一种无密封槽的真空腔体制造技术

本实用新型专利技术属于真空镀膜设备技术领域，公开了一种无密封槽的真空腔体，包括腔体框架以及嵌设于腔体框架各个面的若干密封板，腔体框架包括第一、第二基体法兰以及设置于所述第一、第二基体法兰之间的若干密封柱，密封柱沿着基体法兰的圆周边线设置，用于与密封板相抵接；密封板与密封柱螺纹连接，密封板靠近密封柱的一侧开设有斜槽面，密封柱靠近密封板的一侧设置有挤压棱柱，挤压棱柱与斜槽面相匹配；斜槽面分为第一、第二斜面，以及设于第一斜面与第二斜面夹角处的切割槽，切割槽内设置有用于提升密封性能的第一密封圈。本实用新型专利技术设置的斜槽面与挤压棱柱很大程度降低了加工难度，更利于批量生产，此外这种结构设计也提升了腔体的密封性能。体的密封性能。体的密封性能。

【技术实现步骤摘要】
一种无密封槽的真空腔体


[0001]本技术属于真空镀膜设备
，尤其涉及一种无密封槽的真空腔体。

技术介绍

[0002]真空镀膜是指在真空环境下，将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面(通常是非金属材料)，属于物理气相沉积工艺。真空镀膜技术广泛应用到电子、宇航、包装、光伏等

[0003]真空镀膜的先决条件是要确保真空腔室具有良好稳定的真空度。现有技术中，真空腔体多采用在接缝处设置多级密封槽抵接的形式来密封，此外，为了满足抽真空时的负压强度，真空腔体一般采用对厚度、强度有一定要求的钢板制成，因此，对于这种密封形式，加工起来难度很大，加工效率不高。另一方面，这种密封形式适用于小型腔体密封面之间的密封，对于较大密封面采用该种密封方式容易出现密封效果不佳的问题，从而影响到真空镀膜的效果。这种情况需要改变。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种无密封槽的真空腔体，以解决上述
技术介绍
中所提到的加工难度大、密封效果不佳等问题。
[0005]为实现以上技术目的，采用的技术方案为：
[0006]一种无密封槽的真空腔体，包括腔体框架以及嵌设于所述腔体框架各个面的若干密封板，所述腔体框架包括第一基体法兰、第二基体法兰以及设置于所述第一、第二基体法兰之间的若干密封柱，所述密封柱沿着所述第一、第二基体法兰的圆周边线设置，及用于与所述密封板相抵接；所述密封板与所述密封柱螺纹连接，所述密封板靠近所述密封柱的一侧开设有斜槽面，所述密封柱靠近所述密封板的一侧设置有挤压棱柱，所述挤压棱柱与所述斜槽面相匹配；所述斜槽面包括第一斜面和第二斜面，以及设于所述第一斜面与所述第二斜面夹角处的切割槽，所述切割槽内设置有用于提升密封性能的第一密封圈。
[0007]本技术进一步设置为：所述腔体框架的内部为中空腔体，所述第一基体法兰的顶部设置有真空操作板，所述真空操作板开设有与所述中空腔体连通的真空管，所述真空管的顶部嵌设有管口盖板，所述管口盖板的表面开设有沟槽。
[0008]本技术进一步设置为：在所述真空操作板靠近所述真空管管壁外周设置有若干真空爪夹，所述真空爪夹顶端设置有爪钩，所述爪钩向所述管口盖板表面弯曲与所述沟槽钳接。
[0009]本技术进一步设置为：在所述真空管与所述管口盖板的接缝处套设有第二密封圈。
[0010]本技术进一步设置为：所述若干密封板分别为第一密封板、第二密封板和第三密封板。
[0011]本技术进一步设置为：所述第一密封板上设置有若干放气阀，所述第一密封
板的内部铺设有冷却水管。
[0012]本技术进一步设置为：所述第二密封板的内部也铺设有冷却水管，且在所述第二密封板的表面设置有连通所述冷却水管的冷却水接头。
[0013]本技术进一步设置为：在所述第三密封板的表面开设有入料舱门，所述入料舱门与所述第三密封板的接缝处套设有第三密封圈。
[0014]综上所述，与现有技术相比，本技术公开了一种无密封槽的真空腔体，包括腔体框架以及嵌设于所述腔体框架各个面的若干密封板，所述腔体框架包括第一基体法兰、第二基体法兰以及设置于所述第一、第二基体法兰之间的若干密封柱，所述密封柱沿着所述第一、第二基体法兰的圆周边线设置，及用于与所述密封板相抵接；所述密封板与所述密封柱螺纹连接，所述密封板靠近所述密封柱的一侧开设有斜槽面，所述密封柱靠近所述密封板的一侧设置有挤压棱柱，所述挤压棱柱与所述斜槽面相匹配；所述斜槽面包括第一斜面和第二斜面，以及设于所述第一斜面与所述第二斜面夹角处的切割槽，所述切割槽内设置有用于提升密封性能的第一密封圈。
[0015]即通过在所述密封板的两侧设置斜槽面以及配合所述斜槽面在所述密封柱的两侧设置与其相互抵接的所述挤压棱柱，利用刚性材料的特殊结构件之间的互相挤压产生的结构应力，增大挤压力度，提升腔体的密封性能，同时将斜槽面与挤压棱柱切割成相匹配的形状，也增大了挤压面积，进一步提升接缝处的密封性能，此外，在所述第一斜面与所述第二斜面夹角处设置切割槽，并且在所述切割槽内设置密封圈，将多余缝隙填满，使得挤压强度增大，进一步提升密封板与密封柱之间的密封性能；最后，上述几种结构件的设计，便于加工成型，降低了加工难度，能够大幅提升加工效率，提高了市场竞争力。
附图说明
[0016]为了更清楚地说明本技术具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0017]图1是本实施例提供的一种无密封槽的真空腔体的整体结构示意图及部分放大示意图；
[0018]图2是本实施例提供的一种无密封槽的真空腔体的俯视图；
[0019]图3是本实施例提供的一种无密封槽的真空腔体的A
‑
A视角剖视图；
[0020]图4是本实施例提供的一种无密封槽的真空腔体的前视图；
[0021]图5是本实施例提供的一种无密封槽的真空腔体的后视图；
[0022]图6是本实施例提供的一种无密封槽的真空腔体的B
‑
B视角剖视图；
[0023]图7是本实施例提供的一种无密封槽的真空腔体的局部a放大示意图。
[0024]附图标记：1、腔体框架；110、中空腔体；120、真空操作板；121、真空管；122、管口盖板；123、沟槽；124、真空爪夹；125、爪钩；126、第二密封圈；2、密封板；210、斜槽面；211、第一斜面；212、第二斜面；213、切割槽；214、第一密封圈；220、第一密封板；221、放气阀；230、第二密封板；231、冷却水接头；240、第三密封板；241、入料舱门；242、第三密封圈；3、第一基体法兰；4、第二基体法兰；5、密封柱；510、挤压棱柱；6、冷却水管。
具体实施方式
[0025]为了使本技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本技术进行进一步详细说明，应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。
[0026]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0027]在本技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种无密封槽的真空腔体，包括腔体框架以及嵌设于所述腔体框架各个面的若干密封板，其特征在于，所述腔体框架包括第一基体法兰、第二基体法兰以及设置于所述第一基体法兰和所述第二基体法兰之间的若干密封柱，所述密封柱沿着所述第一基体法兰和所述第二基体法兰的圆周边线设置，及用于与所述密封板相抵接；所述密封板与所述密封柱螺纹连接，所述密封板靠近所述密封柱的一侧开设有斜槽面，所述密封柱靠近所述密封板的一侧设置有挤压棱柱，所述挤压棱柱与所述斜槽面相匹配且抵接；所述斜槽面包括第一斜面和第二斜面，以及设于所述第一斜面与所述第二斜面夹角处的切割槽，所述切割槽内设置有用于提升密封性能的第一密封圈。2.根据权利要求1所述的一种无密封槽的真空腔体，其特征在于，所述腔体框架的内部为中空腔体，所述第一基体法兰的顶部设置有真空操作板，所述真空操作板开设有与所述中空腔体连通的真空管，所述真空管的顶部嵌设有管口盖板，所述管口盖板的表面开设有沟槽。3.根据权利要求2所述的一种...

【专利技术属性】
技术研发人员：高卫民，马续航，胡青莲，
申请(专利权)人：深圳市新普真空技术有限公司，
类型：新型
国别省市：