【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于制造和/或处理颗粒的反应器系统和方法
[0001]本专利技术涉及一种用于在振动工艺气体流中制造和/或处理颗粒的反应器系统,所述反应器系统带有反应器单元,所述反应器单元具有前置的工艺气体供应单元和后置的工艺气体导出单元,所述反应器单元具有至少一个反应器,所述反应器包括用于制造和/或处理颗粒的反应室和用于将原材料引入到反应室中的进料装置,其中,沿工艺气体导出单元的方向穿流反应器单元的工艺气体能够经由工艺气体供应单元供应给反应器单元,并且反应器系统包括适用于产生工艺气体的脉动的脉动装置,其中,借助脉动装置能够对工艺气体施加具有脉动频率和脉动压力幅度的脉动,并且其中,具有尤其是可调整的静态工艺气体压力的反应器系统构造为声学共振器,所述共振器具有相应限定共振状态的固有共振频率,并且工艺气体能够在反应器系统中构造能共振的气体柱,使得共振器能够通过由脉动装置产生的脉动的脉动频率和/或脉动压力幅度来激励,并且在共振状态下脉动能够被增强成工艺气体的具有共振频率和共振压力幅度的共振振动,并且其中,工艺气体供应单元和工艺气体导出单元分别包括产生压力损失的压力损失产生装置,其中,压力损失产生装置如此构造,使得共振状态中的一个能够选择性地进行调整。
[0002]此外,本专利技术涉及一种用于在振动的工艺气体流中制造和/或处理颗粒的方法,其包括反应器系统,所述反应器系统带有反应器单元,所述反应器单元具有前置的工艺气体供应单元和后置的工艺气体导出单元,所述反应器单元具有至少一个反应器,所述反应器包括用于制造和/或处理颗粒的反应室和用于将原材料引入到反应 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于在振动工艺气体流中制造和/或处理颗粒(P)的反应器系统(1),所述反应器系统带有反应器单元(2),所述反应器单元具有前置的工艺气体供应单元(3)和后置的工艺气体导出单元(4),所述反应器单元具有至少一个反应器(9),所述反应器包括用于制造和/或处理颗粒的反应室(8)和用于将原材料引入到反应室(8)中的进料装置(10),其中,沿所述工艺气体导出单元(4)的方向穿流所述反应器单元(2)的所述工艺气体(PG)能够经由所述工艺气体供应单元(3)供应给所述反应器单元(2),并且所述反应器系统(1)包括适用于产生工艺气体(PG)的脉动的脉动装置(7),其中,借助所述脉动装置(7)能够对所述工艺气体(PG)施加具有脉动频率和脉动压力幅度的脉动,并且其中,具有尤其是可调整的静态工艺气体压力的反应器系统(1)构造为声学共振器(12),所述共振器具有相应限定共振状态的固有共振频率,并且所述工艺气体(PG)能够在所述反应器系统(1)中构造能共振的气体柱,使得所述共振器(12)能够通过由所述脉动装置(7)产生的所述脉动的脉动频率和/或脉动压力幅度来激励,并且在所述共振状态下所述脉动能够被增强成所述工艺气体(PG)的具有共振频率和共振压力幅度的共振振动,并且其中,所述工艺气体供应单元(3)和所述工艺气体导出单元(4)分别包括产生压力损失的压力损失产生装置(13),其中,所述压力损失产生装置(13)如此构造,使得所述共振状态中的一个能够选择性地进行调整,其特征在于,所述脉动装置(7)配置成,使所述脉动的脉动频率和/或脉动压力幅度与所述共振器(12)的固有共振频率中的一个相适配,从而能够达到所选择的共振状态。2.根据权利要求1所述的反应器系统(1),其特征在于,所述脉动装置(7)构造为无焰工作的脉动装置(7)。3.根据权利要求1或2所述的反应器系统(1),其特征在于,所述反应器系统(1)具有用于加热所述工艺气体(PG)的加热装置(6)。4.根据权利要求3所述的反应器系统(1),其特征在于,所述加热装置(6)布置在所述脉动装置(7)的上游或在其下游。5.根据前述权利要求中任一项所述的反应器系统(1),其特征在于,在运行状态下所述压力损失产生装置(13)在所述工艺气体供应单元(3)和所述工艺气体导出单元(4)中在其相应的位置方面不可变地布置。6.根据前述权利要求中任一项所述的反应器系统(1),其特征在于,所述脉动装置(7)构造为压力损失产生装置(13)。7.根据前述权利要求中任一项所述的反应器系统(1),其特征在于,在所述至少一个反应器(9)的上游布置有工艺气体体积流调节装置(17)。8.根据权利要求7所述的反应器系统(1),其特征在于,所述工艺气体体积流调节装置(17)布置在所述脉动装置(7)的下游。9.根据权利要求7或8所述的反应器系统(1),其特征在于,所述工艺气体体积流调节装置(17)构造为滑动滑阀、调节阀、调节旋塞或可调节的光阑式节流阀。10.根据权利要求7至9中任一项所述的反应器系统(1),其特征在于,所述工艺气体体积流调节装置(17)具有小于等于3%、优选小于等于2%、特别优选小于等于1%并且最优选小于等于0.5%的调节精度。11.根据前述权利要求中任一项所述的反应器系统(1),其特征在于,在所述至少一个反应器(9)的上游布置有工艺气体流分配装置(18),使得所述反应器单元(2)的每个反应器
(9)配属有至少一个工艺气体输入管路(19)。12.根据权利要求11所述的反应器系统(1),其特征在于,所述工艺气体流分配装置(18)布置在所述脉动装置(7)的下游。13.根据权利要求11或12所述的反应器系统(1),其特征在于,每个工艺气体输入管路(19)具有工艺气体体积流调节装置(17)。14.根据权利要求11至13中任一项所述的反应器系统(1),其特征在于,每个工艺气体输入管路(19)如此构造,使得每个工艺气体输入管路(19)在所述工艺气体流分配装置(18)和反应器入口(20)之间具有压力损失,其中,每个工艺气体输入管路(19)中的压力损失基本上一样大。15.根据权利要求11至14中任一项所述的反应器系统(1),其特征在于,所述工艺气体输入管路(19)具有相同的工艺气体输入管路长度和/或相同的工艺气体输入管路内径和/或其他相同的内置件。16...
【专利技术属性】
技术研发人员:F,
申请(专利权)人:顺利工程技术有限责任公司,
类型:发明
国别省市:
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