【技术实现步骤摘要】
样品处理设备
[0001]本专利技术涉及半导体器件检测领域，尤其是涉及一种样品处理设备。
技术介绍
[0002]在对例如封装器件等样品进行失效检测时，需要通过酸液去除封装器件外部的封装体以暴露其内部结构，上述操作通常由实验人员完成，具体是实验人员将样品放入存放有酸液的容器内浸泡一定时间后，再将浸泡后的样品取出清洗，为了减少实验人员手动操作时存在的安全隐患，目前市面上还存在自动处理设备，能够通过机械手将样品移入与移出酸槽，然而，机械手在工作过程中容易因接触酸液而发生腐蚀，需要频繁地维护甚至更换机械手，增加了自动处理设备使用成本。
技术实现思路
[0003]本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本专利技术提出一种样品处理设备，能够降低样品处理设备的成本。
[0004]根据本专利技术第一实施例的样品处理设备，包括机架组件以及连接于所述机架组件的上料组件、下料组件、第一移料组件与第二移料组件，所述机架组件具有处理区，所述处理区至少设置有存放酸液的酸槽；
[0005]其中，所述样品处...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.样品处理设备，其特征在于，包括机架组件以及连接于所述机架组件的上料组件、下料组件、第一移料组件与第二移料组件，所述机架组件具有处理区，所述处理区至少设置有存放酸液的酸槽；其中，所述样品处理设备被配置为：所述上料组件用于向所述第一移料组件转移待处理的样品，且待处理的样品能够通过所述第一移料组件转移至所述第二移料组件，并通过所述第二移料组件转移至所述处理区内执行处理，已处理的样品能够通过所述第二移料组件转移至所述第一移料组件，所述下料组件用于从所述第一移料组件转移已处理的样品。2.根据权利要求1所述的样品处理设备，其特征在于，所述处理区还设置有存放清洗液的清洗槽，所述酸槽与所述清洗槽沿第一水平方向排布；所述第一移料组件被配置为：能够沿所述第一水平方向依次承载待酸蚀的样品、待清洗的样品与已处理的样品，并能够同步驱动待酸蚀的样品、待清洗的样品与已处理的样品沿所述第一水平方向移动，以使待酸蚀的样品从与所述上料组件对应的上料工位移动至与所述酸槽对应的酸蚀工位，使待清洗的样品从所述酸蚀工位移动至与所述清洗槽对应的清洗工位，以及使已处理的样品从所述清洗工位移动至与所述下料组件对应的下料工位。3.根据权利要求2所述的样品处理设备，其特征在于，所述第一移料组件包括第一支架，以及沿所述第一水平方向依次连接于所述第一支架的第一移料部件、第二移料部件与第三移料部件，所述第一移料部件用于承载待酸蚀的样品，所述第二移料部件用于承载待清洗的样品，所述第三移料部件用于承载已处理的样品；所述第二移料组件包括第二支架，以及沿第一水平方向依次连接于所述第二支架的第一升降部件与第二升降部件，所述第一升降部件位于所述酸蚀工位，用于承载并驱动待酸蚀的样品进入所述酸槽，所述第二升降部件位于所述清洗工位，用于承载并驱动待清洗的样品进入所述清洗槽；所述样品处理设备被配置为：所述第一支架能够在第一位置与第二位置之间移动，当所述第一支架处于所述第一位置，所述第一移料部件、所述第二移料部件与所述第三移料部件分别位于所述上料工位、所述酸蚀工位与所述清洗工位，用于将待酸蚀的样品从所述上料组件转移至所述第一移料部件，将待清洗的样品从所述第一升降部件转移至所述第二移料部件，以及将已处理的样品从所述第二升降部件转移至所述第三移料部件；当所述第一支架处于所述第二位置，所述第一移料部件、所述第二移料部件与所述第三移料部件分别位于所述酸蚀工位、所述清洗工位与所述下料工位，用于将待酸蚀的样品从所述第一移料部件转移至所述第一升降部件，将待清洗的样品从所述第二移料部件转移至所述第二升降部件，以及将已处理的样品从所述第三移料部件转移至所述下料组件。4.根据权利要求1所述的样品处理设备，其特征在于，所述第一移料组件包括能够沿第二水平方向在第三位置与第四位置之间移动的移料部件，所述第二移料组件包括能够沿竖直方向移动的升降部件；所述样品处理设备被配置为：当所述移料部件位于所述第三位置时，所述升降部件能够承载样品沿竖直方向移动；当所述移料部件位于所述第四位置，且所述升降部件从下向上移动时，能够将承载于所述移料部件的样品转移至所述升降部件；当所述移料部件位于所述第四位置，且所述升降部件从上向下移动时，能够将承载于所述升降部件的样品转移至所述移料部件。
5.根据权利要求1所述的样品处理设备，其特征在于，所述样品处理设备包括以下方案中的至少一种：所述第一移料组件包括第一支架与移料部件，所述移料部件由耐腐蚀材料制成且可拆卸连接于...
【专利技术属性】
技术研发人员：董志云，
申请(专利权)人：深圳赛意法微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：
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