，一方面又需要可靠的散热技术，乃至结构变得非常复杂，且一致性和稳定性都会变差。

技术实现思路

[0003]有鉴于此，本专利技术提供了一种高均匀高亮散射光源及其制备方法，用于解决现有技术中均匀性光源纵向均匀性较差，且灯珠角度较大，光能损失严重的问题。为达上述之一或部分或全部目的或是其他目的，本专利技术提出一种高均匀高亮散射光源的制备方法，包括：获取所述高均匀高亮散射光源的目标工作参数，其中，所述目标工作参数包括目标光斑参数、目标光斑均匀参数、目标工作距离和目标基础参数；基于所述目标基础参数、所述目标光斑均匀参数和所述目标工作距离确定所述高均匀高亮散射光源中灯珠阵列的规格参数；根据所述目标工作距离、所述目标光斑参数和所述目标光斑均匀参数计算所述高均匀高亮散射光源中扩散板的设置参数；基于所述目标工作距离和所述目标光斑参数确定所述高均匀高亮散射光源中反射镜组的排列参数；根据所述目标工作距离和所述目标光斑参数确定所述高均匀高亮散射光源中遮光板的遮光面积，根据所述规格参数、所述设置参数、所述遮光面积和所述排列参数制备所述高均匀高亮散射光源。
[0004]可选的，所述基于所述目标基础参数、所述目标光斑均匀参数和所述目标工作距离确定所述高均匀高亮散射光源中灯珠阵列的规格参数的步骤，包括：根据所述目标基础参数确定所述灯珠阵列的目标尺寸；基于所述目标尺寸按照不同的灯珠排列方式构建不同的初始灯珠阵列模型，所述灯珠排列方式包括灯珠数目和灯珠组成的形状；计算不同初始灯珠阵列模型在所述目标工作距离处的均匀性；匹配所述目标光斑均匀参数和不同初始灯珠阵列模型在所述目标工作距离处的均匀性，得到与所述目标光斑均匀参数相匹配的目标灯珠阵列模型；
根据所述目标灯珠阵列模型确定所述高均匀高亮散射光源中灯珠阵列的规格参数。
[0005]可选的，所述根据所述目标工作距离、所述目标光斑参数和所述目标光斑均匀参数计算所述高均匀高亮散射光源中扩散板的设置参数的步骤，包括：根据所述目标工作距离确定所述高均匀高亮散射光源中扩散板的目标高度；基于所述目标工作距离、所述目标光斑参数和所述目标光斑均匀参数计算所述高均匀高亮散射光源中扩散板的目标角度；将所述目标高度和所述目标角度作为所述高均匀高亮散射光源中扩散板的设置参数。
[0006]可选的，所述基于所述目标工作距离和所述目标光斑参数确定所述高均匀高亮散射光源中反射镜组的排列参数的步骤，包括：基于所述目标工作距离确定所述高均匀高亮散射光源中灯珠阵列上灯珠与不同角度的预设反射镜组的夹角；基于所述夹角确定不同角度的预设反射镜组与所述灯珠形成的不同初始光斑；基于所述目标光斑参数确定所述初始光斑中的目标光斑；根据所述目标光斑在不同角度的预设反射镜组中确定目标预设反射镜组，获得目标预设反射镜组的角度范围；基于所述角度范围确定所述高均匀高亮散射光源中反射镜组的排列参数。
[0007]可选的，所述基于所述角度范围确定所述高均匀高亮散射光源中反射镜组的排列参数的步骤，包括：根据所述高均匀高亮散射光源中反射镜组的角度范围、所述高均匀高亮散射光源中灯珠阵列的规格参数和所述高均匀高亮散射光源中扩散板的设置参数通过仿真法获取照度随反射镜倾斜角度变化图；基于所述照度随反射镜倾斜角度变化图确定所述高均匀高亮散射光源中反射镜组的目标角度，将所述高均匀高亮散射光源中反射镜组的目标角度作为排列参数。
[0008]可选的，所述根据所述目标工作距离和所述目标光斑参数确定所述高均匀高亮散射光源中遮光板的遮光面积的步骤，包括：根据所述高均匀高亮散射光源中反射镜组的目标角度、所述高均匀高亮散射光源中灯珠阵列的规格参数和所述高均匀高亮散射光源中扩散板的设置参数获取所述高均匀高亮散射光源的光斑面积；匹配所述目标光斑参数中的目标面积参数与所述光斑面积，得到所述高均匀高亮散射光源中遮光板的遮光面积。
[0009]可选的，所述方法，还包括：获取根据所述规格参数、所述设置参数、所述遮光面积和所述排列参数制备的所述高均匀高亮散射光源的光斑效果图；基于所述光斑效果图验证所述规格参数、所述设置参数、所述遮光面积和所述排列参数。
[0010]另一方面，本申请提供了一种高均匀高亮散射光源，包括：灯珠阵列、反射镜组、扩散板、遮光板组；
其中，所述灯珠阵列按照基于所述目标工作参数确定的规格参数构建，所述反射镜组按照排列参数设置于所述灯珠阵列周围，所述扩散板按照扩散板的设置参数设置于所述反射镜组远离所述灯珠阵列的一端，所述遮光板组按照遮光板的遮光面积设置于所述扩散板远离所述第二反射镜组的表面上，所述扩散板的设置参数根据所述目标工作距离、所述目标光斑参数和所述目标光斑均匀参数确定，所述反射镜组的排列参数基于所述目标工作距离和所述目标光斑参数确定，所述遮光板的遮光面积根据所述目标工作距离和所述目标光斑参数确定，所述目标工作参数包括目标光斑参数、目标光斑均匀参数、目标工作距离和目标基础参数。
[0011]可选的，还包括：透镜，所述透镜设置于所述灯珠阵列与所述反射镜组之间。
[0012]可选的，所述灯珠阵列上的灯珠为双排结构。
[0013]实施本专利技术实施例，将具有如下有益效果：通过获取所述高均匀高亮散射光源的目标工作参数，其中，所述目标工作参数包括目标光斑参数、目标光斑均匀参数、目标工作距离和目标基础参数；基于所述目标基础参数、所述目标光斑均匀参数和所述目标工作距离确定所述高均匀高亮散射光源中灯珠阵列的规格参数；根据所述目标工作距离、所述目标光斑参数和所述目标光斑均匀参数计算所述高均匀高亮散射光源中扩散板的设置参数；基于所述目标工作距离和所述目标光斑参数确定所述高均匀高亮散射光源中反射镜组的排列参数；根据所述目标工作距离和所述目标光斑参数确定所述高均匀高亮散射光源中遮光板的遮光面积，根据所述规格参数、所述设置参数、所述遮光面积和所述排列参数制备所述高均匀高亮散射光源。通过增加反射镜、扩散板、遮光板可以有效提升光斑亮度及均匀性，进一步的，通过光斑需求，结合仿真，进一步调整设计各器件尺寸、角度等参数，得出参数最优解，从而得到最好的光斑。
附图说明
[0014]为了更清楚地说明本专利技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高均匀高亮散射光源的制备方法，其特征在于，包括：获取所述高均匀高亮散射光源的目标工作参数，其中，所述目标工作参数包括目标光斑参数、目标光斑均匀参数、目标工作距离和目标基础参数；基于所述目标基础参数、所述目标光斑均匀参数和所述目标工作距离确定所述高均匀高亮散射光源中灯珠阵列的规格参数；根据所述目标工作距离、所述目标光斑参数和所述目标光斑均匀参数计算所述高均匀高亮散射光源中扩散板的设置参数；基于所述目标工作距离和所述目标光斑参数确定所述高均匀高亮散射光源中反射镜组的排列参数；根据所述目标工作距离和所述目标光斑参数确定所述高均匀高亮散射光源中遮光板的遮光面积，根据所述规格参数、所述设置参数、所述遮光面积和所述排列参数制备所述高均匀高亮散射光源。2.如权利要求1所述的一种高均匀高亮散射光源的制备方法，其特征在于，所述基于所述目标基础参数、所述目标光斑均匀参数和所述目标工作距离确定所述高均匀高亮散射光源中灯珠阵列的规格参数的步骤，包括：根据所述目标基础参数确定所述灯珠阵列的目标尺寸；基于所述目标尺寸按照不同的灯珠排列方式构建不同的初始灯珠阵列模型，所述灯珠排列方式包括灯珠数目和灯珠组成的形状；计算不同初始灯珠阵列模型在所述目标工作距离处的均匀性；匹配所述目标光斑均匀参数和不同初始灯珠阵列模型在所述目标工作距离处的均匀性，得到与所述目标光斑均匀参数相匹配的目标灯珠阵列模型；根据所述目标灯珠阵列模型确定所述高均匀高亮散射光源中灯珠阵列的规格参数。3.如权利要求1所述的一种高均匀高亮散射光源的制备方法，其特征在于，所述根据所述目标工作距离、所述目标光斑参数和所述目标光斑均匀参数计算所述高均匀高亮散射光源中扩散板的设置参数的步骤，包括：根据所述目标工作距离确定所述高均匀高亮散射光源中扩散板的目标高度；基于所述目标工作距离、所述目标光斑参数和所述目标光斑均匀参数计算所述高均匀高亮散射光源中扩散板的目标角度；将所述目标高度和所述目标角度作为所述高均匀高亮散射光源中扩散板的设置参数。4.如权利要求1所述的一种高均匀高亮散射光源的制备方法，其特征在于，所述基于所述目标工作距离和所述目标光斑参数确定所述高均匀高亮散射光源中反射镜组的排列参数的步骤，包括：基于所述目标工作距离确定所述高均匀高亮散射光源中灯珠阵列上灯珠与不同角度的预设反射镜组的夹角；基于所述夹角确定不同角度的预设反射镜组与所述灯珠形成的不同初始光斑；基于所述目标光斑参数确定所述初始光斑中的目标光斑；根据所述目标光斑在不同角度的预设反射镜组中确定目标预设反...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴如颂，吴小飞，
申请(专利权)人：深圳新视智科技术有限公司，
类型：发明
国别省市：