声音检测机构制造技术

本发明专利技术提供一种通过对厚度进行控制使得振动膜能够以需要的厚度形成并能够抑制振动膜的变形的声音检测机构。该声音检测机构是在基板（Ａ）上具有形成电容器的一对电极，该一对电极之中的一个电极是形成有相当于声孔的通孔（Ｃａ）的背面电极（Ｃ），另一个电极是振动膜（Ｂ）的声音检测机构，在基板（Ａ）上设置有振动膜（Ｂ），背面电极（Ｃ）设置在由基板（Ａ）支承在与该振动膜（Ｂ）隔着空隙（Ｆ）对置的位置上的状态下，该背面电极（Ｃ）由５μｍ～２０μｍ厚度的多晶硅形成。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
一种声音检测机构，其在基板上具有形成电容器的一对电极，该一对电极之中的一个电极是形成有相当于声孔的通孔的背面电极，另一个电极是振动膜，其特征是，　　　　前述振动膜设置在前述基板上，前述背面电极设置在由前述基板支承在与该振动膜隔着空隙对置的位置上的状态下，该背面电极由５μｍ～２０μｍ厚度的多晶硅形成。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：大林义昭，安田护，佐伯真一，驹井正嗣，加川健一，
申请(专利权)人：星电株式会社，东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]