冗余图形添加方法和电子设备技术

本发明专利技术提供一种冗余图形添加方法和电子设备，所述方法包括：在设计版图上生成至少一个辅助图形，每个所述辅助图形将至少一个所述设计图形包围，所述辅助图形具有第一边界，所述辅助图形所包围的所述设计图形具有第二边界，所述第一边界与所述第二边界之间的距离大于预设的第一间距阈值，所述辅助图形的精度小于所述设计图形的精度；按照预设的设计规则，在所述设计版图上生成至少一个冗余图形单元，所述设计规则包括所述冗余图形单元与所述辅助图形不相交。本发明专利技术以粗精度的辅助图形替代高精度的设计图形作为设计规则依据，使冗余图形单元规避粗精度的辅助图形即可，从而大大减小了图形间的计算量，提高了冗余图形添加效率。率。率。

【技术实现步骤摘要】
冗余图形添加方法和电子设备


[0001]本专利技术涉及集成电路版图设计
，特别是涉及一种冗余图形添加方法和电子设备。

技术介绍

[0002]集成光芯片版图的图形密度及其均匀度对光刻、刻蚀、研磨等半导体工艺具有直接影响。相关技术中，采用在版图中添加冗余图形(Dummy)的方法，来调节局部版图密度，提高版图密度的均匀性。主要是通过运行添加Dummy的脚本程序，自动在版图上生成满足设计规则的Dummy图形。其中，Dummy的设计规则一般由晶圆厂提供，包括Dummy与版图设计图形的距离要大于满足工艺需求的最小间距等。一般情况为了保证版图的准确性，版图中每个设计图形都是高精度的图形。上述脚本运行过程中，需将Dummy图形与上述高精度设计图形进行布尔运算，Dummy图形数量极多，这一过程对计算机内存需求较大且运行时间较长，增加了整个版图的设计周期、检查周期和修改周期等，不利于产品开发和验证。

技术实现思路

[0003]本专利技术实施例提供一种冗余图形添加方法、电子设备和计算机可读存储介质，能够提高冗余图形的添加效率。
[000本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种冗余图形添加方法，所述方法包括：获取设计版图，所述设计版图包括至少一个设计图形；在所述设计版图上生成至少一个辅助图形，每个所述辅助图形将至少一个所述设计图形包围，所述辅助图形具有第一边界，所述辅助图形所包围的所述设计图形具有第二边界，所述第一边界与所述第二边界之间的距离大于预设的第一间距阈值，所述辅助图形的精度小于所述设计图形的精度；按照预设的设计规则，在所述设计版图上生成至少一个冗余图形单元，所述设计规则包括所述冗余图形单元与所述辅助图形不相交。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述冗余图形单元包括第一冗余图形单元和第二冗余图形单元，所述第二冗余图形单元的面积小于所述第一冗余图形单元的面积；所述按照预设的设计规则，在所述设计版图上生成至少一个冗余图形单元，包括：按照预设的设计规则，在所述设计版图上生成至少一个所述第一冗余图形单元；获取待调节区域，在所述待调节区域添加至少一个所述第二冗余图形单元，所述第二冗余图形单元满足所述设计规则。3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述获取待调节区域，包括：获取所述设计版图中不满足预设密度阈值的区域，并将所述不满足预设密度阈值的区域作为所述待调节区域。4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述按照预设的设计规则，在所述设计版图上生成至少一个所述第一冗余图形单元，包括：在所述设计版图上生成第一冗余图形单元阵列，所述第一冗余图形单元阵列包括多个阵列式排布的第一冗余图形单元；从所述第一冗余图形单元阵列中将不满足所述设计规则的第一冗余图形单元删除。5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：李凡，沈百林，李蒙，
申请(专利权)人：中兴光电子技术有限公司，
类型：发明
国别省市：