透明荧光体及光源装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及透明荧光体及光源装置。一种透明荧光体，一方的面的表面比另一方的面的表面粗糙。粗糙。粗糙。

【技术实现步骤摘要】
透明荧光体及光源装置


[0001]本专利技术涉及透明荧光体及使用该透明荧光体的光源装置。

技术介绍

[0002]荧光体被广泛用作使用了LED或激光器的照明或投影仪用色调转换材料等。例如，在专利文献1中公开了一种几乎不存在成为光的散射的原因的孔隙或晶界等杂质的透明荧光体。透明荧光体因为结构致密，所以与粉末荧光体或不透明陶瓷等不透明荧光体相比，散热性及耐热性优异。因此，在使用激光器等高能量密度的激发光源时，也能够获得稳定的光量。另一方面，与不透明荧光体相比，由于荧光体内部的荧光的全反射而荧光被封入荧光体的内部的“内表面波导”等问题明显体现在透明荧光体上。
[0003]如果产生内表面波导，则荧光的发光点直径变大。如果发光点直径变大，则为了使产生的荧光聚光而需要大的光学部件，可能产生装置大型化、或在聚光困难的情况下随着光展量的增加而设备的发光光束降低等不利情况。
[0004]现有技术文献
[0005]专利文献
[0006]专利文献1：日本专利第6371201号

技术实现思路

[0007]本专利技术的目的在本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种透明荧光体，其中，在一对面中，一方的面比另一方的面粗糙。2.根据权利要求1所述的透明荧光体，其中，所述一对面彼此相对。3.根据权利要求1所述的透明荧光体，其中，所述一方的面的算术平均粗糙度IRa为0.80μm以上。4.根据权利要求1所述的透明荧光体，其中，所述另一方的面的算术平均粗糙度RRa为0.30μm以下。5.根据权利要求1所述的透明荧光体，其中，540nm的波长的光的透过率为70％以上。6.根据权利要求1所述的透明荧光体，其中，主成分的组成是A
x
B
y
O
z
，x为2.7～3.3，y为4.7～5.3，z为11.7～12.3，A是选自Y、Gd、Tb、Yb及Lu中的至少一种，B是选自Al、Ga及Sc中的至少一种，活化剂是选自镧系元素及锕系元素的至少一种。7.根据权利要求6所述的透明荧光体，其中，所述A是Y，所述B是Al，所述活化剂是选自Ce、Nd及Gd的至少一种，在将Y的含量设为100摩尔份...

【专利技术属性】
技术研发人员：照井达也，
申请(专利权)人：TDK株式会社，
类型：发明
国别省市：