【技术实现步骤摘要】
一种用于元件表面的散射特性测量装置及方法
[0001]本专利技术涉及元件特性参数的测量,尤其涉及一种用于元件表面的散射特性测量装置及方法。
技术介绍
[0002]超光滑表面元件是指其表面粗糙度均方根值(RMS)小于1纳米的元件,其物理结构和表面的损伤程度也具有严格的要求,超光滑表面元件的表面残余应力极小,具有完整的晶格结构。
[0003]超光滑表面元件,由于其优异的表面特性被广泛应用在激光陀螺、航空航天、纳米薄膜以及超精密加工制造等领域。元件表面的散射特性是影响元件质量的关键因素。例如在高功率激光领域,光学元件的散射特性会在相当程度上影响系统的整体水平。因此,散射特性作为光学领域中的一个关键性指标,精确测量超光滑表面元件上的分布,对杂散光的测量与抑制、高端光学仪器的研制与装调等都具有重要意义。对于超光滑的表面,其散射光水平极其微弱。传统的检测方法是通过高精度显微镜,例如原子力显微镜等进行观测,但该检测方法主要是针对元件面形观测,对检测元件散光特性效率较低,需要专业的技术人员进行操作,且检测成本高昂,同时在检测过程中, ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于元件表面的散射特性测量装置,其特征在于:包括积分球A(1)、积分球B(2)、衰减模块(3)、光源组件(4)、第一探测器(5)、第二探测器(6)以及数据处理单元(7);所述积分球A(1)上设有入射口、第一出射口、采样口以及第二出射口;所述光源组件(4)对应设置在所述积分球A(1)的入射口外,所述第一探测器(5)对应设置在所述积分球A(1)的第一出射口外;所述采样口分别与积分球A(1)的入射口及积分球A(1)的第一出射口对应,所述采样口用于设置待测元件(8);所述积分球B(2)上设有入射口和出射口;所述第二探测器(6)设置对应在所述积分球B(2)的出射口处;所述衰减模块(3)设置在所述积分球A(1)的第二出射口与所述积分球B(2)的入射口之间;所述数据处理单元(7)分别与所述第一探测器(5)和所述第二探测器(6)电连接。2.根据权利要求1所述的用于元件表面的散射特性测量装置,其特征在于:所述光源组件(4)包括光源(41)和移频调制器(42);所述光源(41)设置在所述移频调制器(42)的入射端;所述移频调制器(42)的出射端与所述积分球A(1)的入射口相对。3.根据权利要求2所述的用于元件表面的散射特性测量装置,其特征在于:还包括第三探测器(9);所述光源组件(4)还包括分光镜(43);所述分光镜(43)设置在所述移频调制器(42)与所述积分球A(1)之间;所述积分球A(1)的入射口位于所述分光镜(43)的透射光线所在的光路上;所述第三探测器(9)设置在所述分光镜(43)的反射光线所在的光路上,并与所述数据处理单元(7)电连接。4.根据权利要求3所述的用于元件表面的散射特性测量装置,其特征在于:所述光源组件(4)还包括光阑;所述光阑设置在所述移频调制器(42)和所述分光镜(43)之间,用于滤除光学噪声。5.根据权利要求1
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4任一所述的用于元件表面的散射特性测量装置,其特征在于:还包括具有编码器的转台(10);所述光源组件(4)设置在所述转台(10)上;所述编码器与所述数据处理单元(7)电连接,用于实时输出所述转台(10)的旋转角度。6.根据权利要求2或3或4所述的用于元件表面的散射特性测量装置,其特征在于:所述光源(41)为激光器。7.一种用于元件表面的散射特性测量方法,基于权利要求1
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6任一所述的用于元件表面的散射特性测量装置,其特征在于:步骤1、通过光源组...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘巍,李朝辉,毛振,赵建科,朱辉,魏紫薇,刘勇,刘金博,
申请(专利权)人:中国科学院西安光学精密机械研究所,
类型:发明
国别省市:
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