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本实用新型公开了CVD反应中金属熔体自动给料装置，包括反应炉，反应炉内底部设置坩埚，坩埚上部配置CVD反应室，CVD反应室底部开设喷嘴反应炉连接真空泵B，坩埚上垂直连接管道，管道上连通漏斗，漏斗内放置若干固体金属球，漏斗底部设置球阀。本实用...
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