一种去除金属离子的循环过滤装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提出了一种去除金属离子的循环过滤装置，涉及光刻胶处理技术领域，包括安装架，安装架上设有液料罐，液料罐上设有进料管、上料管、排料管及导料管，排料管上安装有排料阀，液料罐上还设有动力机构和过滤机构，动力机构与导料管连接并用于将液料罐内的光刻溶剂导入过滤机构中，过滤机构连接有回流管，回流管的一端与进料管连接，液料罐内还设有搅拌机构；本装置实现了对光刻溶剂中金属粒子的自动化循环过滤及排料，其结构简单，使用方便，可以通过循环过滤方式有效的去除光刻胶树脂/溶剂中的金属离子，具有高使用价值。具有高使用价值。具有高使用价值。

【技术实现步骤摘要】
一种去除金属离子的循环过滤装置


[0001]本技术涉及光刻胶处理
，具体而言，涉及一种去除金属离子的循环过滤装置。

技术介绍

[0002]在半导体领域，光刻作为集成电路制程中的核心步骤，而光刻胶作为光刻制程中的核心材料，其光刻溶剂中微量的金属离子污染会引起器件的阈值电压变化，对加工器件的整体性能产生不利的影响，甚至直接导致其良率降低以及产品报废。一些用于制作电子器件的溶剂或相关产品都含有部分金属离子，即使微量的金属离子污染也会对电子器件的精密度造成影响，因此更高端的电子原件对金属离子的含量管控更加严格。
[0003]水相中对于金属离子的去除以及检测方法的研究较多，主要有吸附法、化学还原法、化学沉淀法、溶剂萃取法以及离子交换法等。离子交换树脂通常被用于去除水中的金属离子，而光刻胶则采用有机溶剂体系，在有机体系中，对于有机溶剂中的金属离子的去除方法以及研究少有被提到并使用。其去除方法之一是将离子交换树脂与光刻胶树脂/溶剂进行混合搅拌，再经过滤除、沉淀处理、固液分离等步骤达到去除金属离子的目的，其工艺较为繁琐，处理较为复杂。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种去除金属离子的循环过滤装置，其特征在于，包括安装架(1)，安装架(1)上设有液料罐(2)，液料罐(2)上设有进料管(21)、上料管(24)、排料管(22)及导料管(23)，排料管(22)上安装有排料阀(221)，液料罐(2)上还设有动力机构和过滤机构，动力机构与导料管(23)连接并用于将液料罐(2)内的光刻溶剂导入过滤机构中，过滤机构连接有回流管(46)，回流管(46)的一端与进料管(21)连接，液料罐(2)内还设有搅拌机构。2.根据权利要求1所述的一种去除金属离子的循环过滤装置，其特征在于，所述动力机构包括抽吸泵(3)、进液管(31)和出液管(32)，抽吸泵(3)安装在液料罐(2)上且抽吸泵(3)连接有进液管(31)和出液管(32)，进液管(31)与导料管(23)连接，出液管(32)与过滤机构连接。3.根据权利要求2所述的一种去除金属离子的循环过滤装置，其特征在于，所述过滤机构包括过滤箱(4)、过滤网(41)、密封门(42)、离子交换树脂(43)、入料管(44)及出液管(32)，过滤箱(4)一侧设有密封门(42)，过滤箱(4)顶部设有入料管(44)，入料管(44)与出液管(32)连接，过滤箱(4)底部设有放料管(45)，放料管(45)与回流管(46)连接，过滤箱(4)内活动设置有至少一块过滤网(41)，过滤网(41)上放置有离子交换树脂(...

【专利技术属性】
技术研发人员：王亮乾，赵军，林康，秦俭，许箭，陈龙，
申请(专利权)人：国科天骥滨州新材料有限责任公司，
类型：新型
国别省市：