一种光场多维度调制器件、制备方法及其应用技术

技术编号:36703633 阅读:28 留言:0更新日期:2023-03-01 09:22
本发明专利技术公开了一种光场多维度调制器件、制备方法及其应用。该器件包括第一基板、第二基板、第一电极层、第二电极层、第一取向层、第二取向层以及蓝相液晶层;蓝相液晶层包括液晶与聚合物混合层,其中棒状液晶分子形成双螺旋扭曲棱柱,棱柱的旋性决定调制光场的偏振;双螺旋扭曲棱柱三维堆积形成立方晶格结构,立方晶格结构的晶格常数对应决定调制光场的波长,立方晶格结构的晶面取向角决定调制光场的相位。本发明专利技术通过对多层级、跨尺度结构的灵活控制,系统性地实现了蓝相液晶对光场偏振、波长、相位及强度的高效调制,提供了光学多维度独立操控的可行性,可应用于光计算、光通信、高光谱成像、彩色全息显示等领域,推动了现有光学系统的发展。的发展。的发展。

【技术实现步骤摘要】
一种光场多维度调制器件、制备方法及其应用


[0001]本专利技术涉及光学器件
,尤其涉及一种光场多维度调制器件、制备方法及其应用。

技术介绍

[0002]在日新月异的大数据时代,以人工智能、5G/6G通讯、自动驾驶、虚拟/增强现实、全息显示等为标志的新型技术对超大容量信息处理、传输、交互能力的需求日益增长。为了打破“电”处理信息能力有限的僵局,以“光”为媒介的光通信和光计算被广泛认为未来信息领域的变革性技术。通过对光场各自由度的独立操控可实现多维度信息的并行处理,增大信道带宽,为高速、大容量光信息处理能力奠定基础。目前,对光场各维度参数进行独立、准确、高效编码已经成为了光信息
的核心难题。
[0003]蓝相液晶作为一种具有三维周期性结构的特殊液晶相态,其手性、晶格常数及晶格方位角分别对应于调制光场的偏振、波长及相位信息,可实现对光场多维度的独立操控,避免维度之间串扰导致的低效、低灵活性等问题。同时,利用蓝相液晶制备多维度光场调制的光学器件具备独特的窄光子带隙、宽视角偏振选择性和全方位光场调制特性,可实现窄带、大角度、多维度的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光场多维度调制器件,其特征在于,用于对光场的偏振、波长以及相位信息独立调制;包括:相对设置的第一基板、第二基板以及位于所述第一基板和所述第二基板之间的蓝相液晶层;所述第一基板的一侧设置有第一电极层,所述第一基板靠近所述第二基板的一侧设置有第一取向层,所述第二基板的一侧设置有第二电极层,所述第二基板靠近所述第一基板的一侧设置有第二取向层;所述蓝相液晶层包括液晶与聚合物混合层,所述液晶与聚合物混合层中纳米尺度的棒状液晶分子在材料体系中的手性强度诱导下形成数十纳米尺度的双螺旋扭曲棱柱;所述双螺旋扭曲棱柱三维堆积,形成百纳米尺度的立方晶格结构;所述第一取向层和所述第二取向层包括预设的平面排布的取向图案,所述取向图案诱导所述立方晶格结构按照预设的取向进行自组装;其中,所述双螺旋扭曲棱柱的空间旋性决定调制光场的偏振,与所述双螺旋扭曲棱柱的旋性匹配的光被反射,与所述双螺旋扭曲棱柱的旋性相反的光被透射;所述立方晶格结构的晶格常数决定调制光场的波长,利用控制材料配比和/或外部条件操控所述立方晶格结构的晶格常数,以调节反射中心的波长,所述立方晶格结构的晶格常数越大,调制光场的波长越长;所述立方晶格结构的晶面取向决定调制光场的相位,利用外部条件操控所述立方晶格结构的晶面取向,以调制反射光的相位。2.根据权利要求1所述的光场多维度调制器件,其特征在于,所述双螺旋扭曲棱柱的初始旋性由所述液晶与聚合物混合层中掺入手性剂的手性决定;所述立方晶格的初始晶格常数由所述液晶与聚合物混合层中掺入手性剂的浓度决定。3.根据权利要求1所述的光场多维度调制器件,其特征在于,利用外部条件控制所述液晶与聚合物混合层中结构均匀程度操纵蓝相液晶晶界范围,以调制光场的振幅。4.根据权利要求1或3所述的光场多维度调制器件,其特征在于,所述外部条件包括电场、光场或调节温度。5.根据权利要求1所述的光场多维度调制器件,其特征在于,所述液晶与聚合物混合层包括向列相液晶、手性剂、聚合物单体和光引发剂。6.根据权利要求1所述的光场多维度调制器件,其特征在于,所述第一电极层位于所述第一基板靠近所述第二基板的一侧或所述第一基板和所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员:胡伟王馨悦陈全明胡清
申请(专利权)人:南京宁萃光学科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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