【技术实现步骤摘要】
一种用于印制线路板脉冲填孔电镀的整平剂及其应用
[0001]本专利技术属于电镀
,具体涉及一种用于印制线路板脉冲填孔电镀的整平剂及其应用。
技术介绍
[0002]为了提高印制电路板(PCB或PWB)的机械强度,布线密度,散热性能、电信号性能等,在高密度(HDI)线路板中存在大量的微盲孔设计,这些盲孔需要进行电镀铜进行填充。目前所采取的电镀方式主要有两种,一种是采用直流电源,在硫酸铜为主盐的电镀槽中进行电镀铜填充盲孔,这种电镀工艺大多数在龙门线或者VCP电镀线上完成;另一种是采用脉冲电源进行电镀铜填充盲孔,这种电镀工艺几乎都在水平电镀线上完成。水平电镀线中由于阳极结构和分布特殊、阴阳极间距极小,喷流及喷嘴特殊设计等构造特点,可以使用脉冲电源进行高电流密度填充盲孔,填孔效果良好而且板面电镀铜层厚度薄。多年来,水平电镀线设备、各制程中化学药液技术为国外公司所垄断,导致PCB厂商投资巨大,生产成本过高。
[0003]在水平线脉冲电镀铜槽中,除主盐硫酸铜含量很高外,还含有其它大量的其它盐类物质,常温下容易结晶析出,造成喷 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于印制线路板脉冲填孔电镀的整平剂,其特征在于,所述整平剂的结构包括:其中Ar表示苯环或萘环;R独立地选自氢、卤素、巯基、硝基、羟基、醛基、C1
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10烷基、C1
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8烷氧基中的任意一种;n独立地为1
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5中任意的整数。2.根据权利要求1所述的用于印制线路板脉冲填孔电镀的整平剂,其特征在于,所述醛基选自甲醛基或乙醛基。3.根据权利要求1或2所述的用于印制线路板脉冲填孔电镀的整平剂,其特征在于,所述C1
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10烷基选自甲基、乙基或正丙基中的任意一种;优选地,所述C1
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8烷氧基选自甲氧基、乙氧基或辛氧基中的任意一种。4.根据权利要求1
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3中任一项所述的整平剂在印制线路板脉冲填孔电镀中的应用。5.一种电镀液,其特征在于,所述电镀液包括权利要求1
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3中任一项所述的用于印制线路板脉冲填孔电镀的整平剂。6.根据权利要求5所述的电镀液,其特征在于,所述电镀液按照质量浓度计包括如下组分:分:权利要求1
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3中任一项所述的整平剂0.0005
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0.015g/L。7.根据权利要求6所述的电镀液,其特征在于,所述铁离子的提供物包括含铁的可溶性无机盐及其衍生物、或电解条件下可溶解的无机铁盐及其衍生物;优选地,所述铁离子的提供物包括硫酸铁和/或氯化铁;优选地,所述铁离子的质量浓度为1.5
‑
10g/L;优选地,所述氯离子的提供物包括氯化盐和/或盐酸;优选地,所述氯化盐包括氯化钾...
【专利技术属性】
技术研发人员:熊海平,牟星宇,
申请(专利权)人:上海天承化学有限公司,
类型:发明
国别省市:
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