量子限域色转换层、其制备方法及应用技术

技术编号:36761339 阅读:33 留言:0更新日期:2023-03-04 10:56
本发明专利技术提供了一种量子限域色转换层、其制备方法及应用。该量子限域色转换层包括填充体和封装材料,封装材料封装在填充体表面;其中,填充体包括多孔骨架基质和色转换材料,色转换材料填充在多孔骨架基质的孔隙中;其中,多孔骨架基质的孔隙中,至少一个维度的尺寸≤10nm。本发明专利技术通过使用多孔骨架基质构建量子限域空间,结合生长填充于其上的色转换材料和包覆于其外的封装材料,来实现原有量子点的高光致发光效率,光子转换效率高、稳定性好、普适性强,可以少用甚至不用传统的量子点发光材料,从根本上克服了量子点自身稳定性差的问题,在保证较高发光效率的前提下,稳定性相对于量子点色转换层有极大改善。点色转换层有极大改善。点色转换层有极大改善。

【技术实现步骤摘要】
量子限域色转换层、其制备方法及应用


[0001]本专利技术涉及LED
,具体而言,涉及一种量子限域色转换层、其制备方法及应用。

技术介绍

[0002]基于色转换层的Mini/Micro

LED器件是目前Mini/Micro

LED超清显示技术实现的主要路径之一。目前,量子点色转换层是最为主流的色转换层,其成本低、色域广,已成功应用于显示市场。
[0003]量子点色转换层主要的优势在于量子点超高的光致发光效率,最高可达到接近100%的荧光量子产率,从而保证经过色转换后其发光效率不发生明显的衰减。这主要得益于发光半导体在制备成为三维尺寸小于10nm的量子点后会拥有量子限域效应,其光致激发产生的电子空穴对/激子会被限制在非常小的空间当中,大大增加了辐射复合的几率,从而增强了发光效率。
[0004]将量子点材料直接涂覆于Mini/Micro

LED发光芯片之上效果不佳,可能的原因是量子点直接与工作的芯片接触会有一定的热量传导,且直接向外暴露也会受到外界水氧影响,从而共同降本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种量子限域色转换层,其特征在于,包括填充体和封装材料,所述封装材料封装在所述填充体表面;其中,所述填充体包括多孔骨架基质和色转换材料,所述色转换材料填充在所述多孔骨架基质的孔隙中;其中,所述多孔骨架基质的孔隙中,至少一个维度的尺寸≤10nm。2.根据权利要求1所述的量子限域色转换层,其特征在于,所述多孔骨架基质的材料包括氧化物、
Ⅲ‑Ⅴ
族无机化合物和有机聚合物的一种或多种;优选地,所述氧化物包括Al2O3和/或TiO2;优选地,所述
Ⅲ‑Ⅴ
族无机化合物包括GaN和/或AlGaN;优选地,所述有机聚合物包括PMMA和/或PDMS。3.根据权利要求1或2所述的量子限域色转换层,其特征在于,所述多孔骨架基质的材料包括Al2O3、TiO2、SiO2、CaO和GaN的一种或多种。4.根据权利要求1至3中任一项所述的量子限域色转换层,其特征在于,所述色转换材料包括
Ⅱ‑Ⅵ
族半导体材料、
Ⅲ‑Ⅴ
族半导体材料、有机无机杂化钙钛矿材料、荧光粉材料、有机发光材料、有机染料和金属骨架复合材料的一种或多种;优选地,所述
Ⅱ‑Ⅵ
族半导体材料包括CdSe、CdS和InP的一种或多种;优选地,所述
Ⅲ‑Ⅴ
族半导体材料包括GaN、InGaN和AlGaInP的一种或多种;优选地,所述有机无机杂化钙钛矿材料包括CH3NH3PbI3和/或CsPbBr3;优选地,所述荧光粉材料包括锰掺杂卤磷酸钙、铕掺杂氧化钇和铽掺杂铝酸盐的一种或多种;优选地,所述有机发光材料包括联吡啶钌、TFB和TPBi的一种或多种;优选地,所述有机染料包括靛蓝、海昌蓝和钛菁的一种或多种;优选地,所述金属骨架复合材料包括ZIF

67@C3N4、ZIF

8@C3N4和ZIF

67@CsPbBr3的一种或多种。5.根据权利要求1至4中任一项所述的量子限域色转换层,其特征在于,所述色转换材料的吸收系数≥1

【专利技术属性】
技术研发人员:杨晓宇马莉卢长军
申请(专利权)人:利亚德光电股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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