蒸镀掩模形成用转印膜及蒸镀掩模的制造方法技术

本发明专利技术提供一种能够形成缺损少的抗蚀图案的蒸镀掩模形成用转印膜及其应用。一种蒸镀掩模形成用转印膜及其应用，该蒸镀掩模形成用转印膜依次包括：临时支承体；及感光性层，包含具有30mgKOH/g以上的酸值的聚合物。具有30mgKOH/g以上的酸值的聚合物。具有30mgKOH/g以上的酸值的聚合物。

【技术实现步骤摘要】
蒸镀掩模形成用转印膜及蒸镀掩模的制造方法


[0001]本专利技术涉及一种蒸镀掩模形成用转印膜及蒸镀掩模的制造方法。

技术介绍

[0002]例如，蒸镀掩模被用作通过蒸镀法形成的图案的原版。作为蒸镀法的代表例，已知有真空蒸镀法。例如，在使用具有贯穿孔的蒸镀掩模的真空蒸镀法中，从汽化源汽化的物质通过配置于对象物上的蒸镀掩模的贯穿孔而附着于对象物上，从而形成图案。例如，蒸镀掩模的贯穿孔通过光刻来形成(例如，参考下述专利文献1及下述专利文献2)。
[0003]专利文献1：日本特开2020
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002470号公报
[0004]专利文献2：日本特开2019
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214788号公报
[0005]从抗蚀层的厚度均匀性的观点考虑，研究使用转印膜的蒸镀掩模的制造方法。例如，在使用转印膜的蒸镀掩模的制造方法中，蒸镀掩模经过用作蒸镀掩模的原材料的基材与转印膜的贴合、曝光、显影以及抗蚀剂剥离工序而制造。在蒸镀掩模的制造方法中，转印膜形成抗蚀图案，抗蚀图案在蚀刻中保护基材的一部分。
[0006]然而，在使用转印本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蒸镀掩模形成用转印膜，其依次包括：临时支承体；及感光性层，其包含具有30mgKOH/g以上的酸值的聚合物。2.根据权利要求1所述的蒸镀掩模形成用转印膜，其中，所述聚合物的酸值为270mgKOH/g以下。3.根据权利要求1或2所述的蒸镀掩模形成用转印膜，其中，所述感光性层的酸值为15mg/KOH以上。4.根据权利要求1或2所述的蒸镀掩模形成用转印膜，其中，所述感光性层的酸值为135mg/KOH以下。5.根据权利要求1或2所述的蒸镀掩模形成用转印膜，其在所述临时支承体与所述感光性层之间包含中间层。6.根据权利要求1或2所述的蒸镀掩模形成用转印膜，其中，所述临时支承体的平均厚度为50μm以下。7.根据权利要求1或2所述的蒸镀掩模形成用转印膜，其中，所述临时支承体的雾度值为5％以下。8.根据权利要求1或2所述的蒸镀掩模形成用转印膜，其中，所述聚合物的重均分子量为10000以上。9.根据权利要求1或2所述的蒸镀掩模形成用转印膜，其中，所述聚合物包含具有芳香环的结构单元。10.根据权利要求1或2所述的蒸镀掩模形成用转印膜，其中，所述感光性层包含具有双酚A结构的聚合性化合物。11.根据权利要求1或2所述的蒸镀掩模形成用转印膜，其中，所述感光性层包含选自具有肟酯结构的化合物、具有α
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羟基烷基苯酮结构的化合物、具有酰基氧化膦结构的化合物及具有三芳基咪唑结构的化合物中的至少一种聚合引发剂。12.根据权利要求1或2所述的蒸镀掩模形成用转印膜，其中，所述感光性层包含选自二烷基氨基二苯甲酮化合物、吡唑啉化合物、蒽化合物、香豆素化合物、氧蒽酮化合物、噻吨酮化合物、吖啶酮化合物、噁唑化合物、苯并噁唑化合物、噻唑化合物、苯...

【专利技术属性】
技术研发人员：有富隆志，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：