半导体制程装置的再循环系统制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种半导体制程装置的再循环系统，包括一半导体制程装置；以及一制程流体再循环系统，其包括一过滤组件，一储存槽，一加热器，以及一温控器，设置于所述加热器之后。设置于所述加热器之后。设置于所述加热器之后。

【技术实现步骤摘要】
半导体制程装置的再循环系统


[0001]本专利技术有关于一种半导体制程装置的再循环系统，尤其是一种湿制程装置的制程流体再循环系统。

技术介绍

[0002]在半导体与电子厂的制程中，经常大量使用化学药剂，其中化学药剂通常用于涂布于晶圆表面、浸泡晶圆或清洗晶圆的半导体制程。尤其在晶圆清洗处理时，需使用大量的化学药剂，然而，使用后的化学药剂因含有杂质与脏污而难以回收使用，只能将其废弃。当晶圆产量愈多，所需使用的化学药剂也愈多，其成本也随之提高。甚至，使用过的化学药剂若没有回收再利用，或是经过完善的处理及排放程序，更会对环境造成污染。

技术实现思路

[0003]因此，为了克服昔知技术的不足之处，本专利技术提供一种半导体制程装置的再循环系统，包括一半导体制程装置，以及一制程流体再循环系统。所述半导体制程装置具有至少一个盆罩与至少一个沟槽，当流体经由喷洒头喷洒于置于旋转台面的晶圆后，利用盆罩与所述旋转台面的高低落差，进而使接触晶圆后的流体经旋转带动而流入指定的沟槽。所述制程流体再循环系统包括一过滤组件，一储存槽，一加热器，以及一温控器。在所本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种半导体制程装置的再循环系统，包括：一半导体制程装置，具有一沟槽，及一流体导管；以及一制程流体再循环系统；其中，所述制程流体再循环系统包括：一过滤组件，耦接至该半导体制程装置的该沟槽；一储存槽，耦接至该过滤组件；一加热器，耦接至该储存槽；以及一温控器，具有一输入端，一输出端，该输入端耦接至该加热器，该输出端耦接至该半导体制程装置的该流体导管；其中，流体经所述沟槽流入所述制程流体再循环系统，再流回该流体导管。2.如权利要求1所述的半导体制程装置的再循环系统，其中该温控器和该加热器的距离小于一公尺。3.如权利要求1所述的半导体制程装置的再循环系统，其中，该过滤组件具有一输入端，一输出端，该输入端耦接至该半导体制程装置的该沟槽；其中，该储存槽具有一输入端，一输出端，该输入端耦接至该过滤组件的输出端；以及其中，该加热器具有一输入端，一输出端，该输入端耦接至该储存槽的输出端，该输出端耦接至该温控器的输入端。4.如权利要求1所述的半导体制程装置的再循环系统，其中，该储存槽具有一回送端；以及其中，该温控器具有一回送端，该回送端耦接至该储存槽的回送端。5.如权利要求4所述的半导体制程装置的再循环系统，其中，该...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘家宽，
申请(专利权)人：巨臣科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：