一种阻尼布制造技术

本申请涉及磨光材料的技术领域，具体公开了一种阻尼布，其包括基布、设置于所述基布其中一面的第一胶层、设置于所述基布另一面的无痕胶层以及设置于所述第一胶层背离所述基布一面的阻尼层。本申请采用无痕胶作为阻尼布与抛光机的粘接面，无痕胶粘性好且不易残留胶痕，在更换阻尼布时，将无痕胶层从抛光机上取下后，不会有胶痕在抛光机上残留，解决了传统胶水残留的胶痕容易导致工件表面打磨平整度不佳的问题，同时无痕胶也更便于阻尼布的拆装，降低了阻尼布更换时的难度，方便操作。方便操作。方便操作。

【技术实现步骤摘要】
一种阻尼布


[0001]本申请涉及磨光材料的
，尤其是涉及一种阻尼布。

技术介绍

[0002]阻尼布是一种丝绒状的磨光材料，具有表面柔软、多孔、有弹性和抛光效果良好等特点。阻尼布进行抛光待加工件时，可有效含浸研磨液，提高对待加工件表面摩擦抛光的同时，避免划伤工件。阻尼布是一种常用的镜面效果加工材料，使用于光学元件、晶体、金属和玻璃材料的终道抛光；也可用来抛光特殊材质，例如：硅、锗、硒、锌、砷化镓、合金钢、陶瓷和塑料(丙烯酸玻璃)等。阻尼布在进行使用时，常用于与抛光机固定连接，由于阻尼布为形变材料，目前通常是通过胶水粘接的方式将阻尼布与抛光机固定于一起，能够保证良好的固定效果。
[0003]但是阻尼布在抛光打磨过程中会出现磨损的情况，因此需要经常进行更换，更换阻尼布时抛光机上会有残留的胶，不易清理，长时间使用后，会导致抛光机局部位置因有胶水残留而导致平整度较差，造成工件的打磨精度降低。

技术实现思路

[0004]为了改善在更换阻尼布时抛光机上容易残留胶的问题，本申请提供一种阻尼布。
[0005]本申请提供的一种阻本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种阻尼布，其特征在于：包括基布（1）、设置于所述基布（1）其中一面的第一胶层（2）、设置于所述基布（1）另一面的无痕胶层（3）以及设置于所述第一胶层（2）背离所述基布（1）一面的阻尼层（4）。2.根据权利要求1所述的一种阻尼布，其特征在于：所述无痕胶层（3）与所述基布（1）的接触面为不规则面。3.根据权利要求1所述的一种阻尼布，其特征在于：所述无痕胶层（3）背离所述基布（1）的一面设置有隔离膜（5）。4.根据权利要求1所述的一种阻尼布，其特征在于：所述阻尼层（4）朝向所述第一胶层（2）的一侧设置有吸液层（6），所述吸液层（6）由粘胶纤维（61）经纬编织组成，所述吸液层（6）与所述基布（1...

【专利技术属性】
技术研发人员：胡结明，叶智远，
申请(专利权)人：深圳市燕泰电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：