本实用新型专利技术公开了一种小分子杂环化合物生产用原材处理装置，包括箱体、漏斗、槽板、驱动装置、调节式研磨装置和接斗，所述漏斗设于箱体的上部，所述槽板设有两组且位于箱体的外壁上，所述驱动装置设于槽板上，所述调节式研磨装置位于箱体内且与驱动装置相连接，所述接斗设于调节式研磨装置上。本实用新型专利技术属于化工品生产技术领域，具体是指一种研磨效率高，能够调整研磨间隙，适用性较强的小分子杂环化合物生产用原材处理装置。物生产用原材处理装置。物生产用原材处理装置。
【技术实现步骤摘要】
一种小分子杂环化合物生产用原材处理装置
[0001]本技术属于化工品生产
，具体是指一种小分子杂环化合物生产用原材处理装置。
技术介绍
[0002]杂环化合物是分子中含有杂环结构的有机化合物吗，构成环的原子除碳原子外，还至少含有一个杂原子，最常见的杂原子是氮原子、硫原子、氧原子，杂环化合物普遍存在于药物分子的结构之中，适用范围较广，在进行杂环化合物生产时，需要对原材料进行研磨，但是现有的研磨装置，研磨效率比较低，不便于根据原料的颗粒大小进行调整研磨间隙，适用性比较低。
技术实现思路
[0003]为了解决上述难题，本技术提供了一种研磨效率高，能够调整研磨间隙，适用性较强的小分子杂环化合物生产用原材处理装置。
[0004]为了实现上述功能，本技术采取的技术方案如下：一种小分子杂环化合物生产用原材处理装置，包括箱体、漏斗、槽板、驱动装置、调节式研磨装置和接斗，所述漏斗设于箱体的上部，所述槽板设有两组且位于箱体的外壁上，所述驱动装置设于槽板上，所述调节式研磨装置位于箱体内且与驱动装置相连接，所述接斗设于调节式研磨装置上；所述驱动装置包括支架、电机、转盘、滑块、连杆和拉杆，所述支架设于槽板上，所述电机设于支架上，所述转盘设于电机的动力输出端，所述滑块滑动设于槽板内，所述连杆偏心铰接设于转盘上且与滑块铰接连接，所述拉杆设于滑块上且另一端设于调节式研磨装置上，所述两组连杆采取对称偏心铰接在转盘上，转盘的旋转，可以实现滑块在槽板上的交错运动。
[0005]进一步地，所述调节式研磨装置包括滑板、研磨板、丝杆和漏槽，所述滑板上下设有两组且滑动设于箱体上，所述研磨板滑动设于滑板上，所述丝杆螺纹连接设于滑板上，所述漏槽设于上方的研磨板内且上方与接斗相连，所述研磨板与拉杆相连接。
[0006]优选地，所述接斗内设有锥体，以便于物料更顺畅的流入到漏槽内。
[0007]优选地，所述漏槽的下端设有开槽。
[0008]优选地，所述丝杆呈两端式设置，所述丝杆的旋转能够带动两组滑板做相向运动，进而达到调节两组研磨板之间间隙的目的。
[0009]优选地，所述电机为伺服电机。
[0010]本技术采取上述结构取得有益效果如下：本技术提供的一种小分子杂环化合物生产用原材处理装置通过设置驱动装置可以实现研磨板做交错式运动，通过研磨板达到对物料研磨的目的，通过丝杆可以调整两组研磨板之间的间隙，以满足对不同粒径的物料进行研磨。
附图说明
[0011]图1为本技术一种小分子杂环化合物生产用原材处理装置的整体结构示意图。
[0012]其中，1、箱体，2、漏斗，3、槽板，4、驱动装置，5、调节式研磨装置，6、接斗，7、支架，8、电机，9、转盘，10、滑块，11、连杆，12、拉杆，13、滑板，14、研磨板，15、丝杆，16、漏槽，17、锥体，18、开槽。
具体实施方式
[0013]下面将结合附图对本技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0014]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。以下结合附图，对本技术做进一步详细说明。
[0015]如图1，本技术一种小分子杂环化合物生产用原材处理装置，包括箱体1、漏斗2、槽板3、驱动装置4、调节式研磨装置5和接斗6，漏斗2设于箱体1的上部，槽板3设有两组且位于箱体1的外壁上，驱动装置4设于槽板3上，调节式研磨装置5位于箱体1内且与驱动装置4相连接，接斗6设于调节式研磨装置5上；驱动装置4包括支架7、电机8、转盘9、滑块10、连杆11和拉杆12，支架7设于槽板3上，电机8设于支架7上，转盘9设于电机8的动力输出端，滑块10滑动设于槽板3内，连杆11偏心铰接设于转盘9上且与滑块10铰接连接，拉杆12设于滑块10上且另一端设于调节式研磨装置5上，两组连杆11采取对称偏心铰接在转盘9上，转盘9的旋转，可以实现滑块10在槽板3上的交错运动。
[0016]调节式研磨装置5包括滑板13、研磨板14、丝杆15和漏槽16，滑板13上下设有两组且滑动设于箱体1上，研磨板14滑动设于滑板13上，丝杆15螺纹连接设于滑板13上，漏槽16设于上方的研磨板14内且上方与接斗6相连，研磨板14与拉杆12相连接。
[0017]接斗6内设有锥体17，以便于物料更顺畅的流入到漏槽16内。
[0018]漏槽16的下端设有开槽18。
[0019]丝杆15呈两端式设置，丝杆15的旋转能够带动两组滑板13做相向运动，进而达到调节两组研磨板14之间间隙的目的。
[0020]电机8为伺服电机。
[0021]具体使用时，漏斗2中加入物料，物料流入到接斗6中，物料顺着锥体17侧面的漏槽16流入到开槽18中，启动电机8，转盘9旋转，转盘9的旋转带动连杆11，连杆11推动滑块10在槽板3内滑动，由于连杆11对称偏心铰接在转盘9上，从而可以实现两组滑块10做相向运动，滑块10推动拉杆12，拉杆12带动研磨板14在滑板13内做交错运动，从而通过研磨板14达到对物料研磨的目的，根据研磨物料的颗粒大小，通过转动丝杆15，丝杆15带动两组滑板13在
箱体1壁上相向滑动，从而实现了两组研磨板14之间间隙的调整，适用性更加广泛。
[0022]以上对本技术及其实施方式进行了描述，这种描述没有限制性，附图中所示的也只是本技术的实施方式之一，实际的结构并不局限于此。总而言之如果本领域的普通技术人员受其启示，在不脱离本技术创造宗旨的情况下，不经创造性的设计出与该技术方案相似的结构方式及实施例，均应属于本技术的保护范围。
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种小分子杂环化合物生产用原材处理装置，其特征在于：包括箱体、漏斗、槽板、驱动装置、调节式研磨装置和接斗，所述漏斗设于箱体的上部，所述槽板设有两组且位于箱体的外壁上，所述驱动装置设于槽板上，所述调节式研磨装置位于箱体内且与驱动装置相连接，所述接斗设于调节式研磨装置上；所述驱动装置包括支架、电机、转盘、滑块、连杆和拉杆，所述支架设于槽板上，所述电机设于支架上，所述转盘设于电机的动力输出端，所述滑块滑动设于槽板内，所述连杆偏心铰接设于转盘上且与滑块铰接连接，所述拉杆设于滑块上且另一端设于调节式研磨装置上，所述两组连杆采取对称偏心铰接在转盘上。2.根据权利要求1所述的一种小分子杂环化合物生产用原材处理装置，其特征在于：所述调节式研磨...
【专利技术属性】
技术研发人员：萧福，李三花，
申请(专利权)人：甘肃德通医药化学技术有限公司，
类型：新型
国别省市：
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