一种真空镀膜样品台及真空镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术公开了一种真空镀膜样品台及真空镀膜设备，属于真空镀膜技术领域，包括样品台本体、主轴、顶板和升降机构，所述样品台本体和主轴相连接，所述主轴和顶板相连接，所述顶板上设有与主轴连接的升降机构，所述升降机构用于驱动样品台本体上下移动，一种真空镀膜设备，包括所述真空镀膜样品台，本实用新型专利技术具有样品台垂直上下移动，高度可调，可以垂直上下自由伸缩，能够准确、方便的更换掩膜板，镀制各种图案的薄膜，同时方便清洁，样品台与蒸发源的之间的高度可调，满足客户差异化镀膜需求的优点。的优点。的优点。

【技术实现步骤摘要】
一种真空镀膜样品台及真空镀膜设备


[0001]本技术涉及真空镀膜设备
，具体为一种真空镀膜样品台及真空镀膜设备。

技术介绍

[0002]将膜材置于真空中，通过蒸发源对其加热使其蒸发，蒸发的原子或分子从蒸发源表面逸出。由于高真空气氛，真空室中气体分子的平均自由程大于真空室的线性尺寸，故此蒸汽分子很少与其它分子相碰撞，以直线方式达到基片表面，通过物理吸附和化学吸附凝结在基片表面，形成薄膜。这就是真空蒸发镀膜的基本原理。基板温度是影响成膜质量的关键因素之一。为了获得更好的成膜质量，通常在蒸镀腔室中配置基片加热装置。
[0003]现有技术目前存在以下缺陷：用于真空镀膜的样品台只有加热功能，不具有冷却功能，而不能实现样品台基板温度的冷却降温处理；样品台旋转不稳定，加热温度不均匀；样品台与蒸发源的距离固定不变，不能满足客户差异化镀膜需求。
[0004]基于此，本技术设计了一种真空镀膜样品台及真空镀膜设备，以解决上述问题。

技术实现思路

[0005]本技术的目的在于提供一种真空镀膜样品台及真空镀膜设备，以解决上述技术问题。
[0006]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种真空镀膜样品台，包括样品台本体、主轴、顶板和升降机构，所述样品台本体和主轴相连接，所述主轴和顶板相连接，所述顶板上设有与主轴连接的升降机构，所述升降机构用于驱动样品台本体垂直上下移动。
[0007]优选的，所述升降机构包括滑槽、滑块和转盘，所述滑块由转盘驱动，所述滑块滑动连接在滑槽上。
[0008]优选的，所述滑块上设有用于支撑主轴的支架。
[0009]优选的，所述支架上设有传动机构，所述传动机构用于驱动主轴和样品台本体旋转。
[0010]优选的，所述传动机构包括与主轴连接的皮带轮和用于驱动皮带轮的驱动电机。
[0011]优选的，所述皮带轮下方设有与支架连接的固定架。
[0012]优选的，所述主轴与顶板连接处设有真空密封组件。
[0013]优选的，所述支架上设有贯穿顶板的连接杆，所述连接杆上设有基片挡板。
[0014]优选的，所述样品台本体内部设有均匀分布的流道，所述主轴上方设有热交换介质入口端和热交换介质出口端，所述主轴内设有循环管路，所述循环管路分别连接热交换介质入口端和热交换介质出口端。
[0015]一种真空镀膜设备，包括所述真空镀膜样品台。
[0016]与现有技术相比，本技术的有益效果为：
[0017](1)通过设置了升降机构，升降机构带动样品台本体垂直上下移动，高度可调，可以垂直上下自由伸缩，能够准确、方便的更换掩膜板，镀制各种图案的薄膜，同时方便清洁。
[0018](2)通过设置了升降机构，样品台与蒸发源的之间的高度可调，满足客户差异化镀膜需求。
[0019](3)通过均匀分布的流道并通过传动机构使得主轴和样品台本体可旋转，实现基板与样品台的同时旋转，基板能够旋转中得到加热和冷却，温度均匀性好。
附图说明
[0020]为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0021]图1为本实施例整体结构示意图；
[0022]图2为本实施例整体后视结构示意图；
[0023]图3为本实施例整体侧视结构示意图。
[0024]附图中，各标号所代表的部件列表如下：
[0025]1、样品台本体；2、顶板；3、主轴；4、支架；5、皮带轮；6、驱动电机；7、热交换介质出口端；8、热交换介质入口端；9、升降机构；10、循环管路；11、基片挡板；12、转盘；13、把手。
具体实施方式
[0026]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本技术保护的范围。
[0027]请参阅图1
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3，本技术提供一种技术方案：一种真空镀膜样品台，包括样品台本体1、主轴3、顶板2和升降机构9，样品台本体1和主轴3相连接，主轴3和顶板2相连接，顶板2上设有与主轴3连接的升降机构9，升降机构9用于驱动样品台本体1上下移动。
[0028]优选的，升降机构9包括滑槽、滑块和转盘12，滑块转动连接在转盘12上，滑块滑动连接在滑槽上，通过转盘12和滑块的的配合，滑块可以在滑槽上往复升降运动，滑块上还连接有用于支撑主轴3的支架4，从而滑块在滑槽上升降运动，带动主轴3升降运动，转盘12上设有用于方便转盘12转动的把手13，通过上述设置，使得调节升降更加方便，便于使用者操作。
[0029]优选的，支架4上设有传动机构，传动机构用于驱动主轴3和样品台本体1旋转，传动机构包括与主轴3连接的皮带轮5和用于驱动皮带轮5的驱动电机6，通过设置了传动机构，使得主轴3和样品台本体1可旋转，实现基板与样品台1的同时旋转，基板能够旋转中得到加热和冷却，温度均匀性好。
[0030]优选的，皮带轮5下方设有与支架4连接的固定架，通过设置了固定架，使得主轴3和样品台1旋转更加稳定。
[0031]优选的，主轴3与顶板2连接处设有真空密封组件，真空密封组件由两个上下双向
的密封橡胶圈和两个附加挡圈组成，用于真空密封组件在样品台本体1围绕主轴3旋转时，可以对环境气体进行隔离，对真空进行密封，主轴3密封性更好工作稳定可靠，真空室密封性好，真空密封组件与顶板2连接，并且真空密封组件围绕主轴3布置，在主轴3垂直上下移动时，上下双向的密封橡胶圈可以跟随主轴3的移动进行拉伸，从而保证了整体的密封性，顶板2和主轴3连接处可设置有O型橡胶密封圈，能保证整体的密封性。
[0032]优选的，支架4上设有贯穿顶板的连接杆，连接杆上设有基片挡板11，通过设置了基片挡板11，用于阻挡镀膜前期产生的不稳定的靶材蒸汽，以保护基板；顶板2隔绝蒸镀腔室与环境空气，确保蒸镀腔室的真空环境。
[0033]优选的，样品台本体1内部设有均匀分布的流道，通过设有了均匀分布的流道，确保样品台本体1受热均匀，主轴3上方设有热交换介质入口端8和热交换介质出口端7，主轴3内设有循环管路10，循环管路10一端连接热交换介质入口端8，另一端连接热交换介质出口端7，通过设置了热交换介质入口端8和热交换介质出口端7，配合循环管路10，可以独立加热或者冷却，能够将加热结束后的基片进行冷却，避免基片过度加热。
[0034]本技术实施例还提供一种真空镀膜设备，包括真空镀膜样品台。
[0035]本实施例的一个具体应用为：
[0036]样品台本体1连接在主轴3上，主轴3连本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种真空镀膜样品台，其特征在于：包括样品台本体、主轴、顶板和升降机构，所述样品台本体和主轴相连接，所述主轴和顶板相连接，所述顶板上设有与主轴连接的升降机构，所述升降机构用于驱动样品台本体上下移动。2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜样品台，其特征在于：所述升降机构包括滑槽、滑块和转盘，所述滑块由转盘驱动，所述滑块滑动连接在滑槽上。3.根据权利要求2所述的一种真空镀膜样品台，其特征在于：所述滑块上设有用于支撑主轴的支架。4.根据权利要求3所述的一种真空镀膜样品台，其特征在于：所述支架上设有传动机构，所述传动机构用于驱动主轴和样品台本体旋转。5.根据权利要求4所述的一种真空镀膜样品台，其特征在于：所述传动机构包括与主轴连接的皮带轮和用于驱动皮...

【专利技术属性】
技术研发人员：江忠朗，何飞，徐尚超，程玄清，冯旭光，
申请(专利权)人：布劳恩惰性气体系统上海有限公司，
类型：新型
国别省市：