本发明专利技术的目的在于提供一种可长期维持电弧放电的抑制效果的静电吸盘以及处理装置。提供一种静电吸盘，具备：接合部，设置在基板与基座板之间；气体导入路，具有位于基板的第1孔部、位于基座板的第2孔部和位于接合部的第3孔部；锪孔部，设置在第1孔部；多孔质部，具有第3孔部侧的第1面和第1面相反侧的第2面，设置在锪孔部；及弹性体，被设置成与接合部的第3孔部侧的端部相对，多孔质部的侧面具有第1面侧的第1侧部，在第1侧部中的至少与第1面相连的区域中，设置有倾斜的第1倾斜部，第1面与接合部及弹性体发生重叠，多孔质部在第1倾斜部处与弹性体发生接触。弹性体发生接触。弹性体发生接触。
【技术实现步骤摘要】
静电吸盘以及处理装置
[0001]本专利技术的形态涉及一种静电吸盘以及处理装置。
技术介绍
[0002]具备氧化铝等的陶瓷电介体基板及电极的静电吸盘在该电极上外加 静电吸附用电力，通过静电力来吸附硅晶片等基板。在这样的静电吸盘中，在 陶瓷电介体基板的表面与吸附对象物即基板的背面之间流入氦(He)等惰性气 体，对吸附对象物即基板的温度进行控制。
[0003]例如，在化学汽相沉积(CVD(Chemical Vapor Deposition))装置、 溅射(sputtering)装置、离子注入装置、蚀刻(etching)装置等对基板进行处 理的装置中，存在处理中会带来基板的温度上升的装置。在用于这样的装置的 静电吸盘中，在陶瓷电介体基板与吸附对象物即基板之间流入He等惰性气体， 通过使惰性气体接触基板来抑制基板的温度上升。
[0004]在通过He等惰性气体对基板温度进行控制的静电吸盘中，将用于导 入He等惰性气体的孔(气体导入路)设置于陶瓷电介体基板及支撑陶瓷电介体 基板的基座板。另外，在陶瓷电介体基板上设置连通于基座板的气体导入路的 穿通孔。由此，从基座板的气体导入路导入的惰性气体，通过陶瓷电介体基板 的穿通孔而被引导至基板的背面。
[0005]在此，在装置内对基板进行处理时，有时会发生从装置内的等离子体 朝向金属制的基座板的放电(电弧放电)。基座板的气体导入路及陶瓷电介体基 板的穿通孔有可能容易成为放电的路径。于是，存在如下技术，通过在基座板 的气体导入路或陶瓷电介体基板的穿通孔中设置多孔质部，从而提高对电弧放 电的抗性(绝缘强度等)。例如，在专利文献1中公开有如下静电吸盘，通过在 气体导入路内设置陶瓷烧结多孔体，将陶瓷烧结多孔体的构造及膜孔作为气体 流路，从而提高在气体导入路内的绝缘性。另外，在专利文献2中公开有如下 静电吸盘，在基座板的气体导入路及陶瓷电介体基板的穿通孔中，配置有陶瓷 制的多孔体。另外，在专利文献3中记载有如下技术，在基座板的气体导入路 或陶瓷电介体基板的穿通孔中配置陶瓷制的多孔体，同时在对基座板与陶瓷电 介体基板进行粘接的粘接层中，在向气体导入路及/或穿通孔露出的部位配置保 护材，由此抑制粘接剂的腐蚀。在这样的静电吸盘中，要求长时间维持电弧放电的抑制效果。
[0006]专利文献专利文献1：日本特开2010
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123712号公报专利文献2：美国专利US2017/0352568号公报专利文献3：日本特开2021
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057468号公报
技术实现思路
[0007]本专利技术是基于这样的问题的认知而进行的，所要解决的技术问题是提 供一种可长期维持电弧放电的降低效果的静电吸盘以及处理装置。
[0008]第1专利技术为一种静电吸盘，具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对 象物的第1主面和所述第1主面相反侧的第2主面；基座板，支撑所述陶瓷电 介体基板，具有所述陶瓷电介体基板侧的上面和所述上面的相反侧的下面；接 合部，设置在所述陶瓷电介体基板与所述基座板之间；气体导入路，穿通所述 陶瓷电介体基板、所述基座板和所述接合部，具有位于所述陶瓷电介体基板的 第1孔部、位于所述基座板的第2孔部和位于所述接合部的第3孔部；锪孔部， 设置在所述第1孔部；陶瓷多孔质部，具有所述第3孔部侧的第1面和所述第1 面相反侧的第2面，设置在所述锪孔部；及弹性体，被设置成与所述接合部的 所述第3孔部侧的端部相对，其特征为，所述陶瓷多孔质部还具有连接所述第1 面与所述第2面的侧面，所述侧面具有：所述第1面侧的第1侧部；所述第2 面侧的第2侧部；及所述第1侧部与所述第2侧部之间的第3侧部，而且，当 将从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的方向作为第1方向且将与所述第1 方向大致正交的方向作为第2方向时，在所述第1侧部中的至少与所述第1面 相连的区域中，设置有相对于所述第1方向发生倾斜的第1倾斜部，当在所述 第2方向上观察时，所述第1面与所述接合部及所述弹性体发生重叠，所述陶 瓷多孔质部构成为，在所述第1倾斜部处与所述弹性体发生接触。
[0009]使用时静电吸盘暴露于较大温度变化下，而陶瓷电介体基板及/或基 座板有时因热而发生膨胀或收缩。此时，由于缘于热的应力也施加到设置在气 体导入路的第1孔部的陶瓷多孔质部，因此有时多孔质部发生膨胀而向第3孔 部侧发生变形。根据该静电吸盘，设置有弹性体，该弹性体构成为，在陶瓷多 孔质部中的第1面侧的第1侧部处接触第1倾斜部，该第1倾斜部设置在与第1 面相连的区域中。因此，由于通过第1倾斜部及弹性体吸收陶瓷多孔质部的变 形，所以能够抑制陶瓷多孔质部的破损。因此，可长期维持电弧放电的抑制效 果。另外，由于在第3孔部处与接合部的端部相对而配置弹性体，因此在使用 静电吸盘时能够抑制端部被等离子体所腐蚀而产生颗粒。另外，当在第2方向 上观察时，第1面构成为与接合部及弹性体发生重叠，因此能够提高抗击穿性。
[0010]第2专利技术为如下静电吸盘，其特征为，在第1专利技术中，所述陶瓷多孔 质部具有：具有透气性的多孔部；及与所述多孔部相比更致密的致密部，所述 致密部被配置成覆盖所述多孔部的外周，所述第1倾斜部设置在所述致密部。
[0011]根据该静电吸盘，由于接触弹性体的倾斜部的强度进一步提高，因此 有效地抑制陶瓷多孔质部的破损，从而可长期维持电弧放电的降低效果。
[0012]第3专利技术为如下静电吸盘，其特征为，在第1或第2专利技术中，所述第 1侧部由所述第1倾斜部所构成。
[0013]根据该静电吸盘，有效地抑制陶瓷多孔质部的破损，从而可长期维持 电弧放电的降低效果。
[0014]第4专利技术为如下静电吸盘，其特征为，在第3专利技术中，具备所述第3 侧部的至少一部分且连续于所述第1倾斜部的第2倾斜部，在所述锪孔部与所 述第2倾斜部之间，设置将所述陶瓷多孔质部固定于锪孔部的固定部。
[0015]根据该静电吸盘，由于能够将固定部配置在离开等离子体的位置，因 此能够抑制固定部被等离子体所腐蚀，可长期维持电弧放电的抑制效果。
[0016]第5专利技术为如下静电吸盘，其特征为，在第4专利技术中，所述第2侧部 的沿向所述第2方向的长度，大致相同于所述锪孔部的沿向所述第2方向的长 度。
[0017]根据该静电吸盘，在陶瓷多孔质部中，在最接近等离子体的第2侧部 与锪孔部之间几乎不存在间隙，因此可长期维持降低电弧放电的抑制效果。
[0018]第6专利技术为如下静电吸盘，其特征为，在第1或第2专利技术中，在所述 弹性体中，在接触所述第1倾斜部的部分处的沿向所述第1方向的长度，大于 所述接合部的沿向所述第1方向的长度。
[0019]根据该静电吸盘，由于弹性体成为在接合部的端部与陶瓷多孔质部之 间的物理性阻挡层，因此即使在接合部被等离子体所腐蚀而产生颗粒的情况下， 也能够抑制因该颗粒侵入陶瓷多孔质部而气体流量经时性下降。因此，可长时 间维持电弧放电的抑制效果。
[0020]第7专利技术为如下静电吸盘，其特征为，在第1或第2专利技术中，所述弹 性体呈环状，当在所本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种静电吸盘，具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面和所述第1主面相反侧的第2主面；基座板，支撑所述陶瓷电介体基板，具有所述陶瓷电介体基板侧的上面和所述上面的相反侧的下面；接合部，设置在所述陶瓷电介体基板与所述基座板之间；气体导入路，穿通所述陶瓷电介体基板、所述基座板和所述接合部，具有位于所述陶瓷电介体基板的第1孔部、位于所述基座板的第2孔部和位于所述接合部的第3孔部；锪孔部，设置在所述第1孔部；陶瓷多孔质部，具有所述第3孔部侧的第1面和所述第1面相反侧的第2面，设置在所述锪孔部；及弹性体，被设置成与所述接合部的所述第3孔部侧的端部相对，其特征为，所述陶瓷多孔质部还具有连接所述第1面与所述第2面的侧面，所述侧面具有：所述第1面侧的第1侧部；所述第2面侧的第2侧部；及所述第1侧部与所述第2侧部之间的第3侧部，而且，当将从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的方向作为第1方向且将与所述第1方向大致正交的方向作为第2方向时，在所述第1侧部中的至少与所述第1面相连的区域中，设置有相对于所述第1方向发生倾斜的第1倾斜部，当在所述第2方向上观察时，所述第1面与所述接合部及所述弹性体发生重叠，所述陶瓷多孔质部构成为，在所述第1倾斜部处与所述弹性体发生接触。2.根据权利要求1所述的静电吸盘，其特征为，所述陶瓷多孔质部具有：具有透气性的多孔部；及与所述多孔部相比更致密的致密部，所述致密部被配置成覆盖所述多孔部的外周，所述第1倾斜部设置在所述致密部。3.根据权利要求1或2所述的静电吸盘，其特征为，所述第1侧部由所述第1倾斜部所构成。4.根据权利要求3所述的静电吸盘，其特征为，具备所述第3侧部的至少一部分且连续于所述第1倾斜部的第2倾斜部，在所述锪孔部与所述第2倾斜部之间，设置将所述陶瓷多孔质部固定于锪孔部的固定部。5.根据权利要求4所述的静电吸盘，其特征为，所述第2侧部的沿向所述第2方向的长度，大致相同于所述锪孔部的沿向所述第2方向的长度。6.根据权利要求1或2所述的静电吸盘，其特征为，在所述弹性体中，在接触所述第1倾斜部的部分处的沿向所述第1方向的长度，大于所述接合部的沿向所述第1方向的长度。7.根据权利要求1或2所述的静电吸盘，其特征为，所述弹性体呈环状，当在所述第1方向上观察时，所述第1面被所述弹性体所围住。8.根据权利要求1或2所述的静电吸盘，其特征为，所述弹性体含有聚四氟乙烯及聚酰亚胺的至少任意一种。9.一种处理装置，其特征为，
具备：权利要求1或2所记载的静电吸盘；及能够向设置于所述静电吸盘的气体导入路供给气体的供给部。10.一种静电吸盘，具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面和所述第1主面相反侧的第2主面；基座板，支撑所述陶瓷电介体基板，具有所述陶瓷电介体基板侧的上面...
【专利技术属性】
技术研发人员：佐佐木雄基，白石纯，籾山大，河野玲绪，
申请(专利权)人：TOTO株式会社，
类型：发明
国别省市：
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