【技术实现步骤摘要】
一种图案形成装置的调节与保护系统及方法
[0001]本公开涉及光刻设备
，具体涉及一种图案形成装置的调节与保护系统及方法。
技术介绍
[0002]图案形成装置(掩模或掩模版)密切关联着曝光的结果，影响着检焦、对准和工件台(含晶圆)等分系统的空间布局和功能的实现，因此图案形成装置的精密装载定位十分关键。
[0003]投影光刻设备中，图案形成装置位于投影物镜上方，装载空间完全可以满足图案形成装置安装在六轴调节平台上方，因此对图案形成装置的装载定位要求较低。即使传输机械手无法将图案形成装置装载到目标位置时，也可以通过六轴调节平台调整到目标定位精度。
[0004]在接触、接近或近场光刻中，图案形成装置与晶圆的间距仅为微米及以下，甚至是接触状态，为了便于图案形成装置的自动传输装载，图案形成装置只能倒立吸附安装在吸盘上。这将带来两个方面难题：一是装载和调节图案形成装置的所有结构都必须高于图案形成装置图案面，以实现晶圆紧贴图案形成装置进行步进光刻，但是这样就完全没有空间安装用于图案形成装置位置修正的六轴调节平台；二是...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种图案形成装置的调节与保护系统，其特征在于，包括：安装板(1)；吸盘(2)，固定于所述安装板(1)的下方，用于吸附和释放图案形成装置(3)；调节机构(5)，固定于所述安装板(1)的下方且环绕于所述图案形成装置(3)的周围，用于调节所述图案形成装置(3)在平面上的移动和旋转，以使所述图案形成装置(3)到达目标位置；保护机构(6)，固定于所述安装板(1)的下方且环绕于所述图案形成装置(3)的周围，并与所述调节机构(5)错开设置，用于承托保护所述图案形成装置(3)避免其在工作过程中掉落。2.根据权利要求1所述的图案形成装置的调节与保护系统，其特征在于，所述调节机构(5)包括至少三组第一执行单元，每组中的两个第一执行单元相对设置，以调节所述图案形成装置(3)在X、Y、RZ正反方向上的运动。3.根据权利要求2所述的图案形成装置的调节与保护系统，其特征在于，应用于矩形的图案形成装置(3)，所述调节机构(5)包括三组第一执行单元，其中两组第一执行单元位于矩形的第一组对边上，另一组第一执行单元位于矩形的第二组对边的中间。4.根据权利要求2所述的图案形成装置的调节与保护系统，其特征在于，应用于圆形的图案形成装置(3)，所述调节机构(5)包括三组第一执行单元，三组第一执行单元均匀分布于所述圆形的圆周上。5.根据权利要求2所述的图案形成装置的调节与保护系统，其特征在于，每个所述第一执行单元包括：位移台(5A)，固定于所述安装板(1)的下方，安装有绝对编码器、位移传感器或零位开关；推杆(5B)，与所述位移台(5A)滑动连接，末端为球形以与所述图案形成装置(3)点接触；在所述位移台(5A)的驱动下前后步进以推动所述图案形成装置(3)或为所述图案形成装置(3)的移动提供空间。6.根据权利要求1所述的图案形成装置的调节与保护系统，其特征在于，所述保护机构(6)包括至少四个第二执行单元，所述第二执行单元均匀分布于所述图案形成装置(3)的周围。7.根据权利要求6所述的图案形成装置的调节与保护系统，其特征在于，每个所述第二执行单元包括：腔体(6A)，固定于所述安装板(1)的下方；推杆(6B)、弹簧(6C)，设于所述腔体(6A)内，用于...
【专利技术属性】
技术研发人员：赵承伟，张煜，龚天诚，王彦钦，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：
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