一种测量密封真空管中气体成分的装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种测量密封真空管中气体成分的装置及方法，所述装置包括：取样腔，所述取样腔内设有样品夹具；第一分子泵，入气口与所述取样腔连接；第一机械泵，与所述第一分子泵的抽气口连接；第一全量程真空计，与所述取样腔连接；质谱分析腔，与所述取样腔通过流导组件和压电陶瓷阀连接；第二分子泵，入气口与所述质谱分析腔连接；第二机械泵，与所述第二分子泵的抽气口连接；第二全量程真空计，与所述质谱分析腔连接；机械刺穿机构，设置于所述取样腔上；以及四极质谱仪，设置于所述质谱分析腔上。本发明专利技术可用于密封真空管中气体成分的检测，具备极高的通用性、便捷性和可控性。便捷性和可控性。便捷性和可控性。

【技术实现步骤摘要】
一种测量密封真空管中气体成分的装置及方法


[0001]本专利技术涉及气体成分检测领域，具体涉及一种测量密封真空管中气体成分的装置及方法。

技术介绍

[0002]密封真空管在科研和工业生产中有着大量的应用，例如在晶体生长、单晶退火处理中，密封真空管可以将样品实现特定真空环境，但是其中剩余气体组分对样品的性质有很强的影响，例如铜氧高温超导体的退火中氧分压；某些功能器件需要特定的气体环境才能稳定工作，例如某些电器开关、气体光源；某些设备的特定气体组件，例如气体激光器中的特定密封气室，或倍频晶体工作的气体环境等。因此基于密封真空管的气体成分分析，可以对特定需求设计密封气体组分环境进行指导，从而提高材料性能或器件工作效率。
[0003]目前测量真空密封微腔体残余气体压力及成分的装置，主要包括进样腔、测试室、真空抽气系统、真空测量系统、固定流导组件、样品电击穿装置、加热装置、质谱分析系统和控制系统，利用动态流导法可以实现真空封装腔体气体体积测定以及利用四极质谱仪实现残余气体成分分析。但是，由于加装了进样腔配合传样杆操作，因此仅对特定型号的真空管类型本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种测量密封真空管中气体成分的装置，其特征在于，所述装置包括：取样腔(VC1)，所述取样腔(VC1)内设有样品夹具；第一分子泵(TMP1)，入气口与所述取样腔(VC1)连接；第一机械泵(PR1)，与所述第一分子泵(TMP1)的抽气口连接；第一全量程真空计(G1)，与所述取样腔(VC1)连接；质谱分析腔(VC2)，与所述取样腔(VC1)通过流导组件(C
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)和压电陶瓷阀(V7)连接；第二分子泵(TMP2)，入气口与所述质谱分析腔(VC2)连接；第二机械泵(PR2)，与所述第二分子泵(TMP2)的抽气口连接；第二全量程真空计(G2)，与所述质谱分析腔(VC2)连接；机械刺穿机构，设置于所述取样腔(VC1)上；以及四极质谱仪(QMS)，设置于所述质谱分析腔(VC2)上。2.根据权利要求1所述的测量密封真空管中气体成分的装置，其特征在于，所述装置还包括：第一真空阀门(V1)，设置于所述第一分子泵(TMP1)与所述取样腔(VC1)之间；第二真空阀门(V2)，设置于所述第二分子泵(TMP2)与所述质谱分析腔(VC2)之间；第三真空阀门(V3)，设置于所述第一全量程真空计(G1)与所述取样腔(VC1)之间；第四真空阀门(V4)，设置于所述第二全量程真空计(G2)与所述质谱分析腔(VC2)之间；第五真空阀门(V5)，设置于所述流导组件(C
T
)与所述质谱分析腔(VC2)之间；第六真空阀门(V6)，设置于所述压电陶瓷阀(V7)与所述质谱分析腔(VC2)之间。3.根据权利要求1或2所述的测量密封真空管中气体成分的装置，其特征在于，所述取样腔(VC1)和所述质谱分析腔(VC2)的腔壁采用真空冶炼钢材，且所述取样腔(VC1)和所述质谱分析腔(VC2)为高温烘烤释放应力腔体，所述取样腔(VC1)和所述质谱分析腔(VC2)的放气率小于10
‑
11
Pam3/s.cm2。4.根据权利要求1或2所述的测量密封真空管中气体成分的装置，其特征在于，所述流导组件(C
T
)流速范围为10
‑5～10
‑7m3/s。5.根据权利要求4所述的测量密封真空管中气体成分的装置，其特征在于，所述第一全量程真空计(G1)的读数小于...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨传森，卢耀文，宋春尧，吴端，陈静，梁明超，陈千睿，
申请(专利权)人：北京东方计量测试研究所，
类型：发明
国别省市：