喷嘴及其制造方法和在吸入装置中的用途以及吸入装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种喷嘴及其制造方法和在吸入装置中的用途以及吸入装置。其中用于将液体雾化成可吸入的气雾剂的吸入装置的喷嘴具有喷嘴主体，喷嘴主体具有前端并且包括至少两个喷射通道，每个通道具有通道出口，其中，喷射通道被布置成沿着相应的喷射轨迹喷射液体，喷射轨迹在碰撞点处彼此相交，其中，在喷嘴主体的前端处提供至少一个凹部，通道出口中的至少两个被定位在凹部中，其中，喷嘴主体具有平坦侧面，其中至少两个喷射通道以第一深度被固定在平坦侧面上，其中，进一步提供盖，盖遮盖至少两个喷射通道并且具有前端，以垂直于喷嘴主体的纵向轴线的视角来看盖的前端与喷嘴主体的前端一致，并且其中，在通道出口处存在台阶。在通道出口处存在台阶。在通道出口处存在台阶。

【技术实现步骤摘要】
喷嘴及其制造方法和在吸入装置中的用途以及吸入装置
[0001]本申请是申请日为2019年3月19日、专利技术名称为“用于吸入装置的喷雾嘴”的申请号为201980020900.3的专利申请的分案申请。


[0002]本专利技术涉及用于液体的吸入装置的领域。具体地，本专利技术涉及一种在这样的吸入装置中使用的雾化喷嘴，以及一种制造这样的喷嘴的方法。

技术介绍

[0003]长久以来，用于液体的雾化器或其他气雾发生器在本领域中是众所周知的。除其他之外，此类装置还被用于医学科学和医学治疗中。在医学科学和医学治疗中，它们用作吸入装置来以气雾剂(即，嵌入气体中的小液滴)形式施加活性成分。这种吸入装置例如在文件EP 0 627 230B1中是众所周知的。这种吸入装置的主要部件是：储器，在所述储器中含有待雾化的液体；泵送单元，所述泵送单元用于产生用于雾化的足够高的压力；以及喷嘴形式的雾化装置。
[0004]在与本专利技术相同的申请人提交的专利申请EP 17168869中公开了这种吸入装置的改进，所述专利申请的全部内容并入本文中。
[0005]为了实现使液滴足够均质且细雾化，通常需要相对较高的压力，诸如10巴、最高1000巴。为了使每个剂量的汽化液体的量保持在可接受的低水平，雾化喷嘴通常包括一个或几个通道，每个通道的截面仅为几μm<2>的数量级，例如从2μm<2>至200μm<2>。通道存在于喷嘴主体中，并且往往使用诸如微蚀刻、微光刻等微技术制造技术来制造。然而，这些技术往往针对硬且脆的材料(诸如硅、玻璃或金属)，并且为了避免在承受所述高压时喷嘴出现任何不期望的变形，所述喷嘴往往由非常刚性的材料制成。
[0006]因此，喷嘴通常被保持在金属壳体中，所述金属壳体在组装和使用期间保护所述喷嘴。尽管往往将术语“喷嘴”用于壳体和一起形成实际喷嘴的部分，但在下文中，术语“喷嘴
”“”
和“喷嘴主体”是指引导液体的“主要”部分。
[0007]为了由硅或玻璃制造喷嘴，往往对圆盘状的衬底晶片进行掩模，并且用喷嘴的大量的二维轮廓或诸如通道之类的喷嘴特征进行照射。然后，通过选择性蚀刻，将轮廓、特别是通道竖直地蚀刻到衬底中，使得存在载有数十个或数百个分批制造的半成品喷嘴的晶片。在分离步骤中，通过晶片锯的锯切将所述晶片切割成表示各个喷嘴的块。
[0008]然而，如果锯床关于喷嘴的对准不是非常精确的(或者甚至在锯切过程期间发生改变)，则通道的长度会受到不利影响。在一个喷嘴内，如果锯的角度未精确地垂直于所述喷嘴的纵向轴线取向，则两个(或更多个)通道的长度不同，因为所述喷嘴的前边缘不垂直于所述喷嘴的(通常存在的)对称轴线和纵向轴线。此外，一个喷嘴的所有通道的平均长度随喷嘴不同而变化，使得喷嘴的非常不均匀的输出是不期望的结果。
[0009]另一个问题源于在锯切期间可能会使材料的小片破裂。这会导致存在不均匀的“条纹状的”通道出口，从而导致射流不佳，因此形成液滴。
[0010]又一个问题是由于在使用期间在组装喷嘴时通道出口的损坏或者由于在制造、使用和储存期间的污染而引起的。灰尘或指纹会堵塞出口，从而由于形成不均匀的射流而导致液体汽化不佳。

技术实现思路

[0011]在第一方面中，本专利技术提供了一种用于将液体雾化成可吸入的气雾剂的吸入装置的喷嘴，所述喷嘴具有喷嘴主体(1)，所述喷嘴主体具有前端(1B)并且包括至少两个喷射通道(2、2')，每个通道(2、2')具有通道出口(2A、2A')，其中，所述喷射通道(2、2')被布置成沿着相应的喷射轨迹喷射液体，所述喷射轨迹在碰撞点处彼此相交，其中，在所述前端(1B)处提供至少一个凹部(3)，所述通道出口(2A、2A')中的至少两个被定位在所述凹部中，其中，所述喷嘴主体(1)具有平坦侧面(1A)，其中所述至少两个液体通道(2、2')以限定深度(D)被固定在所述平坦侧面(1A)上，其中，进一步提供了盖(4)，所述盖遮盖所述至少两个通道(2、2')并且具有前端(4B)，以垂直于所述喷嘴主体(1)的纵向轴线(X)的视角来看所述前端(4B)与所述喷嘴主体(1)的所述前端(1B)一致，并且其中，所述凹部(3)具有第一深度(D')，所述第一深度大于所述至少两个通道(2、2')的所述深度(D)。
[0012]在第二方面中，本专利技术提供了一种用于制造根据本专利技术的第一方面的喷嘴的方法，所述方法包括以下步骤：
[0013]a)提供喷嘴主体(1)，所述喷嘴主体具有前端(1B)并且包括至少两个喷射通道(2、2')，每个通道(2、2')具有通道出口(2A、2A')，其中，所述喷射通道(2、2')被布置成沿着相应的喷射轨迹喷射液体，所述喷射轨迹在碰撞点处彼此相交，其中，在所述前端(1B)
[0014]处提供至少一个凹部(3)，所述通道出口(2A、2A')中的至少两个被定位在所述凹部中，其中，所述喷嘴主体(1)具有平坦侧面(1A)，其中所述至少两个液体通道(2、2')以限定深度(D)被固定在所述平坦侧面(1A)上，所述提供喷嘴主体包括以下步骤：
[0015]‑
提供晶片衬底；
[0016]‑
在所述衬底的一个侧面(1A)上制造至少两个液体通道(2、2')，所述通道(2、2')具有限定深度(D)；
[0017]‑
在所述主体(1)的所述一个侧面(1A)中制造具有第一深度(D')的凹部(3)，所述第一深度(D')大于所述至少两个液体通道(2、2')的所述深度(D)，所述凹部遮盖所述通道(2、2')的端部；
[0018]‑
沿着与所述凹部(3)交叉的分割线(5)将所述主体(1)与所述衬底分离；
[0019]使得在所述凹部(3)中获得至少两个通道出口(2B、2B')，其中，
[0020]所述通道出口(2A、2A')之间的距离保持不受所述分割线(5)偏离最佳分割线(5')的可能角度或线性偏差的影响，以及
[0021]b)用盖(4)遮盖所述喷嘴主体(1)。
[0022]在进一步方面中，本专利技术提供了通过根据本专利技术的第二方面的方法获得或可获得的根据本专利技术的第一方面的喷嘴，以及提供了根据本专利技术的第一方面的喷嘴在用于将液体雾化成可吸入的气雾剂的吸入装置中的使用。
[0023]在又进一步方面中，本专利技术提供了一种用于将液体雾化成可吸入的气雾剂的吸入装置，所述吸入装置包括根据本专利技术的第一方面的喷嘴。
[0024]专利技术目的
[0025]本专利技术的目的是提供一种避免已知技术的一个或多个缺点的喷嘴。
[0026]进一步目的是提供一种用于制造喷嘴或喷嘴主体的方法，所述方法确保当喷嘴主体与晶片分离时，通道出口的相对位置或质量不受分离过程的影响。
[0027]当与晶片分离时，对于具有通道的喷嘴(所述通道关于所述喷嘴的纵向轴线对称和/或具有特定长度)，所述对称性和/或所述长度不受分离过程的影响。
[0028]在分批制造本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于将液体雾化成可吸入的气雾剂的吸入装置的喷嘴，所述喷嘴具有喷嘴主体(1)，所述喷嘴主体具有前端(1B)并且包括至少两个喷射通道(2、2')，每个通道(2、2')具有通道出口(2A，2A')，其中，所述喷射通道(2、2')被布置成沿着相应的喷射轨迹喷射液体，所述喷射轨迹在碰撞点处彼此相交，其中，在所述喷嘴主体(1)的所述前端(1B)处提供至少一个凹部(3)，所述通道出口(2A、2A')中的至少两个被定位在所述凹部(3)中，其中，所述喷嘴主体(1)具有平坦侧面(1A)，其中所述至少两个喷射通道(2、2')以第一深度(D)被固定在所述平坦侧面(1A)上，其中，进一步提供盖(4)，所述盖(4)遮盖所述至少两个喷射通道(2、2')并且具有前端(4B)，以垂直于所述喷嘴主体(1)的纵向轴线(X)的视角来看所述盖(4)的所述前端(4B)与所述喷嘴主体(1)的所述前端(1B)一致，并且其中，在所述通道出口(2A、2A')处存在台阶。2.根据权利要求1所述的喷嘴，其中，所述台阶具有由所述至少两个喷射通道(2、2')的所述第一深度(D)限定的第一表面和由所述凹部(3)的大于所述第一深度(D)的第二深度(D')限定的第二表面。3.根据权利要求1所述的喷嘴，其中，每个所述通道出口(2A、2A')具有由所述凹部(3)的大于所述第一深度(D)的第二深度(D')限定的底侧面。4.根据权利要求1所述的喷嘴，其中，每个所述通道出口(2A、2A')具有由所述凹部(3)的宽度限定的右侧面和左侧面。5.根据权利要求1所述的喷嘴，其中，所述凹部(3)的制造方法选自掩模、选择性蚀刻、激光钻孔或激光烧蚀。6.根据权利要求1所述的喷嘴，其中，所述凹部(3)通过与所述喷射通道(2、2')相同的过程制造。7.根据权利要求1所述的喷嘴，其中，提供至少两个凹部(3)，并且其中，仅一个通道出口(2A、2A')位于所述至少两个凹部(3)的每一个中。8.根据权利要求1或7所述的喷嘴，其中，所述喷嘴主体(1)是整体结构。9.根据权利要求1或7所述的喷嘴，其中，所述凹部(3)进一步具有延伸到所述盖(4)中的上部(3')。10.根据权利要求1或7所述的喷嘴，其中，沿着纵向轴线(X)看，所述凹部(3)具有增加的第二深度(D')和/或宽度(W')，使得提供倾斜截面，所述倾斜截面在所述喷嘴主体(1)的所述前端(1B)、所述盖(4)的所述前端(4B)处最宽。11.根据权利要求9所述的喷嘴，其中，沿着纵向轴线(X)看，所述凹部(3)具有增加的第二深度(D')和/或宽度(W')，使得提供倾斜截面，所述倾斜截面在所述喷嘴主体(1)的所述前端(1B)、所述盖(4)的所述前端(4B)处最宽。12.根据权利要求1或7所述的喷嘴，包括多个喷嘴主体(1)。13.根据权利要求12所述的喷嘴，其中，每个喷嘴主体(1)具有其自己的凹部(3)。14.根据权利要求12所述的喷嘴，其中，多个喷嘴主体(1)共用一个公共凹部(3)。15.根据权利要求1或7所述的喷嘴，其中，与一个喷嘴主体(1)的所述平坦侧面(1A)相对的侧面用作邻接喷嘴主体(1)的盖(4)。16.根据权利要求9所述的喷嘴，其中，所述盖(4)提供所述凹部(3)的所述上部(3')，并且其中，所述上部(3')从所述盖(4)的一个侧面延伸到另一个侧面。
17.根据权利要求16所述的喷嘴，其中，所述上部(3')具有倒角的形状，具有与通道邻接的边缘(6)。18.根据权利要求1或7所述的喷嘴，其中，所述喷嘴是由晶片衬底分批制造的。19.根据权利要求18所述的喷嘴，其中，所述晶片衬底包含脆性材料。20.根据权利要求18所述的喷嘴，其中，所述晶片衬底由脆性材料组成。21.根据权利要求19或20所述的喷嘴，其中，所述脆性材料为硅、玻璃或陶瓷。22.根据权利要求18所述的喷嘴，其中，所述晶片衬底包含聚醚醚酮。23.根据权利要求18所述的喷嘴，其中，所述晶片衬底由聚醚醚酮组成。24.一种用于制造用于将液体雾化成可吸入的气雾剂的吸入装置的喷嘴的方法，所述方法包括以下步骤：a)提供喷嘴主体(1)，所述喷嘴主体具有前端(1B)并且包括至少两个喷射通道(2、2')，每个通道(2、2')具有通道出口(2A、2A')，其中，所述喷射通道(2、2')被布置成沿着相应的喷射轨迹喷射液体，所述喷射轨迹在碰撞点处彼此相交，其中，在所述喷嘴主体(1)的所述前端(1B)处提供至少一个凹部(3)，所述通道出口(2A、2A')中的至少两个被定位在所述凹部中，其中，所述喷嘴主体(1)具有平坦侧面(1A)，其中所述至少两个喷射通道(2、2')以第一深度(D)被固定在所述平坦侧面(1A)上，所述提供喷嘴主体包括以下步骤：
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提供晶片衬底；
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【专利技术属性】
技术研发人员：F，
申请(专利权)人：索芙特海尔公司，
类型：发明
国别省市：