【技术实现步骤摘要】
一种光刻胶颗粒度测试装置
[0001]本技术涉及一种测试装置,具体为一种光刻胶颗粒度测试装置,属于光刻胶颗粒度测试
技术介绍
[0002]颗粒度是先进光刻胶产品在生产时的关键指标,反映了光刻胶的洁净度,一般需要管控0.15微米精度的颗粒。光刻胶在大规模生产要求颗粒度在不同批次下能保持稳定。低的颗粒度能保证芯片不会在制造过程中被光刻胶沾污,减少缺陷的产生,提高芯片的良率和电路性能。能否在规模化生产时稳定地实现颗粒度控制是先进光刻胶产品产业化成功与否的关键之一,光刻胶产品的颗粒度控制离不开专业的分析设备,颗粒仪作为成熟的现有技术,已经能够实现较为精确的测试效果。
[0003]在申请号为CN202023168196.5的中国技术专利中提出一种光刻胶颗粒度测试装置,通过在输送光刻胶生产线上连接有用于存储待测光刻胶的高位槽,并在颗粒仪的出口端设置流量计。通过高位槽中待测光刻胶自身的重力和出口端的流量计同时作用,使待测光刻胶以稳定的流速进入颗粒仪,简化了操作,提高了测试精度;解决了因流量不稳定导致仪器容易报错的问题,并 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光刻胶颗粒度测试装置,其特征在于:包括测试平台(1)、颗粒仪本体(2)、固定支架(3)、第一循环箱体(4)、第二循环箱体(5)和连通管(6),所述颗粒仪本体(2)通过所述固定支架(3)焊接在所述测试平台(1)的顶部中心位置处,所述第一循环箱体(4)和所述第二循环箱体(5)分别安装在所述测试平台(1)的顶部两侧,所述第一循环箱体(4)和所述第二循环箱体(5)分别位于所述颗粒仪本体(2)的两侧,所述第一循环箱体(4)和所述第二循环箱体(5)的顶部均通过所述连通管(6)与所述颗粒仪本体(2)的测试端相连接。2.根据权利要求1所述的一种光刻胶颗粒度测试装置,其特征在于:所述第一循环箱体(4)和所述第二循环箱体(5)的内部结构相同,所述第一循环箱体(4)和所述第二循环箱体(5)的一侧均设置有注料口。3.根据权利要求1所述的一种光刻胶颗粒度测试装置,其特征在于:所述第一循环箱体(4)和所述第二循环箱体(5)的内壁底部均安装有升降控制杆(401),所述升降控制杆(401)的顶部设置有柱塞板(402),所述柱塞板(402)将所述第一循环箱体(4)或者所述第二...
【专利技术属性】
技术研发人员:许箭,管艺真,崔世彬,王亮乾,
申请(专利权)人:国科天骥滨州新材料有限责任公司,
类型:新型
国别省市:
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