作为除草剂的砜衍生物的制造方法技术

本发明专利技术提供了作为除草剂有用的砜衍生物的工业上优选的制造方法。一种方法，所述方法是式(2)的化合物的制造方法，所述方法在金属催化剂的存在下和羧酸的存在下使式(1)的化合物与氧化剂反应以制造式(2)的化合物，物与氧化剂反应以制造式(2)的化合物，物与氧化剂反应以制造式(2)的化合物，

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】作为除草剂的砜衍生物的制造方法


[0001]本专利技术涉及一种作为除草剂有用的砜衍生物，即下式(2)的化合物的制造方法，
[0002][化1][0003][0004]式中，R1、R2、R3、R4和R5如本说明书中所述。

技术介绍

[0005]如WO2002/062770A1(专利文献1)中所公开的，已知上述式(2)的砜衍生物具有除草活性。其中，众所周知砜吡草唑(
ピロキサスルホン
，Pyroxasulfone)是一种优异的除草剂。
[0006]作为式(2)的化合物的制造方法，已知有通过使硫化物衍生物，即式(1)的化合物氧化进行的方法，这在下面示出。
[0007][化2][0008][0009]如下图所示，WO2004/013106A1(专利文献2)参考例3中记载了利用间氯过氧苯甲酸(mCPBA)将3
‑
(5
‑
二氟甲氧基
‑1‑
甲基
‑3‑
三氟甲基
‑
1H
‑
吡唑
‑4‑
基甲硫基)
‑
5,5
‑
二甲基
‑2‑
异噁唑啉(1
‑
a)(ISFP)氧化而制造3
‑
(5
‑
二氟甲氧基
‑1‑
甲基
‑3‑
三氟甲基
‑
1H
‑
吡唑
‑4‑
基甲磺酰基)
‑
5,5
‑
二甲基
‑2‑
异噁唑啉(2
‑
a)(砜吡草唑)的方法。
[0010][化3][0011][0012]在由式(1)的化合物制造式(2)的化合物的方法中，WO2004/013106A1(专利文献2)中记载的间氯过氧苯甲酸(mCPBA)对于工业用途而言价格昂贵，并且在处理和废弃物方面存在问题。因此，WO2004/013106A1(专利文献2)中记载的制造方法在工业规模的制造中不实用。
[0013]此外，在由式(1)的化合物(硫化物衍生物：S衍生物)制造式(2)的化合物(砜衍生物：SO2衍生物)的方法中，作为氧化反应的中间体的亚砜衍生物(SO衍生物)，即下式(3)的化合物可能会使反应终止：
[0014][化4][0015][0016]式中，R1、R2、R3、R4和R5如本说明书中所述。因此，式(3)的化合物有时会作为副产物残留在产物中。混入除草剂等产品中的式(3)的化合物可能会导致质量下降和对农作物产生化学损害。但是，由于式(3)的化合物的物理性质和化学性质与式(2)的化合物非常相似，因此将式(3)的化合物分离以纯化式(2)的化合物是很困难的。因此，在由式(1)的化合物制造式(2)的化合物的方法中，需要氧化反应充分进行并且式(3)的化合物基本上不残留在产物中这样的制造方法。
[0017]专利文献3(日本特表2013
‑
512201)(JP2013
‑
512201A)的实施例9C中记载了一种使用乙酸的砜吡草唑(Pyroxasulfone)的制造方法。然而，日本特表2013
‑
512201的实施例9C中记载的方法存在式(3)的中间体(亚砜衍生物：SO衍生物)大量残留的缺点。参见本申请说明书的参考例1。
[0018]专利文献3(日本特表2013
‑
512201)(JP2013
‑
512201A)对应于专利文献4(US2012/264947A1)。
[0019]CN111574511A(专利文献5)的实施例5中记载了一种使用乙酸的砜吡草唑(Pyroxasulfone)的制造方法。然而，CN111574511A的实施例5中记载的方法具有无再现性且式(3)的中间体(亚砜衍生物：SO衍生物)大量残留的缺点。参见本申请说明书的参考例2。
[0020]WO2021/002484A2(专利文献6)中记载了一种砜吡草唑(Pyroxasulfone)的制造方法。该方法是解决上述问题的优异方法。然而，WO2021/002484A2中记载的方法仍存在通常在较高温度下实施等改善的余地。
[0021]此外，这些现有技术的方法因还存在反应速度相对较慢的情况，因此仍有改善的余地。
[0022]现有技术文献
[0023]专利文献
[0024]专利文献1：国际公开第2002/062770号
[0025]专利文献2：国际公开第2004/013106号
[0026]专利文献3：日本特表2013
‑
512201号公报
[0027]专利文献4：美国专利申请公开第2012/264947号说明书
[0028]专利文献5：中国专利申请公开第111574511号说明书
[0029]专利文献6：国际公开第2021/002484号

技术实现思路

[0030]本专利技术要解决的技术问题
[0031]本专利技术的目的是提供一种制造方法，所述制造方法是由式(1)的化合物制造式(2)的化合物的方法，并且是产物中式(3)的化合物的比例充分低、产率优异且工业上优选的制造方法。
[0032]解决技术问题的技术手段
[0033]鉴于上述情况，本专利技术人对式(2)的化合物的制造方法进行了深入研究。结果意外地发现，通过提供式(2)的化合物的下述制造方法，可以解决上述课题。基于该认识，本专利技术人等完成了本专利技术。即，在一个方面，本专利技术如下所述。
[0034][A
‑
1]一种式(2)的化合物的制造方法，所述方法包括在金属催化剂的存在下和羧酸的存在下使式(1)的化合物与氧化剂反应，
[0035][化5][0036][0037]其中，R1、R2和R3各自独立地为任选被1个以上取代基取代的(C1
‑
C6)烷基；任选被1个以上取代基取代的(C3
‑
C6)环烷基；任选被1个以上取代基取代的(C2
‑
C6)烯基；任选被1个以上取代基取代的(C2
‑
C6)炔基；或者任选被1个以上取代基取代的(C6
‑
C10)芳基；
[0038]R4和R5各自独立地为任选被1个以上取代基取代的(C1
‑
C6)烷基；
[0039]任选被1个以上取代基取代的(C3
‑
C6)环烷基；任选被1个以上取代基取代的(C2
‑
C6)烯基；任选被1个以上取代基取代的(C2
‑
C6)炔基；任选被1个以上取代基取代的(C1
‑
C6)烷氧基；或者任选被1个以上取代基取代的(C6
‑
C10)芳基；或者
[0040]R4和R5与它们所键合的碳原子一起形成3～12元碳环，其中所形成的环任选被1个以上取代基取代。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种式(2)的化合物的制造方法，所述方法包括在金属催化剂的存在下和羧酸的存在下使式(1)的化合物与氧化剂反应，其中，所述反应在超过35℃下进行，[化1]其中，R1、R2和R3各自独立地为任选被1个以上取代基取代的(C1
‑
C6)烷基；任选被1个以上取代基取代的(C3
‑
C6)环烷基；任选被1个以上取代基取代的(C2
‑
C6)烯基；任选被1个以上取代基取代的(C2
‑
C6)炔基；或者任选被1个以上取代基取代的(C6
‑
C10)芳基；R4和R5各自独立地为任选被1个以上取代基取代的(C1
‑
C6)烷基；任选被1个以上取代基取代的(C3
‑
C6)环烷基；任选被1个以上取代基取代的(C2
‑
C6)烯基；任选被1个以上取代基取代的(C2
‑
C6)炔基；任选被1个以上取代基取代的(C1
‑
C6)烷氧基；或者任选被1个以上取代基取代的(C6
‑
C10)芳基；或者R4和R5与它们所键合的碳原子一起形成3～12元碳环，其中所形成的环任选被1个以上取代基取代。2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述反应在40℃以上进行。3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述反应在45℃以上进行。4.根据权利要求1
‑
3中任一项所述的方法，其中，所述反应在60℃以下进行。5.根据权利要求1
‑
3中任一项所述的方法，其中，所述反应在55℃以下进行。6.一种式(2)的化合物的制造方法，所述方法包括在金属催化剂的存在下和羧酸的存在下使式(1)的化合物与氧化剂反应，相对于1摩尔式(1)的化合物，羧酸的量为18摩尔以上，[化2]其中，R1、R2和R3各自独立地为任选被1个以上取代基取代的(C1
‑
C6)烷基；任选被1个以上取代基取代的(C3
‑
C6)环烷基；任选被1个以上取代基取代的(C2
‑
C6)烯基；任选被1个以上取代基取代的(C2
‑
C6)炔基；或者任选被1个以上取代基取代的(C6
‑
C10)芳基；R4和R5各自独立地为任选被1个以上取代基取代的(C1
‑
C6)烷基；任选被1个以上取代基
取代的(C3
‑
C6)环烷基；任选被1个以上取代基取代的(C2
‑
C6)烯基；任选被1个以上取代基取代的(C2
‑
C6)炔基；任选被1个以上取代基取代的(C1
‑
C6)烷氧基；或者任选被1个以上取代基取代的(C6
‑
C10)芳基；或者R4和R5与它们所键合的碳原子一起形成3～12元碳环，其中所形成的环任选被1个以上取代基取代。7.根据权利要求6所述的方法，其中，相对于1摩尔式(1)的化合物，羧酸的量为30摩尔以上。8.根据权利要求6所述的方法，其中，相对于1摩尔式(1)的化合物，羧酸的量为35摩尔以上。9.一种式(2)的化合物的制造方法，所述方法包括在金属催化剂的存在下和羧酸的存在下使式(1)的化合物与氧化剂反应，其中，所述反应在除羧酸外的有机溶剂的存在下进行，[化3]其中，R1、R2和R3各自独立地为任选被1个以上取代基取代的(C1
‑
C6)烷基；任选被1个以上取...

【专利技术属性】
技术研发人员：谷真树，
申请(专利权)人：组合化学工业株式会社，
类型：发明
国别省市：