一种镁银合金和镱金属清洗剂及清洗方法技术

本发明专利技术公开了一种镁银合金和镱金属清洗剂及清洗方法，开发了一款在较低的成本下，可以高效的溶解Mask、坩埚上残留的镁银合金、镱等金属，同时不对Mask等基底产生损失，且减少沉淀产生的金属清洗剂。该清洗剂由2

【技术实现步骤摘要】
一种镁银合金和镱金属清洗剂及清洗方法


[0001]本专利技术属于清洗剂
，具体涉及一种用于有机发光二极管(OLED)蒸镀工艺中坩埚、金属掩膜版以及蒸镀腔挡板上沉积的阴极材料用的镁银合金和镱金属清洗剂，以及采用该金属清洗剂对坩埚、金属掩膜版以及蒸镀腔挡板的清洗方法。

技术介绍

[0002]目前采用蒸镀工艺制作的有源矩阵有机发光二极体或主动矩阵有机发光二极体(AMOLED)屏幕，其阴极为镁银合金以及少量的金属镱。蒸镀完成后坩埚、金属掩膜版以及蒸镀腔挡板上会残留一定厚度的镁银合金以及镱，需要去除后才能再次使用。
[0003]目前大量采用的方法是人工手动用滚轮对残留的金属进行物理剥离，往往无法完全清除干净，会在金属掩膜版开口蒸镀角处、挡板缝隙等位置残留，形成毛刺现象；此外，滚轮清除过程中极易使掩膜版Mask发生形变，以上均极大的影响良率。
[0004]随着全球对OLED屏幕需求的激增及国内OLED产业的壮大，镁银清洗剂具有很大的增长空间。
[0005]CN113881944A公开了一种镁银合金清洗剂及清洗方法，目的是能快速本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种镁银合金和镱金属清洗剂，其特征在于，其原料按质量百分数计包括：2
‑
10%的氧化剂，3
‑
12%的氧化物溶解剂，3
‑
15%的pH调节剂，0.1
‑
1%的缓蚀剂，0.1
‑
1%的金属螯合剂，其余为水；其中所述氧化剂为双氧水，其浓度为2
‑
10wt%；所述氧化物溶解剂为乙酸、柠檬酸、甲酸、草酸、丙二酸、酒石酸中的一种或多种；所述缓蚀剂为咪唑啉基聚醚型表面活性剂MZ
‑
EO
‑
n，其结构式为：，其中n为2
‑
20的整数；所述金属螯合剂选自乙二胺四乙酸、乙二胺四乙酸二钠、氨基三乙酸、次氨基三乙酸二钠、三聚磷酸钠、葡萄糖中的一种或多种。2.根据权利要求1所述的镁银合金和镱金属清洗剂，其特征在于，按质量百分数计，双氧水含量为3
‑
8%，所述的氧化物溶解剂含量为4

【专利技术属性】
技术研发人员：刘小勇，郑月川，房龙翔，叶鑫煌，肖小江，刘文生，
申请(专利权)人：福建省佑达环保材料有限公司，
类型：发明
国别省市：