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一种一次烧成胚体的日用青瓷施釉设备制造技术

技术编号:36693112 阅读:26 留言:0更新日期:2023-02-27 20:02
本发明专利技术公开了一种一次烧成胚体的日用青瓷施釉设备,包括工作台,所述工作台顶端固定设有放置台、浸泡箱、烘干箱,所述工作台的一侧设有输送机,所述工作台顶端四角通过支柱固定设有顶板,所述顶板的一侧设有固定设有L型板,且所述L型板上固定设有伸缩电机,所述顶板另一侧底端固定设有竖板,所述竖板和所述L型板之间固定设有滑杆,所述滑杆上滑动套设有滑块,所述伸缩电机的输出端与所述滑块,所述滑块底端固定设有副伸缩电机,所述副伸缩电机的输出底端固定设有升降台,所述升降台底端两侧通过支杆分别固定设有矩块。有益效果:通过机械化的夹紧的青瓷,避免人工端起大体积重量的青瓷容器,起到很好的人工省力作用。起到很好的人工省力作用。起到很好的人工省力作用。

【技术实现步骤摘要】
一种一次烧成胚体的日用青瓷施釉设备


[0001]本专利技术涉及青瓷施釉领域,具体来说,涉及一种一次烧成胚体的日用青瓷施釉设备。

技术介绍

[0002]青瓷制品作为生活中的日常用品,在制备时利用特定温度对塑形完成的坯料进行烧制,进而得到特定形状的产品,部分青瓷制品需要进行上釉步骤,进而改善青瓷制品的表面性能,但是目前大多青瓷制品生产厂家均通过人工施釉,人工施釉无法保证青瓷制品施釉面与釉液的水平,进而容易导致施釉后的青瓷制品釉面高度无法统一,且人工施釉存在一定的人为误差,无法保证施釉过程中青瓷制品表面釉层的均匀,造成同一制品中釉层厚度有差异,后期烧制时不同厚度的釉层存在色差甚至出现硬度不同的问题。
[0003]针对相关技术中的问题,目前尚未提出有效的解决方案。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种一次烧成胚体的日用青瓷施釉设备,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的,本专利技术提供如下技术方案:
[0006]一种一次烧成胚体的日用青瓷施釉设备,包括工作台,所述工作台顶端本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种一次烧成胚体的日用青瓷施釉设备,其特征在于,包括工作台(1),所述工作台(1)顶端固定设有放置台(2)、浸泡箱(3)、烘干箱(4),所述工作台(1)的一侧设有输送机(5),所述工作台(1)顶端四角通过支柱固定设有顶板(6),所述顶板(6)的一侧设有固定设有L型板(7),且所述L型板(7)上固定设有伸缩电机(8),所述顶板(6)另一侧底端固定设有竖板,所述竖板和所述L型板(7)之间固定设有滑杆(9),所述滑杆(9)上滑动套设有滑块(10),所述伸缩电机(8)的输出端与所述滑块(10),所述滑块(10)底端固定设有副伸缩电机(11),所述副伸缩电机(11)的输出底端固定设有升降台(19),所述升降台(19)底端两侧通过支杆(12)分别固定设有矩块(13),所述矩块(13)的底端一侧固定设有三角形板(14),所述矩块(13)底端下方且位于所述三角形板(14)的一侧设有U型架(15),所述三角形板(14)的底部一侧面上重叠式的链接有两个弯曲夹杆(16),所述弯曲夹杆(16)上开设有滑动槽(17),所述U型架(15)的底部两端上固定设有穿进对应的所述滑动槽(17)内部的滑动杆(18),所述U型架(15)上还具有稳定组件,所述升降台(19)的底端中部固定设有驱动电机(20),所述驱动电机(20)的输出底端固定设有副升降台(21),所述副升降台(21)两端分别与对应的所述U型架(15)固定连接,所述弯曲夹杆(16)伸入青瓷胚体(22)内部。2.根据权利要求1所述的一种一次烧成胚体的日用青瓷施釉设备,其特征在于,所述稳定组件包括贯穿所述U型架(15)的副U型架(23),所述三角形板(14)底部一侧面重叠式的链接有两个副弯曲夹杆(24),所述副弯曲夹杆(24)上开设有副滑动槽(25),所述副U型架(23)两端面上均固定设有贯穿对应的所述副滑动槽(25)的副滑动杆(26)。3.根据权利要求2所述的一种一次烧成胚体的日用青瓷施釉设备,其特征在于,所述副滑动杆(26)和所述滑动杆(18)均T型圆杆,所述弯曲夹杆(16)和所述副弯曲夹杆(24)的夹紧外端面上均粘贴有软质的橡胶垫(27),所述副U型架(23)固定在所述U型架(15)的内顶端。4.根据权利要求3所述的一种一次烧成胚体的日用青瓷施釉设备,其特征在于,所述橡胶垫(27)上具有弧形的接触面,其中一个所述弯曲夹杆(16)内部开设有一个放...

【专利技术属性】
技术研发人员:丁军良丁小良丁绍杰丁晓语
申请(专利权)人:丁小良
类型:发明
国别省市:

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