用于纯化溶剂的系统及方法技术方案

本公开涉及纯化溶剂的方法及系统。经纯化溶剂可用于在多步骤半导体制造过程中清洁半导体基板。导体基板。导体基板。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于纯化溶剂的系统及方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请主张2020年3月27日申请的美国临时申请序列号63/000,745的优先权，所述申请的内容以全文引用的方式并入本文中。


[0003]本公开涉及用于纯化溶剂(例如有机溶剂)的系统及方法。具体地，本公开涉及可用于获得具有极低量的有机杂质及金属杂质的有机溶剂的系统及方法。

技术介绍

[0004]由于器件尺寸的不断减小，半导体行业在电子器件的集成密度方面实现了快速改进。最终，更多的较小器件被集成至给定区域中。这些改进主要归因于新精确度及高分辨率处理技术的发展。
[0005]在制造高分辨率的集成电路(IC)期间，各种处理液体将与裸晶圆或涂布膜的晶圆接触。例如，制造精细金属互连件通常包括以下程序：用预润湿液体涂布基底材料，之后用复合液体涂布该基底材料，以形成抗蚀膜。已知这些含有专有成分及各种添加剂的处理液体为IC晶圆的污染来源。
[0006]据信，即使痕量污染物混入这些化学液体，诸如晶圆预润湿液体或显影剂溶液中，所得电路图案仍可能具有缺陷。例如，已本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于从有机溶剂移除杂质的方法，包括：使所述有机溶剂通过包含吸附剂的至少一个塔，以移除所述有机溶剂中的水，使所述有机溶剂通过第一过滤器单元，其中所述第一过滤器单元包含第一壳体及所述第一壳体中的至少一个第一过滤器，且所述至少一个第一过滤器包含过滤介质；以及在蒸馏塔中蒸馏所述有机溶剂以获得经纯化有机溶剂；其中，所述第一过滤器单元在所述蒸馏塔与所述包含吸附剂的至少一个塔之间。2.如权利要求1所述的方法，其中，所述有机溶剂包含醇。3.如权利要求1所述的方法，其中，所述有机溶剂包含异丙醇。4.如权利要求1所述的方法，其中，所述吸附剂包含分子筛、硅胶、活性氧化铝、活性炭或离子交换树脂。5.如权利要求1所述的方法，其中，所述至少一个第一过滤器中的所述过滤介质包含聚烯烃、聚酰胺、氟聚合物或其共聚物。6.如权利要求1所述的方法，其中，所述至少一个第一过滤器中的所述过滤介质包含高密度聚乙烯或聚四氟乙烯。7.如权利要求1所述的方法，其中，所述至少一个第一过滤器中的所述过滤介质具有约0.1μm至0.25μm的平均孔径。8.如权利要求1所述的方法，其中，所述第一过滤器单元包含两个至五个所述第一过滤器。9.如权利要求8所述的方法，其中，所述第一过滤器并联连接。10.如权利要求1所述的方法，其中...

【专利技术属性】
技术研发人员：爱德华多，
申请(专利权)人：富士胶片电子材料美国有限公司，
类型：发明
国别省市：