一种紧微区磁光克尔测量装置制造方法及图纸

技术编号:36258517 阅读:45 留言:0更新日期:2023-01-07 09:55
本实用新型专利技术涉及一种紧微区磁光克尔测量装置,包括系统支撑部分、显微成像部分、克尔转角探测部分、三维扫描及控制部分、低温部分和磁场产生部分;所述系统支撑部分包括紧微区磁光克尔测量装置底盘和光学系统支撑架,所述光学系统支撑架的顶部固定有用于封装显微成像部分的显微成像模块。该紧微区磁光克尔测量装置,将显微光学成像系统、克尔角光学测量系统、磁场产生系统、低温系统、运动控制系统进行有机集成设计,在一套装置上同时实现光学微区成像、克尔扫描成像、克尔磁滞回线、温度扫描控制等多种功能。整套产品同结构紧凑、性能稳定、使用方便,通过在电脑软件上进行参数设计即可完成全部测量。成全部测量。成全部测量。

【技术实现步骤摘要】
一种紧微区磁光克尔测量装置


[0001]本技术涉及磁光克尔装置
,具体为一种紧微区磁光克尔测量装置。

技术介绍

[0002]磁光克尔装置是一种用来研究材料或器件磁性和磁光特性的实验装置,它由光学测量系统、磁场产生系统和低温系统等三部分组成,激光发出的线偏振光和磁性材料相互作用后,偏振面发生偏转,经过检偏器后采用光电探测器进行探测,通过计算探测器测的光强随磁场变化关系即可得到克尔转角随磁场变化曲线,磁场产生系统用来产生磁场,通常采用电磁铁或超导磁体。低温系统用来提供低温环境,通常有液氮或者液氦低温恒温器及辅助系统组成,目前商用的磁光克尔测量系统通常针对块材或薄膜样品设计,利用电磁体产生磁场,然后扫描磁场测量克尔转角,通过多次扫描测量取平均值来获的高的探测信噪比。
[0003]目前的磁光克尔测量装置主要分为两类:一类主要针对的对象是薄膜样品或者块体,不具有成像功能;另一类主要针对磁畴,主要采用偏振光成像的方法进行磁畴成像,不能进行磁滞回线扫描,适用于磁性较强的样品,以上均不能很好的实现在一套装置上同时实现光学微区成像、克尔扫描成像、克尔磁滞回线、温度扫描控制等多种功能。

技术实现思路

[0004](一)解决的技术问题
[0005]针对现有技术的不足,本技术提供了一种紧微区磁光克尔测量装置,具备结构紧凑、性能稳定和使用方便的优点,解决了目前的磁光克尔测量装置不能很好的实现在一套装置上同时实现光学微区成像、克尔扫描成像、克尔磁滞回线、温度扫描控制等多种功能的问题。
[0006](二)技术方案
[0007]为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种紧微区磁光克尔测量装置,包括系统支撑部分、显微成像部分、克尔转角探测部分、三维扫描及控制部分、低温部分和磁场产生部分;
[0008]所述系统支撑部分包括紧微区磁光克尔测量装置底盘和光学系统支撑架,所述光学系统支撑架的顶部固定有用于封装显微成像部分的显微成像模块,所述显微成像模块的底部装配有显微物镜,所述显微成像模块的顶部固定有用于封装克尔转角探测部分的克尔转角测量模块;
[0009]所述三维扫描及控制部分包括运动控制器、三维运动控制器支撑架、Z轴电控平移台和X轴、Y轴二维运动平移台,运动控制器安装在紧微区磁光克尔测量装置底盘上,所述紧微区磁光克尔测量装置底盘上还装配有位于运动控制器右侧的三维运动控制器支撑架,所述三维运动控制器支撑架上装配有Z轴电控平移台,所述Z轴电控平移台上安装有位于显微物镜外部的X轴、Y轴二维运动平移台;
[0010]所述磁场产生部分包括电磁铁安装底座和电磁铁,所述紧微区磁光克尔测量装置底盘上设置有电磁铁安装底座,所述电磁铁安装底座的顶部固定有位于X轴、Y轴二维运动平移台底部的电磁铁;
[0011]所述低温部分包括低温恒温器支撑台和低温恒温器,所述电磁铁中装配有低温恒温器支撑台,所述低温恒温器支撑台上设置有低温恒温器,所述低温恒温器内放置有样品。
[0012]进一步,所述电磁铁上开设有侧孔,所述电磁铁的上下线圈中间为中空结构,可以用来安装低温恒温器及配套机械部件。
[0013]进一步,所述低温恒温器通过机械部件安装在X轴、Y轴二维运动平移台上。
[0014]进一步,所述显微物镜可以从电磁铁上侧孔内穿入,实现对低温恒温器内样品的聚焦测量。
[0015]进一步,所述显微成像模块包括照明光源、第一反射镜、第一分束器、第一竖直通光孔和成像相机。
[0016]进一步,所述克尔转角测量模块包括激光光源、光功率稳定模块、第二反射镜、光学调制器、光弹调制器、第二分束器、第三反射镜、第二竖直通光孔和光电探测器。
[0017](三)有益效果
[0018]与现有技术相比,本申请的技术方案具备以下有益效果:
[0019]1、该紧微区磁光克尔测量装置,通过控制X轴、Y轴二维运动平移台和Z轴电控平移台运动,可以在X、Y和Z三个方向移动或者扫描样品,显微成像模块内部照明光路采用科勒照明方式,可以在大范围观测样品表面,通过控制磁场系统、温度控制系统、运动控制系统及克尔转角测量系统协同工作,可以实现具有亚微米分辨率的低温微区磁光克尔成像测量及磁滞回线测量功能。
[0020]2、该紧微区磁光克尔测量装置,将显微光学成像系统、克尔角光学测量系统、磁场产生系统、低温系统、运动控制系统进行有机集成设计,在一套装置上同时实现光学微区成像、克尔扫描成像、克尔磁滞回线、温度扫描控制等多种功能。整套产品同结构紧凑、性能稳定、使用方便,通过在电脑软件上进行参数设计即可完成全部测量。
附图说明
[0021]图1为本技术外观及主体示意图;
[0022]图2为本技术显微成像模块内部光路原理图;
[0023]图3为本技术克尔转角测量模块内部光路原理图。
[0024]图中:1紧微区磁光克尔测量装置底盘、2光学系统支撑架、3显微成像模块、4克尔转角测量模块、5运动控制器、6三维运动控制器支撑架、7Z轴电控平移台、8电磁铁安装底座、9电磁铁、10低温恒温器支撑台、11低温恒温器、12X轴、Y轴二维运动平移台、13显微物镜、14照明光源、15第一反射镜、16第一分束器、17第一竖直通光孔、18成像相机、19激光光源、20光功率稳定模块、21第二反射镜、22光学调制器、23光弹调制器、24第二分束器、25第三反射镜、26第二竖直通光孔、27光电探测器。
具体实施方式
[0025]下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行
清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。
[0026]请参阅图1

3,本实施例中的一种紧微区磁光克尔测量装置,包括系统支撑部分、显微成像部分、克尔转角探测部分、三维扫描及控制部分、低温部分和磁场产生部分;
[0027]在本实施例中系统支撑部分包括紧微区磁光克尔测量装置底盘1和光学系统支撑架2,光学系统支撑架2的顶部固定有用于封装显微成像部分的显微成像模块3,显微成像模块3的底部装配有显微物镜13,显微成像模块3的顶部固定有用于封装克尔转角探测部分的克尔转角测量模块4;
[0028]一部分的实施例中,三维扫描及控制部分包括运动控制器5、三维运动控制器支撑架6、Z轴电控平移台7和X轴、Y轴二维运动平移台12,运动控制器5安装在紧微区磁光克尔测量装置底盘1上,主要用来控制样品台沿X、Y和Z三个方向的运动,紧微区磁光克尔测量装置底盘1上还装配有位于运动控制器5右侧的三维运动控制器支撑架6,三维运动控制器支撑架6上装配有Z轴电控平移台7,Z轴电控平移台7上安装有位于显微物镜13外部的X轴、Y轴二维运动平移台12;
[0029]在实施时,磁场产生部分包括电磁铁安装底本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种紧微区磁光克尔测量装置,包括系统支撑部分、显微成像部分、克尔转角探测部分、三维扫描及控制部分、低温部分和磁场产生部分,其特征在于:所述系统支撑部分包括紧微区磁光克尔测量装置底盘(1)和光学系统支撑架(2),所述光学系统支撑架(2)的顶部固定有用于封装显微成像部分的显微成像模块(3),所述显微成像模块(3)的底部装配有显微物镜(13),所述显微成像模块(3)的顶部固定有用于封装克尔转角探测部分的克尔转角测量模块(4);所述三维扫描及控制部分包括运动控制器(5)、三维运动控制器支撑架(6)、Z轴电控平移台(7)和X轴、Y轴二维运动平移台(12),运动控制器(5)安装在紧微区磁光克尔测量装置底盘(1)上,所述紧微区磁光克尔测量装置底盘(1)上还装配有位于运动控制器(5)右侧的三维运动控制器支撑架(6),所述三维运动控制器支撑架(6)上装配有Z轴电控平移台(7),所述Z轴电控平移台(7)上安装有位于显微物镜(13)外部的X轴、Y轴二维运动平移台(12);所述磁场产生部分包括电磁铁安装底座(8)和电磁铁(9),所述紧微区磁光克尔测量装置底盘(1)上设置有电磁铁安装底座(8),所述电磁铁安装底座(8)的顶部固定有位于X轴、Y轴二维运动平移台(12)底部的电磁铁(9);所述低温部分包括低温恒温器支撑台(10)和低...

【专利技术属性】
技术研发人员:韩世玉戴宏伟李森韩洪良
申请(专利权)人:湖北众韦光电科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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