【技术实现步骤摘要】
一种金属加工用强对流球化退火炉
[0001]本技术涉及退火炉
,具体为一种金属加工用强对流球化退火炉。
技术介绍
[0002]退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺,其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的效果而设计的。可以加热晶片以激活掺杂剂,将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面,使致密沉积的薄膜,改变生长的薄膜的状态,修复注入的损伤,移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬。
[0003]经大量检索发现:中国技术专利:申请号【CN202022256955.7】,公开号【CN213388805U】,本技术公开一种金属加工用退火炉,包括机壳,机壳的的内部底端设有第二装置腔,第二装置腔的的内部底端设有电机,电机的输出轴末端固定连接有第一转轴,第一转轴的另一端贯穿第二装置腔的顶壁并延伸至机壳的内部,机壳的内部中部设有两个弧形板,第一转轴的另一端与其中一个弧形板的底端固定连接另一个弧形板的底端固定连接有第二转轴,两个弧形板的中部设有待加工金属,本技术结构合理,使得待加 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种金属加工用强对流球化退火炉,包括壳体(5),其特征在于:所述壳体(5)内部底端固定安装有加热装置本体(7),所述壳体(5)两侧分别固定安装有鼓风机本体(1),两个鼓风机本体(1)相对一侧分别连通安装有进气管(10),两个所述鼓风机本体(1)顶部分别连通安装有连通管(2),两个所述连通管(2)背离鼓风机本体(1)的一端分别嵌入安装在壳体(5)上表面两侧,所述壳体(5)内部后端中间固定安装有放置管(8),所述壳体(5)内部顶端固定安装有集风罩(3)。2.根据权利要求1所述的一种金属加工用强对流球化退火炉,其特征在于:所述壳体(5)底端固定安装有隔热垫(6),壳体(5)正面活动安装有两个...
【专利技术属性】
技术研发人员:王洪利,姜会兴,崔伟,
申请(专利权)人:东阿县奇源金属制品有限公司,
类型:新型
国别省市:
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