【技术实现步骤摘要】
一种半导体产品用喷砂机
[0001]本技术涉及半导体产品加工设备领域,具体涉及一种半导体产品用喷砂机。
技术介绍
[0002]当前,在做半导体芯片加工过程中,硅片要经过喷砂处理,以去除表面氧化层,在硅片背面形成软损伤层,在现有技术中存在如下问题;
[0003]例如在公开号为CN115194660A的一种硅片喷砂机构,该装置未对喷砂部分进行封闭,容易造成环境污染,且设备的传动装置和喷砂装置处于一个空间没有隔离,导致传动装置很快被砂子研磨、阻塞等问题,导致装置不能运行或者严重磨损,无法使用。
[0004]针对上述存在的问题,针对性的设计一种半导体产品用喷砂机。
技术实现思路
[0005]本技术就是针对上述中所存在的问题,针对性地设计一种半导体产品用喷砂机,使其运动时平稳匀速,对产品喷砂均匀,减少对车间环境的污染,防止运动机构的零部件被污染及加速磨损影响性能。
[0006]为实现上述目的,本技术提供一种半导体产品用喷砂机,包括基架、移动装置、喷砂设备、直线驱动调速装置、喷砂室和传送带;所述喷砂室
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种半导体产品用喷砂机,其特征在于:包括基架(1)、移动装置(2)、喷砂设备、直线驱动调速装置(4)、喷砂室(5)和传送带(8);所述喷砂室(5)为长方体方形;所述基架(1)上方两侧均安装有轨道(11),所述喷砂室(5)固定连接在基架(1)上;所述移动装置(2)的主体处在喷砂室(5)内,且所述移动装置(2)两端分别伸出喷砂室(5)与对应的轨道(11)滚动或滑动连接;所述喷砂设备包括多个喷头(3),多个所述喷头(3)安装在移动装置(2)下部;所述直线驱动调速装置(4)安装在所述基架(1)上;所述直线驱动调速装置(4)与移动装置(2)驱动连接并能带动移动装置(2)沿着轨道(11)移动;所述传送带(8)水平穿过喷砂室(5)且位于喷头(3)的下方,并且传送带(8)传送方向与轨道(11)长度方向垂直。2.根据权利要求1所述的一种半导体产品用喷砂机,其特征在于:所述移动装置(2)包括横杆(21)、滚轮(22)和连杆(23),所述横杆(21)的两端分别转动连接所述滚轮(22),所述滚轮(22)与轨道(11)滚动连接;所述连杆(23)的一端与所述横杆(21)中心固定连接,所述连杆(23)的另一端与所述直线驱动调速装置(4)驱动连接;所述连杆(23)垂...
【专利技术属性】
技术研发人员:汪良恩,王锡康,姜兰虎,
申请(专利权)人:山东芯源微电子有限公司,
类型:新型
国别省市:
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