温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供一种能够形成缺损少的抗蚀图案的蒸镀掩模形成用转印膜及其应用。一种蒸镀掩模形成用转印膜及其应用，该蒸镀掩模形成用转印膜依次包括：临时支承体；及感光性层，包含具有30mgKOH/g以上的酸值的聚合物。具有30mgKOH/g以上的酸值的...
该专利属于富士胶片株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过富士胶片株式会社授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。