匀流装置和镀膜设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种匀流装置和镀膜设备，该匀流装置用于镀膜设备并包括外管和内管。外管设有外出气孔；内管设置在外管内，内管与外管间隔设置，内管设有内出气孔，内出气孔和外出气孔分别设置在内管的中心轴线的两侧。本实用新型专利技术实施方式的匀流装置中，由外管和内管组成双层管结构，以在外管和内管之间形成缓冲腔，使气体匀速排放，减小管内负载。同时，内出气孔和外出气孔分别设置在内管的中心轴线的两侧，因此内出气孔流出的气体不会对外出气孔流出的气体造成扰动，如此使得外管和内管之间的整个缓冲腔内气体压力趋于平稳，从而使得外出气孔出气量均匀稳定，进而优化真空镀膜时的成膜均匀性。的成膜均匀性。的成膜均匀性。

【技术实现步骤摘要】
匀流装置和镀膜设备


[0001]本技术涉及真空镀膜
，尤其涉及一种匀流装置和镀膜设备。

技术介绍

[0002]真空镀膜技术广泛应用于材料的表面处理工艺中。在对材料基材表面进行真空镀膜时，往往会因为成膜均匀性不好而造成生产不良，尤其是在对具有较大表面积的材料表面进行镀膜时，表面成膜的表现为气体流量小的区域膜层薄，气体流量大的区域膜层厚，最终导致成膜均匀性较差。

技术实现思路

[0003]本技术提供一种匀流装置和镀膜设备，能够优化对具有较大表面积的材料表面进行镀膜时的成膜均匀性。
[0004]本技术实施方式的用于镀膜设备的匀流装置包括：
[0005]外管，所述外管设有外出气孔；
[0006]内管，所述内管设置在所述外管内，所述内管与所述外管间隔设置，所述内管设有内出气孔，所述内出气孔和所述外出气孔分别设置在所述内管的中心轴线的两侧。
[0007]本技术实施方式的匀流装置中，由外管和内管组成双层管结构，以在外管和内管之间形成缓冲腔，使气体匀速排放，减小管内负载。同时，内出气孔和外出气孔分别设置在内管的中心轴线的两侧，因此内出气孔流出的气体不会对外出气孔流出的气体造成扰动，如此使得外管和内管之间的整个缓冲腔内气体压力趋于平稳，从而使得外出气孔出气量均匀稳定，进而优化真空镀膜时的成膜均匀性。
[0008]在某些实施方式中，所述内出气孔的出气方向为第一方向，所述外出气孔的出气方向为第二方向，所述第一方向与所述第二方向之间形成的角度为150
‑
180度。<br/>[0009]如此，由于第一方向与第二方向之间形成的角度为150
‑
180度，所以内出气孔流出的气体不会对外出气孔流出的气体造成扰动。
[0010]在某些实施方式中，所述内出气孔的中心轴线为第一轴线，所述外出气孔的中心轴线为第二轴线，所述第一轴线与所述第二轴线之间形成的角度为150
‑
180度。
[0011]如此，由于第一轴线与第二轴线之间形成的角度为150
‑
180度，所以内出气孔流出的气体不会对外出气孔流出的气体造成扰动。
[0012]在某些实施方式中，所述内管具有两个端部，所述内管的两端封闭；和/或，
[0013]所述外管具有两个端部，所述外管的两端封闭。
[0014]如此，内管和外管的两端均被封闭，使得外管和内管之间的整个缓冲腔内气体匀速排放，减小管内负载。
[0015]在某些实施方式中，所述内管的壁厚大于或等于1mm并小于或等于10mm；和/或，
[0016]所述外管的壁厚大于或等于1mm并小于或等于10mm。
[0017]如此，内管和外管的壁厚均大于或等于1mm并小于或等于10mm，内管和外管的抗变
形能力强，不易在气体的气压加持下发生功能失效。
[0018]在某些实施方式中，所述内出气孔的孔径沿所述内出气孔的出气方向增大。
[0019]如此，气体通过内出气孔后可以形成扇形喷射区，减小内出气孔附近的局部气压差，进而使气体缓冲腔内各个位置的压力均匀稳定。
[0020]在某些实施方式中，所述内出气孔呈圆台形，所述内出气孔的锥度范围为60
‑
90度。
[0021]如此，在内出气孔的锥度范围为60
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90度范围下，能够有效减小内出气孔附近的局部气压差。
[0022]在某些实施方式中，所述外出气孔的孔径沿所述外出气孔的出气方向增大。
[0023]如此，气体通过外出气孔后可以形成扇形喷射区，减小外出气孔附近的局部气压差，进而使外出气孔的出气量均匀稳定。
[0024]在某些实施方式中，所述外出气孔呈圆台形，所述外出气孔的锥度范围为60
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90度。
[0025]如此，在外出气孔的锥度范围为60
‑
90度范围下，能够有效减小外出气孔附近的局部气压差。
[0026]在某些实施方式中，所述外出气孔的数量为多个，多个所述外出气孔沿所述外管的中心轴线的延伸方向间隔排布；和/或，
[0027]所述内出气孔的数量为多个，多个所述内出气孔沿所述内管的中心轴线的延伸方向间隔排布。
[0028]如此，多个内出气孔和外出气孔沿各自的中心轴线的延伸方向间隔排布，使得最终流出匀流装置的气体流量一致。
[0029]在某些实施方式中，所述匀流装置还包括进气管，所述进气管穿设于所述外管且一端与所述内管连通。
[0030]如此，气体先进入内管后再进入缓冲腔，可以有效的起到匀流的作用。
[0031]在某些实施方式中，所述进气管的一端连接在所述内管的延伸路径的中心部位。
[0032]如此，进气管设置在内管延伸路径的中心部位可以增强气体匀流的效果。
[0033]本技术实施方式的镀膜设备包括以上任一实施方式所述的匀流装置。
[0034]如此，匀流装置可以优化镀膜设备在对具有较大表面积的材料表面进行镀膜时的成膜均匀性。
[0035]本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本技术的实践了解到。
附图说明
[0036]本技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施方式的描述中将变得明显和容易理解，其中：
[0037]图1是本技术实施方式的匀流装置的结构示意图；
[0038]图2是图1的C方向的部分剖视图；
[0039]图3是本技术实施方式的外管和内管均为弧形管时的部分剖视图；
[0040]图4是本技术实施方式的外管和内管均为环形管时的部分剖视图。
[0041]主要元件符号说明：匀流装置100；外管10；内管20；外出气孔11；内出气孔21；缓冲腔30；进气管40；第一封板22；第二封板12。
具体实施方式
[0042]下面详细描述本技术的实施方式，所述实施方式的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施方式是示例性的，仅用于解释本技术，而不能理解为对本技术的限制。
[0043]在本技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种匀流装置，用于镀膜设备，其特征在于，所述匀流装置包括：外管，所述外管设有外出气孔；内管，所述内管设置在所述外管内，所述内管与所述外管间隔设置，所述内管设有内出气孔，所述内出气孔和所述外出气孔分别设置在所述内管的中心轴线的两侧。2.根据权利要求1所述的匀流装置，其特征在于，所述内出气孔的出气方向为第一方向，所述外出气孔的出气方向为第二方向，所述第一方向与所述第二方向之间形成的角度为150
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180度。3.根据权利要求1所述的匀流装置，其特征在于，所述内出气孔的中心轴线为第一轴线，所述外出气孔的中心轴线为第二轴线，所述第一轴线与所述第二轴线之间形成的角度为150
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180度。4.根据权利要求1所述的匀流装置，其特征在于，所述内管具有两个端部，所述内管的两端封闭；和/或，所述外管具有两个端部，所述外管的两端封闭。5.根据权利要求1所述的匀流装置，其特征在于，所述内管的壁厚大于或等于1mm并小于或等于10mm；和/或，所述外管的壁厚大于或等于1mm并小于或等于10mm。6.根据权利要求1所述的匀流装置，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：王伟，王岳利，石开发，
申请(专利权)人：宁德时代新能源科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：