一种清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种清洗装置，包括：清洗槽，清洗槽内具有清洗液，待清洗件适于浸渍在清洗液中；驱动部件，驱动部件位于清洗槽的外侧，驱动部件具有延伸至驱动部件之外的驱动轴，驱动轴适于沿着驱动轴的轴心旋转；偏心轮，偏心轮位于清洗槽的外侧，驱动轴与偏心轮连接以带动偏心轮旋转，偏心轮垂直于清洗槽中与偏心轮距离最小的一侧外壁，偏心轮的旋转中心与偏心轮的边缘的距离具有最大距离和最小距离，偏心轮的旋转中心至清洗槽的槽壁的最小距离小于最大距离且大于最小距离。驱动部件驱动偏心轮旋转以使清洗槽发生低频振动，使清洗液发生微扰动，这提高了待清洗件的清洗效率和清洗效果。效果。效果。

【技术实现步骤摘要】
一种清洗装置


[0001]本技术涉及半导体器件制备装置
，具体涉及一种清洗装置。

技术介绍

[0002]真空蒸镀工艺是制备半导体器件的常用工艺之一。为了在真空蒸镀之后得到所需的图形化膜层，通常会利用具有镂空区域的掩膜板(mask)。掩膜板位于蒸镀源和待沉积表面之间，在蒸镀过程中，来自蒸镀源的气态有机物通过掩膜板上的镂空区域沉积在待沉积表面，从而在待沉积表面形成与镂空区域的形状相对应的有机膜层。
[0003]在形成有机膜层的同时，掩膜板朝向蒸镀源的一侧表面也会沉积一定厚度的有机物。随着蒸镀时间的延长，掩膜板表面的有机物的厚度会逐渐增大，这会影响后续所沉积的图形化膜层的沉积精度，因此掩膜板需要定时清洗。由于掩膜板对精度要求较高，为了避免清洗过程中损伤掩膜板导致其精度降低，通常采用单纯浸泡的方式清洗掩膜板，即，将掩膜板浸泡在清洗液中，使有机物自然溶解或脱落。
[0004]然而，单纯浸泡的方式无法保证清洗效果，残留在掩膜板表面的有机物会直接影响后续所沉积的膜层精度，从而影响半导体器件的性能，同时该清洗方式的清洗效率较低。

技术实现思路

[0005]因此，本技术要解决的技术问题在于如何提高掩膜板的清洗效果和清洗效率，从而提供一种清洗装置。
[0006]本技术提供一种清洗装置，包括：清洗槽，所述清洗槽内具有清洗液，待清洗件适于浸渍在所述清洗液中；驱动部件，所述驱动部件位于所述清洗槽的外侧，所述驱动部件具有延伸至驱动部件之外的驱动轴，所述驱动轴适于沿着所述驱动轴的轴心旋转；偏心轮，所述偏心轮位于所述清洗槽的外侧，所述驱动轴与所述偏心轮连接以带动所述偏心轮旋转，所述偏心轮垂直于所述清洗槽中与所述偏心轮距离最小的一侧外壁，所述偏心轮的旋转中心与所述偏心轮的边缘的距离具有最大距离和最小距离，所述偏心轮的旋转中心至所述清洗槽的槽壁的最小距离小于所述最大距离且大于所述最小距离。
[0007]可选的，所述最大距离与所述偏心轮的旋转中心至所述清洗槽的槽壁的最小距离的差值为35mm
‑
43mm。
[0008]可选的，所述驱动轴的一端位于所述驱动部件的外侧，所述驱动轴的一端连接有一个所述偏心轮；或者，所述驱动轴的相对设置的两端均位于所述驱动部件的外侧，所述驱动轴的两端分别连接有一个所述偏心轮。
[0009]可选的，所述清洗槽的底面和/或侧面设置有所述驱动部件和所述偏心轮。
[0010]可选的，所述驱动轴的转速为4000rpm
‑
8000rpm，所述清洗槽的震动频率为60HZ～150HZ。
[0011]可选的，所述清洗槽的内壁还设置有固定结构，所述固定结构适于固定所述待清洗件。
[0012]可选的，所述清洗槽内具有相对设置的第一内壁和第二内壁，所述固定结构为设置在所述第一内壁和所述第二内壁上的卡槽，所述卡槽的延伸方向平行于所述清洗槽的高度方向，所述卡槽适于与所述待清洗件的边缘卡接。
[0013]可选的，所述清洗槽内具有相互连通的清洗区和防溢区，所述清洗区靠近所述清洗槽的槽底，所述防溢区靠近所述清洗槽的槽口，在清洗过程中所述待清洗件适于固定在所述清洗区；在垂直于所述清洗槽的高度方向，所述防溢区的尺寸大于所述清洗区的尺寸。
[0014]可选的，所述清洗装置还包括控制部件，所述控制部件与所述驱动部件电学连接，所述控制部件适于控制所述驱动轴的转速。
[0015]可选的，所述待清洗件包括掩膜板。
[0016]本技术技术方案，具有如下优点：
[0017]1.本技术提供的清洗装置，驱动部件驱动偏心轮旋转以使清洗槽发生低频振动，清洗槽的震动波传递至清洗槽内的清洗液，使清洗液发生微扰动，这加速了待清洗件表面的有机物的溶解或脱落，并提高了有机物的溶解或脱落效果，从而提高了待清洗件的清洗效率和清洗效果，在使待清洗件清洗得更加洁净的同时，缩短了清洗时间。此外，驱动部件和偏心轮设置在清洗槽的外侧，便于组装和后续安装，且不需要考虑驱动部件和偏心轮的防水与抗腐蚀问题，降低了驱动部件和偏心轮的使用要求。
[0018]2.本技术提供的清洗装置中，所述驱动轴的相对设置的两端均位于所述驱动部件的外侧，所述驱动轴的两端分别连接有一个所述偏心轮，所述驱动部件能够同时驱动两个偏心轮，不仅提高了驱动部件的振幅稳定性，从而有利于提高清洗效果，还有利于清洗装置的结构稳定性。
[0019]3.本技术提供的清洗装置中，清洗槽的底面和侧面均设置有驱动部件和偏心轮，清洗槽内的清洗液能够接收来自不同方向的震动波，从而进一步提高了待清洗件的清洗效率和清洗效果。
[0020]4.本技术提供的清洗装置中，驱动轴的转速为4000rpm
‑
8000rpm，这使清洗槽的震动频率达到了60HZ～150HZ，上述震动频率能够在保证清洗效果和清洗效率的同时，不会损伤掩膜板，保证了掩膜板的精度。
[0021]5.本技术提供的清洗装置中，所述清洗槽内具有相互连通的清洗区和防溢区，待清洗件适于固定在清洗区，防溢区的设置能够防止将待清洗件放置在清洗槽中时、待清洗件的清洗过程中、以及将待清洗件从清洗槽中取出时清洗液外溢至清洗槽的外侧，避免了清洗液的浪费。
附图说明
[0022]为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0023]图1为本技术实施例提供的清洗装置的侧视图；
[0024]图2为图1中的清洗槽的俯视图；
[0025]图3为图1中的偏心轮的结构示意图；
[0026]附图标记说明：
[0027]1‑
清洗槽；11
‑
卡槽；12
‑
清洗区；13
‑
防溢区；2
‑
驱动部件；3
‑
偏心轮；4
‑
控制部件。
具体实施方式
[0028]下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0029]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0030]在本技术的描述中，需要说本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种清洗装置，其特征在于，包括：清洗槽，所述清洗槽内具有清洗液，待清洗件适于浸渍在所述清洗液中；驱动部件，所述驱动部件位于所述清洗槽的外侧，所述驱动部件具有延伸至驱动部件之外的驱动轴，所述驱动轴适于沿着所述驱动轴的轴心旋转；偏心轮，所述偏心轮位于所述清洗槽的外侧，所述驱动轴与所述偏心轮连接以带动所述偏心轮旋转，所述偏心轮垂直于所述清洗槽中与所述偏心轮距离最小的一侧外壁，所述偏心轮的旋转中心与所述偏心轮的边缘的距离具有最大距离和最小距离，所述偏心轮的旋转中心至所述清洗槽的槽壁的最小距离小于所述最大距离且大于所述最小距离。2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述最大距离与所述偏心轮的旋转中心至所述清洗槽的槽壁的最小距离的差值为35mm
‑
43mm。3.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述驱动轴的一端位于所述驱动部件的外侧，所述驱动轴的一端连接有一个所述偏心轮；或者，所述驱动轴的相对设置的两端均位于所述驱动部件的外侧，所述驱动轴的两端分别连接有一个所述偏心轮。4.根据权利要求1至3任一项所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗槽的底面和/或侧面设置有所述驱动部件和所述偏心轮。5.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：秦晓强，吴磊，刘英英，万晓鹏，陈芳，王展，王勇波，
申请(专利权)人：苏州清越光电科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：