一种化学镀膜设备制造技术

本申请涉及化学镀膜技术领域，提供一种化学镀膜设备，化学镀膜设备包括反应容器和搅拌装置，反应容器包括反应腔，搅拌装置包括第一搅拌器、第二搅拌器和沿上下方向延伸的搅拌轴，搅拌轴的至少部分、第一搅拌器和第二搅拌器均位于反应腔中，第一搅拌器和第二搅拌器均设置于搅拌轴上，第一搅拌器位于第二搅拌器的上方，第一搅拌器能够向上推送反应腔中的物料。在搅拌物料过程中，第一搅拌器能够向上推送反应腔中的物料，减少物料中固体沉降，反应腔中的固体能够保持悬浮状态，更均匀的分布在镀液中，固体与镀液充分接触，从而提高化学镀镀膜的均匀一致性。镀膜的均匀一致性。镀膜的均匀一致性。

【技术实现步骤摘要】
一种化学镀膜设备


[0001]本申请涉及化学镀膜
，尤其涉及一种化学镀膜设备。

技术介绍

[0002]氢及其同位素在能源领域中有着重要作用，储氢合金颗粒可以实现对氢及其同位素的可控吸收和释放，满足氢的安全储存和输运需求。由于储氢合金在实际应用过程中，氢同位素气体中往往含有例如氧气(O2)、氮气(N2)等杂质气体。这些杂质气体往往更容易与储氢合金颗粒发生反应，在储氢合金颗粒表面形成致密的金属氧化物、金属氮化物的膜层，从而阻挡氢气向储氢合金颗粒内部扩散而使储氢合金颗粒吸氢能力明显降低，甚至完全丧失，即储氢合金颗粒发生杂质气体中毒现象。为了改善上述中毒现象，在储氢合金颗粒包覆对氢气具有选择性透过能力的钯膜，其中，钯(Pd)膜具有优良的选择透过性，对于氢同位素气体中的大多数杂质气体均有较好的抗中毒能力，且具有较高的氢气透过率。
[0003]化学镀能在陶瓷和/或塑料等多种非金属基体表面上沉积一层具有良好的包覆性的薄膜，化学镀方法也适合在金属粉体表面镀膜，通常采用化学镀在储氢合金颗粒的表面镀覆钯膜，现有技术中，通常采用烧杯等容器用于几克到几十克的小量储氢合金材料进行化学镀镀覆钯膜，当单批次待镀覆的储氢合金颗粒增加至1千克以上，烧杯则无法适应镀膜需求，存在储氢合金颗粒分散性不佳，储氢合金颗粒表面镀层不均匀的问题。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本申请期望提供一种化学镀膜设备，能够提高化学镀镀膜的均匀一致性。
[0005]为了达到上述目的，本申请实施例提供一种化学镀膜设备，包括：
[0006]反应容器，包括反应腔；
[0007]搅拌装置，包括第一搅拌器、第二搅拌器和沿上下方向延伸的搅拌轴，所述搅拌轴的至少部分、所述第一搅拌器和所述第二搅拌器均位于所述反应腔中，所述第一搅拌器和所述第二搅拌器均设置于所述搅拌轴上，所述第一搅拌器位于所述第二搅拌器的上方，所述第一搅拌器能够向上推送所述反应腔中的物料。
[0008]一些实施例中，所述第一搅拌器与所述反应腔的底表面之间的距离不小于所述反应腔的高度的七分之二；和/或，
[0009]所述第一搅拌器与所述反应腔的底表面之间的距离不大于所述反应腔的高度的七分之四。
[0010]一些实施例中，所述第二搅拌器位于所述反应腔的底部。
[0011]一些实施例中，所述第二搅拌器的外缘与其所在处的所述反应腔的腔表面之间的距离不大于3cm。
[0012]一些实施例中，所述第二搅拌器包括主体部和两个端头部，所述主体部与所述搅拌轴连接，两个所述端头部分别位于所述主体部沿径向的两端，所述端头部从所述主体部
的一端向上弯曲。
[0013]一些实施例中，所述第一搅拌器包括多个桨叶，多个所述桨叶环绕所述搅拌轴的周向布置，所述桨叶的迎流面向下倾斜。
[0014]一些实施例中，所述桨叶的迎流面与竖直面之间的夹角在55
°
至65
°
之间。
[0015]一些实施例中，所述桨叶包括第一板体和第二板体，所述第二板体从所述第一板体远离所述搅拌轴的一端朝所述桨叶的行进方向弯曲。
[0016]一些实施例中，以垂直于上下方向的平面为投影面，所述第一板体的投影和所述第二板体的投影之间的夹角大于90
°
且小于180
°
。
[0017]一些实施例中，所述反应容器采用透明材质。
[0018]一些实施例中，所述反应容器包括内壳和外壳，所述内壳形成有所述反应腔，所述外壳形成有调温腔、入口和出口，所述入口和所述出口均与所述调温腔连通，所述入口用于向所述调温腔中注入导热流体，所述出口用于排出所述调温腔中的导热流体，所述内壳的至少部分位于所述调温腔中。
[0019]一些实施例中，所述化学镀膜设备包括计量泵，所述反应容器形成有与所述反应腔连通的液体加料口，所述计量泵与所述液体加料口连通；和/或，
[0020]所述化学镀膜设备包括超声波搅拌器；和/或，
[0021]所述化学镀膜设备包括测温器，所述测温器伸入所述反应腔中；和/或，
[0022]所述化学镀膜设备包括保护套，所述保护套套设于所述搅拌轴的外。
[0023]一些实施例中，所述化学镀膜设备用于对储氢合金颗粒镀覆钯膜，单批次处理的所述储氢合金颗粒不小于1千克。
[0024]本申请实施例提供的化学镀膜设备，第一搅拌器位于第二搅拌器的上方，在搅拌物料过程中，第一搅拌器能够向上推送反应腔中的物料，减少物料中固体沉降，使得固体能够在第一搅拌器、自身重力和浮力等的共同作用下保持悬浮状态；第二搅拌器能够搅动位于第一搅拌器下方的物料，第二搅拌器产生的涡流使得物料中的固体能够向上运动，避免物料中的固体过多的流向反应腔的底部，使得位于第二搅拌器周围的固体保持悬浮状态，这样，反应腔中的固体能够保持悬浮状态，更均匀的分布在镀液中，固体与镀液充分接触，从而提高化学镀镀膜的均匀一致性。
附图说明
[0025]图1为本申请一实施例中的化学镀膜设备的结构示意图；
[0026]图2为图1中的化学镀膜设备的另一个视角的结构示意图；
[0027]图3为图2中A
‑
A方向的剖视示意图；
[0028]图4为本申请一实施例中的第二搅拌器的结构示意图；
[0029]图5为本申请一实施例中的第一搅拌器的结构示意图；
[0030]图6为图5中的第一搅拌器另一个视角的结构示意图；
[0031]图7为图5中的第一搅拌器又一个视角的结构示意图；
[0032]图8为本申请一实施例中Pd/LaNi
4.25
Al
0.75
在含1％杂质气的氢气中循环吸放氢的吸氢动力学曲线图。
[0033]附图标记说明
[0034]反应容器1；反应腔1a；液体加料口1b；固体加料口1c；回流孔1d；排放口1e；内壳11；外壳12；调温腔12a；入口12b；出口12c；盖体101；第一凸缘1011；釜体102；第二凸缘1021；
[0035]搅拌装置2；第一搅拌器21；桨叶211；第一板体2111；第二板体2112；第一轴套212；第二搅拌器22；主体部221；端头部222；第二轴套223；搅拌轴23；
[0036]计量泵3；
[0037]测温器4；
[0038]驱动源5；
[0039]调温器6；
[0040]控制器7；
[0041]开关阀8；
[0042]保护套9；
具体实施方式
[0043]需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的技术特征可以相互组合，具体实施方式中的详细描述应理解为本申请宗旨的解释说明，不应视为对本申请的不当限制。
[0044]下面结合附图及具体实施例对本申请再做进一步详细的说明。本申请实施例中的“第一”、“第二”等描述，仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含地包括至本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种化学镀膜设备，其特征在于，包括：反应容器，包括反应腔；搅拌装置，包括第一搅拌器、第二搅拌器和沿上下方向延伸的搅拌轴，所述搅拌轴的至少部分、所述第一搅拌器和所述第二搅拌器均位于所述反应腔中，所述第一搅拌器和所述第二搅拌器均设置于所述搅拌轴上，所述第一搅拌器位于所述第二搅拌器的上方，所述第一搅拌器能够向上推送所述反应腔中的物料。2.根据权利要求1所述的化学镀膜设备，其特征在于，所述第一搅拌器与所述反应腔的底表面之间的距离不小于所述反应腔的高度的七分之二；和/或，所述第一搅拌器与所述反应腔的底表面之间的距离不大于所述反应腔的高度的七分之四。3.根据权利要求2所述的化学镀膜设备，其特征在于，所述第二搅拌器位于所述反应腔的底部。4.根据权利要求3所述的化学镀膜设备，其特征在于，所述第二搅拌器的外缘与其所在处的所述反应腔的腔表面之间的距离不大于3cm。5.根据权利要求1所述的化学镀膜设备，其特征在于，所述第二搅拌器包括主体部和两个端头部，所述主体部与所述搅拌轴连接，两个所述端头部分别位于所述主体部沿径向的两端，所述端头部从所述主体部的一端向上弯曲。6.根据权利要求1所述的化学镀膜设备，其特征在于，所述第一搅拌器包括多个桨叶，多个所述桨叶环绕所述搅拌轴的周向布置，所述桨叶的迎流面向下倾斜。7.根据权利要求6所述的化学镀膜设备，其特征在于，所述桨叶的迎流面与竖直面之间的夹角在55
°
至65
°

【专利技术属性】
技术研发人员：叶一鸣，胡石林，余远方，刘丽飞，储诚节，阮皓，任英，吕卫星，
申请(专利权)人：中国原子能科学研究院，
类型：发明
国别省市：