光掩模图形处理方法、装置、设备、介质制造方法及图纸

本申请提供一种光掩模图形处理方法、装置、设备、介质，涉及数据加密技术领域，其中光掩模图形处理方法包括以下步骤，步骤S1，通过控制图形变量，对光掩模上的标准图形进行加密处理，得到加密图形；步骤S2，根据图形变量对加密图形进行解密处理，得到标准图形，标准图形用于对光掩模进行标记。通过标准图形的加密处理，在无法得知实际解密方法的情况下，无法直接从加密图形中获取出标准图形，进而也就降低了标准图形被盗用的风险，经过加密处理的标准图形可以对光掩模实现标记，与竞品之间形成区别，防止产品被盗用。防止产品被盗用。防止产品被盗用。

【技术实现步骤摘要】
光掩模图形处理方法、装置、设备、介质


[0001]本申请涉及数据加密
，具体涉及一种光掩模图形处理方法、装置、设备、介质。

技术介绍

[0002]光掩模是一种高端半导体材料，在光刻环节中，利用掩模版上已设计好的图案，通过透光和非透光的方式进行图像复制，实现批量生产。
[0003]光掩模上通常都存在着光罩厂设计以用于检验的标准图形，这些标准图形有些可以用于确认制程能力，部分可以作为量测出货标准。但这些标准图形在光罩数据传输过程中，存在被竞争对手盗用的风险。
[0004]因此，需要设计一种图形处理方案，降低光掩模上标准图形被盗用的风险。

技术实现思路

[0005]有鉴于此，本说明书实施例提供一种光掩模图形处理方法、装置、设备、介质，可以对光掩模上的标准图形形成有效保护，降低光掩模上标准图形被盗用的风险。
[0006]本说明书实施例提供以下技术方案：
[0007]本说明书实施例提供一种光掩模图形处理方法，步骤如下：
[0008]步骤S1，通过控制图形变量，对光掩模上的标准图形进行加密处理，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光掩模图形处理方法，其特征在于，步骤如下：步骤S1，通过控制图形变量，对光掩模上的标准图形进行加密处理，得到加密图形；步骤S2，根据所述图形变量对所述加密图形进行解密处理，得到所述标准图形，所述标准图形用于对所述光掩模进行标记。2.根据权利要求1所述的光掩模图形处理方法，其特征在于，所述步骤S1，包括：S101，通过控制所述图形变量，对光掩模上的标准图形进行打散重组处理或者填充处理，得到所述加密图形。3.根据权利要求2所述的光掩模图形处理方法，其特征在于，所述图形变量，包括线宽，所述步骤S101，包括：S1011，将若干个第一元素图形填充至标准图形，并且在标准图形的周围填充若干个第二元素图形，得到所述加密图形；所述第一元素图形的线宽不等于所述第二元素图形的线宽。4.根据权利要求2所述的光掩模图形处理方法，其特征在于，所述图形变量，包括间距，所述步骤S101，包括：S1012，将若干个第一元素图形填充至标准图形，并且在标准图形的周围填充若干个第二元素图形，得到所述加密图形；任意两个相邻第一元素图形的间距均相等，且任意两个相邻第一元素图形的间距均不等于任意两个相邻第二元素图形的间距，且任意两个相邻第一元素图形的间距均不等于任意相邻第一元素图形和第二元素图形的间距。5.根据权利要求2所述的光掩模图形处理方法，其特征在于，所述图形变量，包括基准元素图形，所述步骤S101，包括：S1013，将所述标准图形打散成多个单元图形；S1014，在多个所述单元图形之间绘制乱码图形，并在每个单元图形上均设置基准元素图形，得到所述加密图形。6.根据权利要求3至5中任一所述的光掩模图形处理方...

【专利技术属性】
技术研发人员：张家玮，刘婉华，
申请(专利权)人：广州新锐光掩模科技有限公司，
类型：发明
国别省市：