本发明专利技术的实施方式涉及黑矩阵基板及其制作方法以及具有黑矩阵基板的显示装置。提供能应用于超高清晰的显示装置的带遮光膜的基板及其制作方法。带遮光膜的基板具备基板、位于基板上并具备多个开口的遮光膜、以及配置在多个开口的多个彩色滤光片。遮光膜包含基板上的基膜、基膜上的金属膜、以及位于基膜与金属膜之间且与金属膜相比光反射率较低的低反射膜。基膜能够包含树脂和无机化合物中的至少一者。基膜能够包含树脂和无机化合物中的至少一者。基膜能够包含树脂和无机化合物中的至少一者。
【技术实现步骤摘要】
黑矩阵基板及其制作方法以及具有黑矩阵基板的显示装置
[0001]本专利技术的实施方式之一涉及具备遮光膜的基板及其制作方法、以及具备该基板的显示装置及其制作方法。
技术介绍
[0002]当前，在最大范围内被利用的显示装置之一是液晶显示装置。液晶显示装置具有背光源和背光源上的液晶模块，液晶模块具备基板、设置在基板上的多个液晶元件、以及液晶元件上的对置基板作为基本构成。从背光源照射的光的灰度级通过液晶元件被控制，通过设置于对置基板的彩色滤光片被提供颜色信息。为了提高所显示的图像的对比度，遮光膜(也被称为黑矩阵。)被设置在相邻的彩色滤光片之间(例如参照专利文献1。)。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2011
‑
197521号公报
技术实现思路
[0006]专利技术要解决的技术问题
[0007]本专利技术的实施方式之一是以提供具有新的结构的带遮光膜的基板及其制作方法作为一个课题。或者，本专利技术的实施方式之一是以提供在超高清晰的显示装置中也能应用的带遮光膜的基板及其制作方法作为一个课题。或者，本专利技术的实施方式之一是以提供包含该带遮光膜的基板的显示装置作为一个课题。
[0008]用于解决技术问题的方案
[0009]本专利技术的实施方式之一是带遮光膜的基板。该带遮光膜的基板具备基板、位于基板上并具备多个开口的遮光膜、以及配置于多个开口的多个彩色滤光片。遮光膜包含基板上的基膜、基膜上的金属膜、以及位于基膜与金属膜之间并与金属膜相比光反射率较低的低反射膜。
[0010]本专利技术的实施方式之一是显示装置。该显示装置具备具有多个像素的阵列基板、以及阵列基板上的带遮光膜的基板。带遮光膜的基板具备对置基板、位于对置基板下并具备多个开口的遮光膜、以及配置于多个开口的多个彩色滤光片。遮光膜包含基板下的基膜、基膜下的金属膜、以及位于基膜与金属膜之间并与金属膜相比光反射率较低的低反射膜。
[0011]本专利技术的实施方式之一是制作带遮光膜的基板的方法。该方法包含：通过在基板上依次形成基膜、低反射膜以及金属膜，从而在基板上形成遮光膜；在遮光膜上形成具有多个贯通孔的抗蚀剂掩模；通过在抗蚀剂掩模的多个贯通孔中将低反射膜和金属膜一并蚀刻，从而形成使基膜露出的多个开口；通过蚀刻将所述抗蚀剂掩模去除，同时将与多个开口重叠的基膜去除；以及在多个开口分别形成彩色滤光片。
[0012]本专利技术的实施方式之一是制作显示装置的方法。该方法包含：在第一基板上形成多个像素；通过在第二基板上依次形成基膜、低反射膜以及金属膜，从而在第二基板上形成
遮光膜；在遮光膜上形成具有多个贯通孔的抗蚀剂掩模；通过在抗蚀剂掩模的多个贯通孔中将低反射膜和金属膜一并蚀刻，从而形成使基膜露出的多个开口；通过蚀刻基膜，从而将与多个开口重叠的基膜去除；在多个开口分别形成彩色滤光片；以及以像素和彩色滤光片被第一基板和第二基板夹着的方式将第一基板与第二基板相互固定。
附图说明
[0013]图1是本专利技术的实施方式所涉及的显示装置的示意性顶视图。
[0014]图2是本专利技术的实施方式所涉及的显示装置的像素的示意性顶视图。
[0015]图3是本专利技术的实施方式所涉及的显示装置的示意性端面图。
[0016]图4是本专利技术的实施方式所涉及的显示装置的像素的示意性顶视图。
[0017]图5A是本专利技术的实施方式所涉及的BM基板的示意性端面图。
[0018]图5B是本专利技术的实施方式所涉及的BM基板的示意性端面图。
[0019]图5C是本专利技术的实施方式所涉及的BM基板的示意性端面图。
[0020]图6A是本专利技术的实施方式所涉及的BM基板的示意性端面图。
[0021]图6B是本专利技术的实施方式所涉及的BM基板的示意性端面图。
[0022]图6C是本专利技术的实施方式所涉及的BM基板的示意性端面图。
[0023]图7A是本专利技术的实施方式所涉及的BM基板的示意性端面图。
[0024]图7B是本专利技术的实施方式所涉及的BM基板的示意性端面图。
[0025]图8A是现有的BM基板的示意性端面图。
[0026]图8B是现有的BM基板的示意性端面图。
[0027]图9是本专利技术的实施方式所涉及的BM基板的示意性端面图。
[0028]图10A是现有的BM基板所涉及的BM基板的示意性端面图。
[0029]图10B是本专利技术的实施方式所涉及的BM基板的示意性端面图。
[0030]图11A是示出本专利技术的实施方式所涉及的BM基板的制作方法的示意性端面图。
[0031]图11B是示出本专利技术的实施方式所涉及的BM基板的制作方法的示意性端面图。
[0032]图12是示出本专利技术的实施方式所涉及的BM基板的制作方法的示意性端面图。
[0033]图13A是示出本专利技术的实施方式所涉及的BM基板的制作方法的示意性端面图。
[0034]图13B是示出本专利技术的实施方式所涉及的BM基板的制作方法的示意性端面图。
[0035]图14A是示出本专利技术的实施方式所涉及的BM基板的制作方法的示意性端面图。
[0036]图14B是示出现有的BM基板的制作方法的示意性端面图。
[0037]图15是示出本专利技术的实施方式所涉及的BM基板的制作方法的示意性端面图。
[0038]图16是示出本专利技术的实施方式所涉及的显示装置的制作方法的示意性端面图。
[0039]图17是本专利技术的实施方式所涉及的显示装置的示意性端面图。
[0040]图18是本专利技术的实施方式所涉及的显示装置的示意性端面图。
[0041]图19是本专利技术的实施方式所涉及的BM基板的示意性端面图。
[0042]附图标记说明
[0043]100：显示装置，102：阵列基板，104：像素，106：显示区域，108：栅极线驱动电路，110：信号线驱动电路，112：端子，114：连接器，116：BM基板，118：对置基板，120：栅极线，122：信号线，124：辅助配线，126：TFT，128：像素电极，128a：狭缝，130：共用电极，140：偏振
板，140
‑
1：偏振板，140
‑
2：偏振板，142：底涂层，144：TFT，146：栅极绝缘膜，148：层间绝缘膜，149：平坦化膜，150：电极间绝缘膜，152
‑
1：取向膜，152
‑
2：取向膜，154：液晶层，156：间隔物，158：彩色滤光片，158
‑
1：彩色滤光片，158
‑
2：彩色滤光片，158
‑
3：彩色滤光片，160：遮光膜，160a：开口，162：基膜，164：低反射膜，164a：檐，166：金属膜，166a：上表面，168：密封材料，170：保护层，172：遮光膜，172a：开口，172b：檐，174：本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种黑矩阵基板，具备：基板；以及遮光膜，位于所述基板上，并具备多个开口，所述遮光膜包含：所述基板上的基膜；所述基膜上的金属膜；以及低反射膜，位于所述基膜与所述金属膜之间，与所述金属膜相比光反射率低。2.根据权利要求1所述的黑矩阵基板，其中，所述基膜包含树脂和无机化合物中的至少一者。3.根据权利要求2所述的黑矩阵基板，其中，所述树脂选自丙烯酸树脂、环氧树脂、聚硅氧烷树脂、聚酰亚胺树脂以及聚酰胺树脂，所述无机化合物选自含硅无机化合物。4.根据权利要求1所述的黑矩阵基板，其中，所述基膜的厚度比所述金属膜的厚度和所述低反射膜的厚度中的任意一者都大。5.根据权利要求1所述的黑矩阵基板，其中，所述遮光膜的宽度随着离所述基板的距离增大而减少。6.根据权利要求1所述的黑矩阵基板，其中，所述黑矩阵基板还具备配置在所述多个开口的多个彩色滤光片，相邻的所述彩色滤光片的颜色相互不同，并且均与所述基膜的颜色不同。7.根据权利要求6所述的黑矩阵基板，其中，所述多个彩色滤光片与所述基膜接触。8.根据权利要求6所述的黑矩阵基板，其中，所述多个彩色滤光片与所述基板接触。9.根据权利要求6所述的黑矩阵基板，其中，所述多个彩色滤光片中的至少一个彩色滤光片覆盖所述金属膜的上表面。10.根据权利要求6所述的黑矩阵基板，其中，所述多个彩色滤光片的高度比所述遮光膜的高度小。11.根据权利要求6所述的黑矩阵基板，其中，所述黑矩阵基板还具备与所述彩色滤光片和所述遮光膜的上表面接触的保护层。12.根据权利要求1所述的黑矩阵基板，其中，所述基板和所述遮光膜的上表面与保护层接触。13.根据权利要求1所述的黑矩阵基板，其中，所述基膜具有透光性。14.一种显示装置，具备：阵列基板，具有多个像素；以及所述阵列基板上的黑矩阵基板，所述黑矩阵基板具备：对置基板；遮光膜，位于所述对置基板下，并具备多个开口；以及
多个彩色滤光片，配置在所述多个开口，所述遮光膜包含：所述对置基板下的基膜；所述基膜下的金属膜；以及低反射膜，位于所述基膜与所述金属膜之间，与所述金属膜相比光反射率低。15.根据权利要求14所述的显示装置，其中，所述基膜包含树脂和无机化合物中的至少一者。16.根据权利要求15所述的显示装置，其中，所述树脂选自丙烯酸树脂、环氧树脂、聚硅氧烷树脂、聚酰亚胺树脂以及聚酰胺树脂，所述无机化合物选自含硅无机化合物。17.根据权利要求14所述的显示装置，其中，所述基膜的厚...
【专利技术属性】
技术研发人员：安达浩一郎，
申请(专利权)人：株式会社日本显示器，
类型：发明
国别省市：
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