一种基于BIM的二结构深化方法技术

本发明专利技术涉及一种基于BIM的二结构深化方法，其步骤为：1)基本模型建立：根据设计图纸，完成主体结构模型、盾构模型、机电模型的建立；2)在模型中进行合模，通过碰撞检测发现各专业图纸模型的冲突，根据结论进行图纸及模型的深化工作；3)建立二结构模型，并根据各专业机电管线图纸初步确定机电管线预留洞及墙体开槽位置；4)在二结构模型中利用BIM技术优化二结构墙体、圈梁构造柱、过梁位置及数量，完成二结构深化模型；5)根据需要随时生成各位置二结构平立剖面图，并进行统计分析；6)现场按二结构平立剖面图纸施工。本发明专利技术可用于盾构工程建设过程中二结构的深化，通过BIM技术在次结构深化设计上的应用。化设计上的应用。化设计上的应用。

【技术实现步骤摘要】
一种基于BIM的二结构深化方法


[0001]本专利技术涉及一种市政盾构工程建设过程中的二次结构深化技术，尤其是一种基于BIM技术的二结构深化及实现方法。

技术介绍

[0002]随着盾构工程行业的不断发展，在工程项目中需要考虑的要点也就越来越多，因此在传统的施工中也会插入很多深化设计来进行工程项目的完善。盾构二结构施工往往是在主体结构即将施工完成，盾构进出洞完成后，机电安装陆续插入时进行的，体现了多专业的穿插协同施工。二结构施工质量将直接影响与后期施工之间的交接，那么在传统施工过程中往往会存在以下问题：
[0003](1)图纸描述不清晰，图纸中对于二次结构的描述一般多为文字叙述，例如构造柱设置于转角处、端部、墙厚变化处，且不大于四米设置1个构造柱。门口设置抱框、门口上方根据门窗宽度设置不同高度的过梁，层高超过4m设置圈梁等，有些部位只能靠凭空想象。
[0004](2)盾构井接头位置的二结构墙洞涉及建筑主体结构及盾构部分的机电综合布线穿插，涉及多方协同工作，日后必会涉及管道、桥架的调整，洞口留置十分麻烦，且后期修补、堵洞会造成多家扯本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于BIM的二结构深化方法，其特征在于，具体步骤如下：(1)基本模型建立：根据设计图纸，完成主体结构模型、盾构模型、机电模型的建立；(2)在模型中进行合模，通过碰撞检测发现各专业图纸模型的冲突，根据结论进行图纸及模型的深化工作；(3)建立二结构模型，并根据各专业机电管线图纸初步确定机电管线预留洞及墙体开槽位置；(4)在二结构模型中利用BIM技术...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵震麟，
申请(专利权)人：上海市基础工程集团有限公司，
类型：发明
国别省市：