CVD反应中金属熔体自动给料装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了CVD反应中金属熔体自动给料装置，包括反应炉，反应炉内底部设置坩埚，坩埚上部配置CVD反应室，CVD反应室底部开设喷嘴反应炉连接真空泵B，坩埚上垂直连接管道，管道上连通漏斗，漏斗内放置若干固体金属球，漏斗底部设置球阀。本实用新型专利技术坩埚内液态金属汽化保持平衡，不需要通过加热器消耗大量热量，坩埚温度及坩埚内蒸汽压力的调节平稳。坩埚温度及坩埚内蒸汽压力的调节平稳。坩埚温度及坩埚内蒸汽压力的调节平稳。

【技术实现步骤摘要】
CVD反应中金属熔体自动给料装置


[0001]本技术属于CVD反应
，涉及CVD反应中金属熔体自动给料装置。

技术介绍

[0002]在CVD反应中，根据反应气体分子的摩尔量，调整气体的投入量以符合化学量论平衡，并发生一定的化学反应。此时，如果反应的两个分子在常温下为气态，则气体的投入量由气体质量流量控制器调节，使其与反应的两个分子的摩尔比相匹配地投入，从而发生所需的化学反应。但对于反应分子在常温下(或在60℃以上)不以气体状态存在的金属，则需将金属溶解、汽化，使其成为气体的金属分子，在反应室与其他气体的分子发生反应，实现沉积。与常温下为气态气体不同，需要加热汽化的金属很难精确调节蒸发量，而且与外部可持续供应的气体不同，在常温下为固体的金属，在生产开始前首先需要装入反应炉，先将固态金属加热熔化为液态，然后再将液态金属熔体在高温下汽化，汽化后的金属蒸汽被投入到反应室。
[0003]初始固体金属投入量决定整个工艺时间，如果金属消耗殆尽，工艺将无法继续进行。工艺开始前一次性投入大量得金属固体将对反应炉空间有所制约，在给定的反应炉空间内，相本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.CVD反应中金属熔体自动给料装置，其特征在于，包括反应炉(20)，反应炉(20)内底部设置坩埚(3)，坩埚(3)上部配置CVD反应室(2)，CVD反应室(2)底部开设喷嘴(1)，反应炉(20)连接真空泵B(14)，坩埚(3)上垂直连接管道(11)，管道(11)上连通漏斗(9)，漏斗(9)内放置若干固体金属球(7)，漏斗(9)底部设置球阀(8)。2.根据权利要求1所述的CVD反应中金属熔体自动给料装置，其特征在于，所述坩埚(3)开设气态通孔(4)，气态通孔(4)连通CVD反应室(2)，CVD反应室(2)内壁设置沉积板(5)，真空泵B(14)通过真空泵管路连接至CVD反应室(2)。3.根据权利要求1所述的CVD反应中金属熔体自动给料装置，其特征在于，所述球阀(8)电连接电机(12)，漏斗(9)顶部通过盖板密封，漏斗(9)顶部贯通盖板连接排气阀(10)，漏斗(9)上通过盖板连接真空泵A(13)；...

【专利技术属性】
技术研发人员：闫兴隆，金荣岩，申柱炫，梁银杰，
申请(专利权)人：西安全谱红外技术有限公司，
类型：新型
国别省市：