【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于制造包括由矿物材料制成的外围壁的检测装置的方法
[0001]本专利技术的领域是用于检测电磁辐射,特别是红外或太赫兹辐射的装置,包括封装在密封腔中的至少一个热检测器。本专利技术特别适用于红外成像和热成像领域。
技术介绍
[0002]一种用于检测电磁辐射(例如红外或太赫兹辐射)的装置可以包括热检测器的矩阵阵列,每个热检测器包括能够吸收待检测电磁辐射的吸收部分。
[0003]为了确保热检测器的隔热性,吸收部分通常以膜的形式通过锚定柱悬浮在衬底上方,并通过保持臂和隔热臂与衬底隔热。这些锚定柱和保持臂还具有电气功能,将悬浮膜电连接到通常设置在衬底中的读出电路。
[0004]所述读出电路通常采用CMOS电路的形式。这允许将控制信号施加到热检测器,并读取检测信号,该检测信号为响应待检测电磁辐射的吸收而产生。读出电路包括由金属线形成的各种电互连层,所述金属线通过所谓的金属间化合物电介质层彼此分离。读出电路的至少一个电气连接焊盘设置在衬底上,使得其能够从检测装置外部接触。
[0005]为了确保热检测器的最佳运行,可能需要低压力水平。为此,热检测器的矩阵阵列通常在真空或减压下被限制或封装在密封腔中,该腔与读出衬底由封装结构限定。
[0006]文献EP3067674A2描述了用于制造图1A所示的检测装置1的方法的一个示例,其中的热检测器20设置在空腔2中。该方法使用矿物牺牲层61、62(它们被去除之前如图所示)来制造热检测器20和限定空腔2的封装结构30,然后通过湿法化学蚀刻去除。封装结构30由一个相同 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于制造用于检测电磁辐射的装置(1)的方法,包括以下步骤:o通过第一矿物牺牲层(61)在读出衬底(10)上制造能够检测电磁辐射的热检测器(20)的矩阵阵列,所述热检测器(20)和第一矿物牺牲层(61)被第二矿物牺牲层(62)覆盖;o制造封装结构(30),其限定空腔(2),所述热检测器(20)的矩阵阵列位于所述空腔(2)中,所述封装结构(30)由外围壁(32)和封装薄层(31)通过以下形成:
·
沉积覆盖所述第二矿物牺牲层(62)的封装薄层(31);
·
在所述封装薄层(31)中制造面向热检测器(20)的矩阵阵列的通口(33);
·
通过酸性介质中的湿化学蚀刻,通过所述通口(33)部分地去除矿物牺牲层(61、62),以释放所述热检测器(20)的矩阵阵列,并获得由矿物牺牲层(61、62)的未蚀刻部分形成的外围壁(32),并且释放在所述热检测器(20)的矩阵阵列上方延伸的封装薄层(31)的上部(31.1);o其中,在所述化学蚀刻步骤之后,所述外围壁(32)具有横向凹陷,所述横向凹陷引起在与所述读出衬底的平面平行的平面内、在所述读出衬底(10)和上部(31.1)之间的所述空腔(2)的垂直扩大,所述横向凹陷限定了围绕热检测器(20)的矩阵阵列的读出衬底(10)的表面(10a)的中间区域(Zr);o所述方法包括制造封装薄层(31)的加强柱(31.2)的步骤,所述加强柱(31.2)设置在热检测器(20)的矩阵阵列周围的中间区域(Zr)中,彼此分离并从所述上部(31.1)延伸,直到位于所述读出衬底(10)上。2.根据权利要求1所述的制造方法,其中,所述外围壁(32)具有横向限定空腔(2)的侧面(32a),所述侧面(32a)在与所述读出衬底(10)接触的下端(L
inf
)和与所述上部(31.1)接触的上端(L
sup
)之间垂直延伸,所述上端(L
sup
)与所述下端(L
inf
)在与读出衬底的平面平行的平面上且在与热检测器(20)的矩阵阵列相反的方向上被间隔开,间隔距离大于或等于10μm。3.根据权利要求1或2所述的制造方法,其中,所述封装薄层(31)的上部(31.1)具有小于或等于800nm的厚度。4.根据权利要求1至3中任一项所述的制造方法,其中,所述加强柱(31.2)被设置成在热检测器(20)的矩阵阵列周围延伸的彼此平行的多排。5.根据权利要求1至4中任一项所述的制造方法,其中,所述热检测器(20)包括通过锚定柱(21)悬浮在读出衬底上方的吸收膜(23),并且其中所述加强柱(31.2)间接地位于读出衬底(10)上,与从读出衬底(10)延伸的下部柱(41、50)接触,所述下部柱具有与锚定柱(21)相同的高度。6.根据权利要求5所述的制造方法,其中,所述下部柱为用于不能检测电磁辐射的所谓模拟检测器(40)的锚定柱(41),用于每个模拟检测器(40)的锚定柱(41)支持悬浮...
【专利技术属性】
技术研发人员:若弗鲁瓦,
申请(专利权)人:原子能和替代能源委员会,
类型:发明
国别省市:
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