一种高精度的双UVW对位平台结构制造技术

本实用新型专利技术提供了一种高精度的双UVW对位平台结构，包括底板、下移动结构、多块L形板、第一层UVW对位平台、上移动结构和第二层UVW对位平台，所述下移动结构安装在底板上，多块所述L形板安装在下移动结构和第一层UVW对位平台之间，所述第一层UVW对位平台低于下移动结构，所述上移动结构安装在第一层UVW对位平台上，所述第二层UVW对位平台安装在上移动结构上。本实用新型专利技术具有纵向空间占用较少的优点，使得本实用新型专利技术的结构更加紧凑，利于应用在对于纵向安装空间控制较严的设备中。安装空间控制较严的设备中。安装空间控制较严的设备中。

【技术实现步骤摘要】
一种高精度的双UVW对位平台结构


[0001]本技术涉及UVW对位平台领域，具体是一种高精度的双UVW对位平台结构。

技术介绍

[0002]现有技术(公开(公告)号：CN214278637U，公开(公告)日：2021
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24)公开了一种半自动光刻机精密对位平台，其特征在于，包括上mask和下mask(4)，所述下mask(4)固定在下固定板(3)上，所述下固定板(3)固定安装在第二层UVW对位平台(8)上，所述第二层UVW对位平台(8)底部通过设置移动结构(5)固定在第一层UVW对位平台(9)上，所述第二层UVW对位平台(8)在第一层UVW对位平台(9)前后左右滑动，所述第一层UVW对位平台(9)底部通过设置移动结构(5)在底板上前后左右移动，所述下mask(4)的下方设有相机(7)，所述相机(7)设有镜头，所述镜头直接对准下mask(4)设置。
[0003]该现有技术中，第二层UVW对位平台(8)、设置在UVW对位平台(8)底部的移动结构(5)、第一层UVW对位平台(9)以及设置在第一层UV本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高精度的双UVW对位平台结构，其特征在于：包括底板、下移动结构、多块L形板、第一层UVW对位平台、上移动结构和第二层UVW对位平台，所述下移动结构安装在底板上，多块所述L形板安装在下移动结构和第一层UVW对位平台之间，所述第一层UVW对位平台低于下移动结构，所述上移动结构安装在第一层UVW对位平台上，所述第二层UVW对位平台安装在上移动结构上。2.根据权利要求1所述的一种高精度的双UVW对位平台结构，其特征在于：所述第一层UVW对位平台对应下移动结构的位置开设有避让位。3.根据权利要求1所述的一种高精度的双UVW对位平台结构，其特征在于...

【专利技术属性】
技术研发人员：高剑，曾春燕，黎喜安，曾祥清，
申请(专利权)人：东莞市和川机械设备科技有限公司，
类型：新型
国别省市：